[發(fā)明專利]流體污染預防系統(tǒng)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201280051646.1
• 申請日: 2012-11-14
• 公開（公告）號: CN103889539A
• 公開（公告）日: 2014-06-25
• 發(fā)明（設計）人: 約拉姆·本托爾;拉阿南·本-霍林
• 申請（專利權(quán)）人: 阿米亞德過濾系統(tǒng)公司
• 主分類號: B01D29/11
• 分類號: B01D29/11;B01D29/52;B01D36/00
• 代理公司: 北京安信方達知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11262
• 代理人: 周靖;鄭霞

1.一種流體處理系統(tǒng)，其包括配置有至少一個流體入口和至少一個流體出口的殼體，至少一個流體處理室布置在所述至少一個流體入口和所述至少一個流體出口之間并且與所述至少一個流體入口和所述至少一個流體出口流體連通，且至少一個中間室布置在所述流體處理室及出口中的至少一個與至少一個入口之間；其中所述至少一個中間室通至大氣或者可聯(lián)接到真空源。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體處理系統(tǒng)，其中該裝置使得在每個相應入口處的壓力P_入、以及在所述流體處理室處的壓力Ptc或在所述出口處的壓力P_出比在所述至少一個中間室處的壓力Ps高。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的流體處理系統(tǒng)，其中在所述流體處理室處的壓力Ptc與在所述出口處的壓力P出大體相等。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體處理系統(tǒng)，其中所述液體處理室和所述至少一個出口直接流體連通并且處于大體相同的壓力。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體處理系統(tǒng)，其中，中間室與所述流體處理系統(tǒng)的上游側(cè)和所述流體處理系統(tǒng)的下游側(cè)共通。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體處理系統(tǒng)，其中獨立的中間室與所述流體處理系統(tǒng)的上游側(cè)和所述流體處理系統(tǒng)的下游側(cè)中的每一個關聯(lián)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的流體處理系統(tǒng)，其中所述獨立的中間室是不同的。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體處理系統(tǒng)，其中所述中間室通至大氣。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體處理系統(tǒng)，其中所述中間室暴露于真空。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體處理系統(tǒng)，其中所述中間室配置成聯(lián)接到排水管。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體處理系統(tǒng)，其中所述中間室的出口裝有單向閥。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體處理系統(tǒng)，其中所述流體處理系統(tǒng)配置成處理任何流體。

13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體處理系統(tǒng)，其中所述流體處理系統(tǒng)是液體過濾單元。

14.一種流體過濾系統(tǒng)，其包括配置有至少一個流體入口和至少一個流體出口的殼體，至少一個流體處理室布置在所述至少一個流體入口和所述至少一個流體出口之間并且與所述至少一個流體入口和所述至少一個流體出口流體連通，且至少一個中間室布置在所述流體處理室及所述至少一個流體出口中的至少一個與至少一個入口之間；其中所述至少一個中間室通至大氣或者可聯(lián)接到真空源。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的流體過濾系統(tǒng)，其中該裝置使得在每個相應入口處的壓力P_入、以及在所述流體處理室處的壓力Ptc或在所述出口處的壓力P_出比在所述至少一個中間室處的壓力Ps高。

16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的流體過濾系統(tǒng)，其中所述流體入口延伸到原流體室中，并且其中至少一個過濾模塊在所述原流體室和所述至少一個流體處理室之間延伸。

17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的流體過濾系統(tǒng)，其中所述至少一個流體處理室通過至少兩個隔板壁與所述原流體室分離。

18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的流體過濾系統(tǒng)，其中所述至少兩個隔板壁大體上是互相平行的。

19.根據(jù)權(quán)利要求17所述的流體過濾系統(tǒng)，其中所述至少兩個隔板壁界定在其間的空間，從而界定所述至少一個中間室。

20.根據(jù)權(quán)利要求16所述的流體系統(tǒng)，其中設置有至少三個隔板壁，從而界定在其間的至少兩個中間室。