[發明專利]顯影劑承載構件、其制造方法和顯影裝置

有效

• 申請號: 201280051621.1
• 申請日: 2012-10-31
• 公開（公告）號: CN103890663B
• 公開（公告）日: 2017-11-07
• 發明（設計）人: 伊藤稔;島村正良;明石恭尚;大竹智;松田拓真;若林和仁;野口敦史;森裕紀
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03G15/08
• 分類號: G03G15/08
• 代理公司: 北京魏啟學律師事務所11398
• 代理人: 魏啟學

技術領域

本發明涉及用于利用電子照相法的圖像形成裝置如復印機和打印機的顯影劑承載構件，其制造方法和使用所述顯影劑承載構件的顯影裝置。

背景技術

近年來，為了滿足形成更高圖像質量的電子照相圖像的要求，顯影劑的粒徑正變得更小。粒徑小的此類顯影劑的每單位質量的顆粒表面積變大。因此，顯影劑在顯影步驟中傾向于具有大的表面電荷。同時，為了保持顯影劑的低消耗量，已開始使用球形顆粒顯影劑。與僅僅粉碎的顆粒顯影劑相比，此類顯影劑的顆粒表面已變得平滑，趨于過度靜電帶電，從而趨于導致不穩定的帶電量。結果，它們具有趨于引起不良圖像如套筒重影和濃度不均勻的傾向。

在專利文獻1中，報道了一種方法，其中將鐵配位化合物添加至顯影劑承載構件的表面層以控制顯影劑的帶電量。

在專利文獻2中，公開了一種顯影劑承載構件，其具有含有特定季鏻鹽和特定樹脂的表面層，并報道了一種方法，通過該方法防止已成為球形顆粒的顯影劑和通過聚合法制造的負帶電性顯影劑任何過度帶電如過度充電(charge-up)。

引文列表

專利文獻

專利文獻1：日本專利申請特開H5-346727

專利文獻2：日本專利申請特開2010-055072

發明內容

發明要解決的問題

然而，專利文獻1的目的是通過促進對于顯影劑的摩擦帶電來改進顯影性能。因此，有時出現這種情況：使容易帶電的顯影劑更多地進行過度充電，因而有時不可能抑制顯影劑過度摩擦帶電并由此形成良好的圖像。

對于專利文獻2中公開的顯影劑承載構件，其可以抑制顯影劑進行過度充電，且可以具有更加穩定的電荷賦予性能。然而，特別是大量添加季鏻鹽以抑制容易帶電的顯影劑過度帶電時，表面層的體積電阻率增大，趨向于導致套筒重影。此外，表面層可能會具有低耐磨耗性，因而已經尋求進一步的改進。

此外，近年來，對在其連續使用時保持圖像濃度、抑制套筒重影發生且抑制污跡(blotches)(由向顯影劑的摩擦帶電賦予不良而引起的斑點圖像或波型圖像)發生的電子照相裝置的需求日益增加。在這種情況下，尋求在連續使用過程中對顯影劑承載構件表面的摩擦帶電的控制的進一步改進。

因此，本發明的目的是提供一種顯影劑承載構件，在其表面上通過控制顯影劑的摩擦帶電可使顯影劑穩定，并且即使在使用高摩擦帶電性顯影劑的情況下，所述顯影劑承載構件也可長期保持高圖像質量；并提供此類顯影劑承載構件的制造方法。本發明的另一目的是提供一種有助于長期穩定形成高品質電子照相圖像的顯影裝置。

用于解決問題的方案

根據本發明，提供一種顯影劑承載構件，其是具有基體和表面層的顯影劑承載構件；所述表面層是含有粘結劑樹脂、導電性顆粒、季鏻鹽和偶氮系金屬配位化合物的樹脂組合物的固化產物；

所述粘結劑樹脂在分子結構中具有選自由-NH₂基團、=NH基團和-NH-鍵組成的組的至少一種結構，和所述偶氮系金屬配位化合物是由下式(1)表示的化合物：

式(1)

在式(1)中，X₁、X₂、X₃和X₄各自獨立地表示取代或未取代的亞苯基、取代或未取代的亞萘基、或者取代或未取代的亞吡唑基(pyrazolene)；M表示Fe、Cr或Al；和J⁺表示陽離子。亞苯基、亞萘基和亞吡唑基可各自獨立地具有的取代基是選自由下述基團組成的組中的至少一種：具有1-18個碳原子的烷基、硝基、鹵素原子、可具有取代基的酰替苯胺基和可具有取代基的苯基，其中酰替苯胺基和苯基可各自獨立地具有的取代基是選自由具有1-18個碳原子的烷基和鹵素原子組成的組中的至少一種。

根據本發明，還提供一種顯影裝置，其至少具有負帶電性顯影劑、容納負帶電性顯影劑的顯影劑容器、承載和輸送在其上的負帶電性顯影劑的可被旋轉地保持的顯影劑承載構件、和用于調節形成在所述顯影劑承載構件上的負帶電性顯影劑層的層厚度的顯影劑層厚度調節構件；

所述顯影劑承載構件是上述的顯影劑承載構件。

根據本發明，進一步提供一種具有基體和表面層的顯影劑承載構件的制造方法，其是顯影劑承載構件的制造方法；所述方法包括下述步驟：