[發明專利]用于通過真空蒸發沉積薄膜的裝置的噴射系統

有效

• 申請號: 201280051570.2
• 申請日: 2012-10-18
• 公開（公告）號: CN103906856B
• 公開（公告）日: 2016-11-09
• 發明（設計）人: J-L·居約克斯;J·維萊特;N·布萊恩特;D·埃斯特韋
• 申請（專利權）人: 瑞必爾
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/26;C23C14/22
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 肖威;劉金輝

1.一種用于通過真空蒸發沉積薄層的設備的噴射系統，其中意欲將所述噴射系統置于真空蒸發室中，且所述噴射系統包括：

-用于接納待蒸發材料的容器(4)；

-適于蒸發所述材料的容器加熱裝置；

-至少一個噴射架(1)，其包括與容器(4)連接以接納來自容器(4)的蒸發的所述材料的內導管和多個噴嘴(3)，其中各噴嘴(3)包括至少一個位于所述內導管和所述架外部之間的連通通道以使所述蒸發的材料擴散至所述真空蒸發室中；

其特征在于：

-噴射架(1)包括多個沿縱向(5)彼此機械串聯連接的噴射模塊(2a，2b，2c，2d，2e)，各噴射模塊(2a，2b，2c，2d，2e)包括多個噴嘴(3)，且

-所述噴射架(1)包括用于調節所述噴射模塊(2a，2b，2c，2d，2e)圍繞所述縱向(5)的方向以使所述噴射模塊(2a，2b，2c，2d，2e)的所述噴嘴(5)沿與噴射架(1)的縱向(5)平行的線對準。

2.根據權利要求1的噴射系統，其中所述噴射模塊(2a，2b，2c，2d，2e)呈圓柱體形狀，所述噴射模塊(2a，2b，2c，2d，2e)的噴嘴(3)設置于所述圓柱體的母線上。

3.根據權利要求2的噴射系統，其中所述噴射模塊(2a，2b，2c，2d，2e)具有相同的結構，所述噴射架進一步包括適于將該噴射架末端緊密閉合的閉合模塊(6)。

4.根據權利要求1-3中任一項的噴射系統，其中所述容器由至少一個適于固定在所述噴射架的第一開放端的第一噴射模塊上的第一圓柱狀容器模塊(4)和/或適于固定在所述噴射架的第二開放端的最后噴射模塊上的第二圓柱狀容器模塊。

5.根據權利要求1-4中任一項的噴射系統，其中噴射模塊(2a，2b，2c，2d，2e)的材料為如下材料中的一種：氧化鋁(Al₂O₃)、石墨碳、玻璃化炭黑、涂覆有熱解石墨的碳、純化的碳、涂覆有碳化硅的碳或熱解氮化硼。

6.根據權利要求1-5中任一項的噴射系統，進一步包括設置在兩個相鄰的噴射模塊(2a，2b，2c，2d，2e)之間和/或在容器模塊(4)和第一噴射模塊(2a)之間和/或在最后噴射模塊(2e)和閉合模塊(6)之間的至少一個壓縮密封墊，所述至少一個密封墊適于在壓縮時確保所述噴嘴對準。

7.根據權利要求1-6中任一項的噴射系統，進一步包括與各噴射模塊連接和/或與所述容器模塊連接的獨立加熱裝置(14)，所述加熱裝置(14)包括兩個適于分別包封所述噴射模塊(2a，2b，2c，2d，2e)、所述容器模塊(4)的半圓柱狀半殼。

8.根據權利要求7的噴射系統，其中所述半殼進一步包括圍繞加熱裝置(14)設置的熱保護裝置(15)和圍繞熱保護裝置(15)設置的冷卻裝置(16)。

9.根據權利要求1-8中任一項的噴射系統，進一步包括框架(11)和用于將多個噴射模塊(2a，2b，2c，2d，2e)和/或容器模塊(4)機械固定至所述框架的裝置(13)。

10.根據權利要求9的噴射系統，其中所述框架進一步包括一個或數個直條(11)，所述固定裝置以能沿所述條(11)滑動的方式安裝。

11.根據權利要求1-10中任一項的噴射系統，包括多個噴射架，所述噴射架的縱軸(5)彼此平行地設置以允許均勻共蒸發所述材料。