[發明專利]具有不同光學分組的變跡寬帶局部反射器

有效

• 申請號: 201280051430.5
• 申請日: 2012-10-17
• 公開（公告）號: CN103890620A
• 公開（公告）日: 2014-06-25
• 發明（設計）人: 邁克爾·F·韋伯;蒂莫西·J·內維特;約翰·A·惠特利
• 申請（專利權）人: 3M創新有限公司
• 主分類號: G02B5/30
• 分類號: G02B5/30;G02B5/28;G02B5/08;G02B27/14
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 陳源;崔利梅

1.一種寬帶局部反射器，包括：

第一多層聚合物光學膜，其具有從所述第一多層聚合物光學膜的第一側到第二側的一定總數的光學重復單元，所述第一多層聚合物光學膜具有第一基線光學重復單元厚度分布和第一變跡光學重復單元厚度分布，所述第一變跡光學重復單元厚度分布單調地偏離所述第一基線光學重復單元厚度分布并限定所述第一多層聚合物光學膜的第二側；

中間層，其位于所述多層聚合物光學膜的第二側上；以及

第二多層聚合物光學膜，其具有從所述第二多層聚合物光學膜的第一側到第二側的一定總數的光學重復單元，所述第二多層聚合物光學膜具有第二基線光學重復單元厚度分布和第二變跡光學重復單元厚度分布，所述第二變跡光學重復單元厚度分布單調地偏離所述第二基線光學重復單元厚度分布并限定所述第二多層聚合物光學膜的第一側，并且所述第二多層聚合物光學膜的第一側位于所述中間層上，所述中間層將所述第一多層聚合物光學膜與所述第二多層聚合物光學膜分開。

2.根據權利要求1所述的寬帶局部反射器，其中所述第一變跡光學重復單元厚度分布與所述第二基線光學重復單元厚度分布重疊。

3.根據權利要求2所述的寬帶局部反射器，其中所述第二變跡光學重復單元厚度分布與所述第一基線光學重復單元厚度分布重疊。

4.根據權利要求1所述的寬帶局部反射器，其中所述第一基線光學重復單元厚度分布不與所述第二基線光學重復單元厚度分布重疊。

5.根據權利要求1所述的寬帶局部反射器，其中所述第一基線光學重復單元厚度分布的最厚光學重復單元的厚度值在所述第二基線光學重復單元厚度分布的最薄光學重復單元的10%內。

6.根據權利要求5所述的寬帶局部反射器，其中所述第一基線光學重復單元厚度分布的最厚光學重復單元與所述第一多層聚合物光學膜的第二側相鄰，并且所述第二基線光學重復單元厚度分布的最薄光學重復單元與所述第二多層聚合物光學膜的第一側相鄰。

7.根據權利要求1所述的寬帶局部反射器，其中所述第一變跡光學重復單元厚度分布單調地且以指數方式偏離所述第一基線光學重復單元厚度分布。

8.根據權利要求7所述的寬帶局部反射器，其中所述第二變跡光學重復單元厚度分布單調地且以指數方式偏離所述第二基線光學重復單元厚度分布。

9.一種寬帶局部反射器，包括：

第一多層聚合物光學膜，其具有厚度值從所述第一多層聚合物光學膜的第一側到第二側單調地增加的一定總數的光學重復單元，所述第一多層聚合物光學膜具有第一基線光學重復單元厚度分布和第一變跡光學重復單元厚度分布，所述第一變跡光學重復單元厚度分布單調地偏離所述第一基線光學重復單元厚度分布并限定所述第一多層聚合物光學膜的第二側；

中間層，其位于所述多層聚合物光學膜的第二側上；以及

第二多層聚合物光學膜，其具有厚度值從所述第二多層聚合物光學膜的第一側到第二側單調地增加的一定總數的光學重復單元，所述第二多層聚合物光學膜具有第二基線光學重復單元厚度分布和第二變跡光學重復單元厚度分布，所述第二變跡光學重復單元厚度分布單調地偏離所述第二基線光學重復單元厚度分布并限定所述第二多層聚合物光學膜的第一側，并且所述第二多層聚合物光學膜的第一側位于所述中間層上，并且所述中間層將所述第一多層聚合物光學膜與所述第二多層聚合物光學膜分開。

10.根據權利要求9所述的寬帶局部反射器，其中所述第一變跡光學重復單元厚度分布與所述第二基線光學重復單元厚度分布重疊。

11.根據權利要求10所述的寬帶局部反射器，其中所述第二變跡光學重復單元厚度分布與所述第一基線光學重復單元厚度分布重疊。

12.根據權利要求9所述的寬帶局部反射器，其中所述第一基線光學重復單元厚度分布不與所述第二基線光學重復單元厚度分布重疊。

13.根據權利要求9所述的寬帶局部反射器，其中所述第一基線光學重復單元厚度分布的最厚光學重復單元的厚度值在所述第二基線光學重復單元厚度分布的最薄光學重復單元的5%內。