[發明專利]保護膜和用于制作其的組合物、漿料以及蓄電設備

有效

• 申請號: 201280051427.3
• 申請日: 2012-10-04
• 公開（公告）號: CN103891003B
• 公開（公告）日: 2017-02-15
• 發明（設計）人: 大塚巧治;北口博紀;藤原伸行
• 申請（專利權）人: JSR株式會社
• 主分類號: H01M2/16
• 分類號: H01M2/16;H01G9/02;H01M10/052
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司11227
• 代理人: 左嘉勛,顧晉偉

1.一種蓄電設備，具備正極、負極、保護膜和電解液，所述保護膜配置于所述正極與所述負極之間；

所述保護膜包含聚合物，所述聚合物含有來源于具有氟原子的單體的重復單元和來源于不飽和羧酸的重復單元。

2.根據權利要求1所述的蓄電設備，其中，所述保護膜與所述正極和所述負極的至少一方的表面相接。

3.根據權利要求1所述的蓄電設備，進一步具備配置于所述正極與所述負極的間隔件。

4.根據權利要求3所述的蓄電設備，其中，所述間隔件的表面被所述保護膜被覆。

5.根據權利要求3所述的蓄電設備，其中，所述保護膜在所述正極或所述負極與所述間隔件之間相接地被夾持。

6.一種用于制作權利要求1～5任一項所述的保護膜的組合物，含有聚合物粒子和液態介質，

所述聚合物粒子含有來源于具有氟原子的單體的重復單元和來源于不飽和羧酸的重復單元，且數均粒徑Da為20～450nm。

7.根據權利要求6所述的組合物，其特征在于，所述聚合物粒子相對于該聚合物粒子100質量份含有來源于具有氟原子的單體的重復單元5～50質量份和來源于不飽和羧酸的重復單元1～10質量份。

8.根據權利要求6或7所述的組合物，其特征在于，所述聚合物粒子為含有聚合物A和聚合物B的聚合物合金粒子，所述聚合物A具有來源于選自偏氟乙烯、四氟乙烯和六氟丙烯中的至少1種的重復單元，所述聚合物B具有來源于不飽和羧酸的重復單元。

9.根據權利要求8所述的組合物，其特征在于，對所述聚合物合金粒子，依照JIS?K7121進行差示掃描熱量測定DSC時，僅觀測到1個在－50～＋250℃的溫度范圍的吸熱峰。

10.根據權利要求9所述的組合物，其特征在于，所述吸熱峰在－30～＋30℃的溫度范圍被觀測到。

11.一種用于制作權利要求1～5中任一項所述的保護膜的漿料，含有無機粒子和權利要求6～10中任一項所述的組合物。

12.根據權利要求11所述的漿料，其中，所述無機粒子的數均粒徑為0.1～0.8μm。

13.根據權利要求11或12所述的漿料，其中，相對于所述無機粒子100質量份，含有0.1～15質量份的聚合物粒子，所述聚合物粒子含有來源于具有氟原子的單體的重復單元和來源于不飽和羧酸的重復單元。

14.根據權利要求11～13中任一項所述的漿料，其中，所述無機粒子為選自二氧化硅、氧化鈦、氧化鋁、氧化鋯和氧化鎂中的至少1種的粒子。

15.一種保護膜，是使用權利要求11～14中任一項所述的漿料制成的。