[發明專利]用于處理面狀的材料、尤其用于使薄膜或板光滑的軋制裝置、光滑裝置和用于制造面狀的材料、尤其薄膜或板的方法

有效

• 申請號: 201280051405.7
• 申請日: 2012-10-16
• 公開（公告）號: CN103857510A
• 公開（公告）日: 2014-06-11
• 發明（設計）人: J.弗萊克;A.保盧斯;J.尼克爾;A.魏施特羅費爾
• 申請（專利權）人: 拜耳知識產權有限責任公司
• 主分類號: B29C43/22
• 分類號: B29C43/22;B29C47/88;B29C43/24;B29C59/04
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 陳浩然;胡斌

1.?一種用于處理面狀的材料(F)、尤其用于使薄膜(F*)或板光滑的軋制裝置，其包括第一軋制單元(1)和第二軋制單元(2)，其中，每個軋制單元(1,?2)包括：

-?帶有馬達轉動慣量J_M的至少一個驅動馬達，

-?帶有軋輥轉動慣量J_W的軋輥(10,?20)，以及

-?至少一個傳動裝置，其用于以在至少一個所述驅動馬達與所述軋輥(10,?20)之間的傳動比i_MW將所述軋輥(10,?20)運動學地聯結到至少一個所述驅動馬達處，

其中，所述第二軋制單元(2)的軋輥(20)能夠反向于所述第一軋制單元(1)的軋輥(10)旋轉，并且其中，在所述第一軋制單元(1)的軋輥(10)與所述第二軋制單元(2)的軋輥(20)之間形成第一輥隙(40)，面狀的所述材料(F)被引導通過所述輥隙(40)，

其特征在于，

在第一和第二軋制單元(1,?2)中的至少一個中，在至少一個所述驅動馬達與所述軋輥(10,?20)之間的轉動慣量-轉速比M_MW≤6并且選擇傳動比1＜i_MW≤40，

其中，適用：???????????????????????????????????????????????，其中，

其中n_M：所述驅動馬達的轉速而n_W：所述軋輥(10,?20)的轉速。

2.?根據權利要求1所述的軋制裝置，其特征在于，作為傳動比選擇5＜i_MW≤40、特別地10≤i_MW≤40且特別優選地20≤i_MW≤40。

3.?根據權利要求1或2所述的軋制裝置，其特征在于，在第一和第二軋制單元(1,?2)中在至少一個所述驅動馬達與所述軋輥(10,?20)之間的轉速比M_MW≤6并且選擇傳動比1＜i_MW≤40。

4.?根據權利要求1至3中任一項所述的軋制裝置，其特征在于，第一和第二軋制單元(1,?2)中的至少一個的至少一個驅動馬達被轉速調節。

5.?根據權利要求1至4中任一項所述的軋制裝置，其特征在于，第一和第二軋制單元(1,?2)中的至少一個的至少一個驅動馬達是帶有頻率變換的三相交流電動機。

6.?根據權利要求5所述的軋制裝置，其特征在于，第一和第二軋制單元(1,?2)中的至少一個的至少一個驅動馬達是同步馬達。

7.?根據權利要求6所述的軋制裝置，其特征在于，所述同步馬達構造成四極、尤其10極。

8.?根據權利要求5至7中任一項所述的軋制裝置，其特征在于，第一和第二軋制單元(1,?2)中的至少一個的至少一個驅動馬達包括用于平衡定位力矩的補償單元。

9.?根據權利要求1至8中任一項所述的軋制裝置，其特征在于，第一和第二軋制單元(1,?2)中的至少一個的至少一個驅動馬達和/或第一和第二軋制單元(1,?2)中的至少一個的軋輥通過剛性的聯結器聯結到至少一個所述傳動裝置處。

10.?根據權利要求1至9中任一項所述的軋制裝置，其特征在于，第一和第二軋制單元(1,?2)中的至少一個的至少一個傳動裝置構造為行星傳動裝置、尤其為非無隙的行星傳動裝置。

11.?根據權利要求1至10中任一項所述的軋制裝置，其特征在于，所述軋制裝置包括用于控制所述第一軋制單元(1)的至少一個驅動馬達和所述第二軋制單元(2)的至少一個驅動馬達的控制單元，其中，所述控制單元構造成使得所述第一軋制單元(1)的軋輥(10)和所述第二軋制單元(2)的軋輥(20)的力矩和/或圓周速度分別被調節成使得軋輥(10,?20)分別借助于被引導通過所述輥隙(40)的面狀的所述材料(F)聯結到相應另一軋輥(20,?10)處。

12.?根據權利要求1至11中任一項所述的軋制裝置，其特征在于，所述軋制裝置包括第三軋制單元(3)，其中，在所述第一軋制單元(1)的軋輥(10)與所述第三軋制單元(3)的軋輥(30)之間形成第二輥隙(50)，面狀的所述材料(F)在離開所述第一輥隙(40)之后被繼續引導通過所述第二輥隙(50)。