[發(fā)明專利]能夠植入的、具有絕緣層的裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201280051373.0 | 申請(qǐng)日: | 2012-10-16 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104039389A | 公開(公告)日: | 2014-09-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | J.格林;S.哈賴因;A.賴辛格;G.帕夫洛維克 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 賀利氏貴金屬有限責(zé)任兩合公司 |
| 主分類號(hào): | A61N1/375 | 分類號(hào): | A61N1/375;B05D5/12;B05D1/02;B05D1/18;B05D3/10;B05D7/14;A61L31/08;A61L31/14 |
| 代理公司: | 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 汲長(zhǎng)志;胡斌 |
| 地址: | 德國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 德國(guó);DE |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 能夠 植入 具有 絕緣 裝置 | ||
1.?裝置(100),其包括:
-?殼體(110),所述殼體具有內(nèi)表面(160)和外表面(170);
-?電子單元(130、140、180);
其中所述殼體(110)至少部分地包圍所述電子單元(130、140、180);
其中所述殼體(110)的內(nèi)表面(160)的至少一部分具有一包含至少30個(gè)重量百分點(diǎn)的聚合物的、電絕緣的、設(shè)有朝向所述內(nèi)表面(160)的涂層表面(150)的涂層(120);
其中所述內(nèi)表面(160)和所述涂層表面(150)相互連接。
2.?按權(quán)利要求1所述的裝置(100),其特征在于,所述電子單元包括電容器(130)。
3.?按權(quán)利要求2所述的裝置(100),其中所述電容器(130)具有處于從50到1000μF的范圍中的電容。
4.?按前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置(100),其中所述殼體(110)相對(duì)于所述殼體包含至少30個(gè)重量百分點(diǎn)的鈦。
5.?按前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置(100),其中所述聚合物從由以下物質(zhì)構(gòu)成的組中選出:丙烯酸鹽、醇酸樹脂、聚酯亞胺、聚酰胺亞胺以及硅酮或者其中至少兩種材料的組合。
6.?按前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置(100),其中所述涂層(120)具有處于從1到100μm的范圍中的厚度。
7.?按前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置(100),其中所述絕緣的涂層(120)具有處于從1到30cm2的范圍中的面積。
8.?按前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置(100),其中穿過所述絕緣的涂層的擊穿電壓為2kV以及更高。
9.?用于制造裝置(100)的方法,所述方法包括以下步驟:
a.?提供具有一內(nèi)表面(160)和一外表面(170)的殼體(110);
b.?將一由液相(218)構(gòu)成的、包含至少30個(gè)重量百分點(diǎn)的聚合物的、電絕緣的涂層(120)涂敷到所述內(nèi)表面(160)的至少一部分上;
c.?將電子單元(130、140、180)安裝到所述殼體中,其中所述殼體(110)至少部分地包圍所述電子單元(130、140、180)。
10.?按前一項(xiàng)權(quán)利要求所述的方法,其中所述電絕緣的涂層(120)的涂敷通過一種從以下過程構(gòu)成的組中選出的過程來進(jìn)行:沉淀或者浸漬或者二者的組合。
11.?按權(quán)利要求9或10所述的方法,其中所述液相(218)的涂敷通過一設(shè)置在所述內(nèi)表面(160)上面的涂敷開口(226)來進(jìn)行,其中將所述液相(218)以液滴的形式涂敷到所述表面上。
12.?按權(quán)利要求9或10所述的方法,其中所述液相(218)的涂敷通過一設(shè)置在所述內(nèi)表面(160)上面的涂敷開口(226)來進(jìn)行,其中所述涂敷開口(226)和所述表面(160)通過所述液相(218)相互連接。
13.?按權(quán)利要求9到12中任一項(xiàng)所述的方法,其中所述聚合物從由以下物質(zhì)構(gòu)成的組中選出:丙烯酸鹽、醇酸樹脂、聚酯亞胺、聚酰胺亞胺以及硅酮或者至少其中兩種材料的組合。
14.?按權(quán)利要求9到13中任一項(xiàng)所述的方法,其中所述電絕緣的涂層(120)通過輻射或者對(duì)流形成或者通過二者共同形成。
15.?按權(quán)利要求9到14中任一項(xiàng)所述的方法,其中在涂敷所述涂層(120)之前,所述殼體(110)的內(nèi)表面(160)的至少一部分經(jīng)受一種化學(xué)的清洗過程。
16.?按權(quán)利要求15所述的方法,其中所述化學(xué)的清洗過程從由以下過程構(gòu)成的組中選出:熱堿性的清洗、用有機(jī)的溶劑進(jìn)行的沖洗以及腐蝕或者其中至少兩種過程的組合。
17.?按權(quán)利要求9到16中任一項(xiàng)所述的方法,其中在涂敷所述涂層(120)之前,所述殼體(110)的內(nèi)表面的至少一部分經(jīng)受一種機(jī)械的清洗過程。
18.?按權(quán)利要求17所述的方法,其中所述機(jī)械的清洗過程從由以下過程構(gòu)成的組中選出:等離子清洗、噴砂處理和玻璃珠清洗或者其中至少兩種過程的組合。
19.?根據(jù)按權(quán)利要求9到18中任一項(xiàng)所述的方法得到的裝置(100)。
20.?用于植入按權(quán)利要求1到8或者19中任一項(xiàng)所述的裝置(100)的方法,所述方法包括以下步驟:
-?提供所述裝置;
-?打開組織;
-?將所述裝置放入到所打開的組織中;
-?必要時(shí)閉合所述組織。
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