[發明專利]局部鍍敷裝置及局部鍍敷方法

有效

• 申請號: 201280051340.6
• 申請日: 2012-10-18
• 公開（公告）號: CN103890239B
• 公開（公告）日: 2016-10-19
• 發明（設計）人: 荒井健太郎;宮澤寬
• 申請（專利權）人: 同和金屬技術有限公司
• 主分類號: C25D5/02
• 分類號: C25D5/02
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

1.一種局部鍍敷裝置，其中，

該局部鍍敷裝置包括：

鼓夾具，其在外周部配置有多個定位銷，金屬構件卡合于上述定位銷而沿著上述外周部被輸送；

旋轉軸，其將該鼓夾具支承成能夠旋轉；

噴流部，其用于向上述金屬構件供給鍍敷液；以及

制動單元，其安裝在上述旋轉軸上，用于使上述鼓夾具的圓周速度減速。

2.根據權利要求1所述的局部鍍敷裝置，其特征在于，

上述制動單元對上述旋轉軸付與載荷，使得上述圓周速度相對于上述金屬構件的移動速度減速。

3.根據權利要求1或2所述的局部鍍敷裝置，其特征在于，

上述載荷是比相抵接的金屬構件和鼓夾具向相反的方向移動的力大且使上述金屬構件產生變形的力以下的載荷。

4.根據權利要求1～3中任一項所述的局部鍍敷裝置，其特征在于，

上述制動單元利用空氣壓力對上述旋轉軸付與載荷。

5.根據權利要求1～4中任一項所述的局部鍍敷裝置，其特征在于，

上述定位銷的間距小于供該定位銷卡合且在上述金屬構件中設有多個的引導孔的間距。

6.根據權利要求1～5中任一項所述的局部鍍敷裝置，其特征在于，

上述鼓夾具的上述外周部的一部分是與上述金屬構件接觸的接觸區域，在該接觸區域的距上述金屬構件的進入側端部規定距離的第1區域的范圍內不對上述金屬構件實施鍍敷，在從該第1區域的端部到上述金屬構件的排出側端部的第2區域的范圍內對上述金屬構件實施鍍敷。

7.根據權利要求6所述的局部鍍敷裝置，其特征在于，

上述第1區域是沿著上述鼓夾具的外周形成第1圓弧的區域，上述第2區域是沿著上述鼓夾具的外周形成第2圓弧的區域，上述第1圓弧的長度小于上述第2圓弧的長度。

8.根據權利要求6或7所述的局部鍍敷裝置，其特征在于，

上述第1區域是上述金屬構件朝向上述鼓夾具方向的力為上述定位銷和上述引導孔之間的摩擦力以下的區域。

9.根據權利要求6～8中任一項所述的局部鍍敷裝置，其特征在于，

上述第1區域是整個上述接觸區域的4分之1至3分之1的區域。

10.根據權利要求6～9中任一項所述的局部鍍敷裝置，其特征在于，

僅在上述第2區域中設置對電極。

11.根據權利要求6～10中任一項所述的局部鍍敷裝置，其特征在于，

上述噴流部僅向上述第2區域噴出上述鍍敷液。

12.一種局部鍍敷方法，其是對沿著局部鍍敷裝置的鼓夾具的外周部輸送的金屬構件實施局部鍍敷的方法，其特征在于，

上述外周部的一部分是與上述金屬構件接觸的接觸區域，在該接觸區域的距上述金屬構件的進入側端部規定距離的第1區域的范圍內，不對上述金屬構件實施鍍敷，在從該第1區域的端部到上述金屬構件的排出側端部的第2區域的范圍內對上述金屬構件實施鍍敷。

13.根據權利要求12所述的局部鍍敷方法，其特征在于，

上述第1區域是沿著上述鼓夾具的外周形成第1圓弧的區域，上述第2區域分別是沿著上述鼓夾具的外周形成第2圓弧的區域，上述第1圓弧的長度小于上述第2圓弧的長度。

14.根據權利要求12或13所述的局部鍍敷方法，其特征在于，

上述第1區域是上述金屬構件朝向上述鼓夾具方向的力為上述定位銷和上述引導孔之間的摩擦力以下的區域。

15.根據權利要求12～14中任一項所述的局部鍍敷方法，其特征在于，

上述第1區域是整個上述接觸區域的4分之1至3分之1的區域。