[發明專利]具有用于在空間環境中進行保護的紋理化部分的密封件

有效

• 申請號: 201280051069.6
• 申請日: 2012-10-19
• 公開（公告）號: CN103890465A
• 公開（公告）日: 2014-06-25
• 發明（設計）人: C·丹尼爾斯;N·加拉夫羅
• 申請（專利權）人: 阿克倫大學
• 主分類號: F16J15/02
• 分類號: F16J15/02
• 代理公司: 北京潤平知識產權代理有限公司 11283
• 代理人: 李翔;黃志興

1.一種用于空間環境的密封結構，其包括：

密封支承物體；

密封件，其在所述密封支承物體上，所述密封件包括：

密封件本體，其具有密封面，

紋理化圖案，其在所述密封面處，所述紋理化圖案限定至少一個被遮蔽的槽面；以及

密封接合物體，其通過所述密封件選擇性地與所述密封支承物體相接合，所述密封接合物體具有密封面，其中，當所述密封接合物體選擇性地與所述密封支承物體相接合時，所述密封接合物體的所述密封面接合所述密封件的所述密封面，且在所述密封支承物體和所述密封接合物體之間壓縮所述密封件，從而使至少一個被遮蔽的槽面接合所述密封接合物體的所述密封面。

2.根據權利要求1所述的密封結構，其中所述紋理化圖案被成形使得在空間環境中繞軌道而行時且所述密封接合物體不與所述密封支承物體選擇性地相接合時，所述至少一個被遮蔽的槽面相比所述密封面暴露于所述空間環境更少地暴露于所述空間環境。

3.根據權利要求1所述的密封結構，其中所述紋理化圖案包括多個槽，所述多個槽形成于所述密封件本體中并在所述密封面處開口。

4.根據權利要求3所述密封結構，其中所述槽中的每一個包括底面和從所述底面向上延伸的相對的壁面，所述底面和所述相對的壁面充當所述至少一個被遮蔽的槽面。

5.根據權利要求3所述的密封結構，其中所述密封接合物體接合所述槽的所述底面。

6.根據權利要求3所述的密封結構，其中所述槽的所述底面是按選自平的、凹的、凸的、傾斜的和其組合所組成的組的方式而成形的。

7.根據權利要求1所述的密封結構，其中所述紋理化圖案包括從所述密封件的所述密封面延伸的多個突出物。

8.根據權利要求7所述的密封結構，其中所述突出物包括底面和從所述底面向下延伸并限定至少一個被遮蔽的密封面部分的相對的側壁面。

9.一種暴露于空間環境的密封件，從而使所述密封件暴露于輻射的變化入射角和/或反應性元素，所述密封件包括：

a.密封件本體，其具有密封面，以及

b.紋理化圖案，其在所述密封面處，所述紋理化圖案限定至少一個被遮蔽的槽面。

10.根據權利要求9所述的密封件，其中當在空間環境中時，所述至少一個被遮蔽的槽面相比所述密封面暴露于所述空間環境更少地暴露于所述空間環境。

11.根據權利要求9所述的密封件，其中所述紋理化圖案包括多個槽，所述多個槽形成于所述密封件本體中并在所述密封面處開口。

12.根據權利要求11所述的密封件，其中所述槽中的每一個包括底面和從所述底面向上延伸的相對的壁面。

13.根據權利要求9所述的密封件，其中接合物體的密封接合面與所述至少一個被遮蔽的槽面在所述至少一個被遮蔽的槽面的所述底面處相接合。

14.根據權利要求9所述的密封件，其中在所述密封面處的所述紋理化圖案選自方底、凹底、凸底、傾斜底或其組合所組成的組。

15.根據權利要求9所述的密封件，其中所述紋理化圖案包括從所述密封件的所述密封面延伸的多個突出物。

16.根據權利要求15所述的密封件，其中所述突出物中的每一個包括底面和從所述底面向下延伸的相對的壁面。