[發明專利]關于材料的非侵入性鑒別的方法和設備

有效

• 申請號: 201280050794.1
• 申請日: 2012-10-22
• 公開（公告）號: CN103874463B
• 公開（公告）日: 2017-09-29
• 發明（設計）人: K·M·霍爾特
• 申請（專利權）人: 萬睿視影像有限公司
• 主分類號: A61B6/00
• 分類號: A61B6/00
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所11256
• 代理人: 王茂華

1.一種設備，包括：

非侵入性成像設備，具有至少一個非侵入性成像模態，所述至少一個非侵入性成像模態具有至少一個光譜波道；

存儲器，所述存儲器已經在其中存儲：

-用于不同材料的多個模型；

-可行性標準；

控制電路，可操作地耦合到所述非侵入性成像設備和所述存儲器，并且被配置為通過以下方式處理由所述非侵入性成像設備提供的物體的成像信息，以利于鑒別構成所述物體的材料：

-使用所述多個模型來鑒別用于所述成像信息的部分的候選材料；

-使用所述可行性標準，通過避開至少一種不可能的材料或材料組合來減少所述候選材料，以便產生材料鑒別信息；

其中所述可行性標準至少部分地包括與物理上不可能的材料有關的限制條件；

其中所述控制電路被進一步配置為：

通過從第二材料描述符減去第一材料描述符以恢復隱藏在由所述第一材料組成的物體后方的物體的材料描述符，來實現虛擬層去除。

2.根據權利要求1所述的設備，其中所述非侵入性成像設備包括多光譜設備，所述多光譜設備使用不同的光譜波道來產生所述物體的重疊部分的多個圖像。

3.根據權利要求1所述的設備，其中所述多個模型包括多個材料成像模型，所述多個材料成像模型各自提供所述成像信息針對特定模態和特定光譜波道應呈現的多種不同材料的預測結果。

4.根據權利要求3所述的設備，其中所述材料通過各自對應于不同基函數的多個值來描述。

5.根據權利要求4所述的設備，其中所述多個值包括四個值，每個值用于四個不同基函數中的每個基函數。

6.根據權利要求4所述的設備，其中所述不同基函數中的至少一個基函數對應于假想的材料。

7.根據權利要求4所述的設備，其中所述不同基函數中的至少一個基函數將適應正系數和負系數兩者。

8.根據權利要求1所述的設備，其中所述可行性標準至少部分地包括與在至少一種其它特定材料不存在的情況下不可能存在的材料有關的限制條件。

9.根據權利要求1所述的設備，其中所述材料鑒別信息的所述部分包括所述材料鑒別信息的像素。

10.根據權利要求1所述的設備，其中所述可行性標準至少部分地包括將所述材料鑒別信息的多個部分限制成彼此相似。

11.根據權利要求10所述的設備，其中所述成像信息的其它部分至少包括所述材料鑒別信息的彼此相鄰的部分。

12.根據權利要求10所述的設備，其中將所述材料鑒別信息的多個部分限制成彼此相似包括使用與矢量值、矢量幅度和矢量方向中的至少一項有關的相似性限制條件。

13.根據權利要求1所述的設備，其中所述控制電路被進一步配置為：

通過經由成像模型饋入真實或虛擬模態和真實或虛擬光帶的所述材料鑒別信息，來形成所述真實或虛擬模態的所述真實或虛擬光帶的虛擬圖像。

14.一種方法，包括：

在控制電路處：

使用用于不同材料的多個模型來鑒別用于由非侵入性成像設備提供的成像信息的部分的候選材料；

使用可行性標準，通過避開至少一種不可能的材料或材料組合來減少所述候選材料，以便產生材料鑒別信息；

其中所述可行性標準至少部分地包括與物理上不可能的材料有關的限制條件；

其中所述控制電路被進一步配置為：

通過從第二材料描述符減去第一材料描述符以恢復隱藏在由所述第一材料組成的物體后方的物體的材料描述符，來實現虛擬層去除。

15.根據權利要求14所述的方法，其中所述多個模型包括多個材料成像模型，所述多個材料成像模型各自提供所述成像信息針對特定模態和特定光譜波道應呈現的多種不同材料的預測結果。

16.根據權利要求15所述的方法，其中所述材料通過各自對應于不同基函數的多個值來描述。

17.根據權利要求16所述的方法，其中所述多個值由四個值組成，每個值用于四個不同基函數中的每個基函數。

18.根據權利要求16所述的方法，其中所述不同基函數中的至少一個基函數對應于假想的材料。