[發(fā)明專利]基于氧化鋯的陶瓷雙層

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201280050468.0
• 申請(qǐng)日: 2012-08-07
• 公開（公告）號(hào): CN103874784A
• 公開（公告）日: 2014-06-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 維爾納·施塔姆
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 西門子公司
• 主分類號(hào): C23C28/04
• 分類號(hào): C23C28/04;C23C28/00
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 丁永凡;高少蔚

1.一種層系統(tǒng)（1），

所述層系統(tǒng)至少具有：

基底（4），

分別基于氧化鋯的至少雙層的陶瓷層（10，13，15），所述陶瓷層具有層（10，13）的不同的特性，

特別是僅雙層的陶瓷層（10，13），

可選地具有在基底（4）和陶瓷層（10，13，15）之間的金屬的增附層（7）。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的層系統(tǒng)，

其中外部的、特別是最外部的所述陶瓷層（13）具有完全穩(wěn)定的氧化鋯。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的層系統(tǒng)，

其中下部的、特別是最下部的陶瓷層（10）具有部分穩(wěn)定的氧化鋯。

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中一項(xiàng)或多項(xiàng)所述的層系統(tǒng)，

所述層系統(tǒng)至少使用氧化釔作為氧化鋯的穩(wěn)定劑，

特別是僅使用氧化釔。

5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中一項(xiàng)或多項(xiàng)所述的層系統(tǒng)，

其中所述金屬的增附層（7）具有MCrAlX合金，

X是可選擇的，

特別是元素釔（Y）或者錸（Re）中的至少一種。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中一項(xiàng)或多項(xiàng)所述的層系統(tǒng)，

對(duì)于所述陶瓷層（10，13，15）而言其孔隙度為至少16%，

特別是在16%和24%之間。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中一項(xiàng)或多項(xiàng)所述的層系統(tǒng)，

其中所述陶瓷層（10，13）的所述孔隙度是相同的。

8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中一項(xiàng)或多項(xiàng)所述的層系統(tǒng)，

其中上部的所述陶瓷層（13）比下部的所述陶瓷層（10）厚至少20%，特別是30%。

9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中一項(xiàng)或多項(xiàng)所述的層系統(tǒng)，

其中下部的所述氧化鋯層（10）的氧化釔份額在4重量%和12重量%之間。

10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中一項(xiàng)或多項(xiàng)所述的層系統(tǒng)，

其中上部的所述氧化鋯層（13）的氧化釔份額在20重量%和50重量%之間，

特別是在30重量%和40重量%之間。

11.根據(jù)權(quán)利要求1至10中一項(xiàng)或多項(xiàng)所述的層系統(tǒng)，

其中陶瓷僅具有氧化鋯和一種或多種穩(wěn)定劑。