[發明專利]具有局部背接觸的太陽能電池的制造方法有效
| 申請號: | 201280049697.0 | 申請日: | 2012-10-05 |
| 公開(公告)號: | CN104247033A | 公開(公告)日: | 2014-12-24 |
| 發明(設計)人: | P.嘉弗倫諾;J.達思;A.尤魯納德卡斯特羅 | 申請(專利權)人: | IMEC公司;道達爾銷售服務公司;勒芬天主教大學K.U.勒芬R&D |
| 主分類號: | H01L31/0216 | 分類號: | H01L31/0216;H01L31/0224;H01L31/18;H01L31/061;H01L21/268 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 焦玉恒 |
| 地址: | 比利*** | 國省代碼: | 比利時;BE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 局部 接觸 太陽能電池 制造 方法 | ||
1.具有局部背接觸的太陽能電池(1)的制造方法,該太陽能電池包括至少兩層的電介質疊層(10),該至少兩層的電介質疊層(10)至少包括與p型硅層(3)接觸的AlOx的第一電介質層(11)和沉積在第一電介質層(11)上的第二電介質層(13),其特征在于,該方法包括在該電介質疊層(10)中形成至少一個局部開口(15)的步驟,在該局部開口的位置至少部分保留所述第一電介質層(11)。
2.根據權利要求1所述的制造方法,其中在該電介質疊層(10)中形成至少一個局部開口(15)的步驟包括激光燒蝕步驟。
3.根據權利要求2所述的制造方法,其中該燒蝕步驟采用脈沖持續時間小于幾個納秒的脈沖激光執行。
4.根據權利要求1至3中任何一項所述的制造方法,其中該第一電介質層(11)顯示允許場效應鈍化的負電荷。
5.根據權利要求1至4中任何一項所述的制造方法,其中該第一電介質層(11)在燒蝕后具有至少幾個單層的厚度。
6.根據權利要求1至5中任何一項所述的制造方法,其中該AlOx的第一電介質層(11)在燒蝕后具有1nm至30nm之間的厚度。
7.根據權利要求1至6中任何一項所述的制造方法,其中該第二電介質層(13)由SiNx制成。
8.根據權利要求2至7中任何一項所述的制造方法,其中該燒蝕步驟采用在UV區域中輻射的、更具體地在355nm周圍輻射的激光執行。
9.根據權利要求1至8中任何一項所述的制造方法,其中在該燒蝕步驟后進行在光伏電池的背面(19)上施加金屬化層(17)的步驟。
10.根據權利要求9所述的制造方法,其中該施加金屬化層(17)由基于Al的金屬化方法執行。
11.根據權利要求1至9中任何一項所述的制造方法,其中在該施加金屬化層(17)之后,通過在溫度T>740℃的爐中燒制而在保留至少一個局部開口(15)的區域上執行背表面場(BSF)的形成。
12.根據權利要求1至9中任何一項所述的制造方法,其中在該施加金屬化層(17)之后,進行退火步驟以在該背側區域(19)上形成金屬接觸,例如在400℃。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于IMEC公司;道達爾銷售服務公司;勒芬天主教大學K.U.勒芬R&D,未經IMEC公司;道達爾銷售服務公司;勒芬天主教大學K.U.勒芬R&D許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





