[發(fā)明專利]用于在低表面能基底上制造浮雕圖案的環(huán)氧制劑和方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201280049485.2 | 申請日： | 2012-09-05 |
| 公開（公告）號： | CN103874731A | 公開（公告）日： | 2014-06-18 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 丹尼爾·J·納夫羅茨基;杰里米·V·戈?duì)柕?/a>;威廉·D·韋伯 | 申請（專利權(quán)）人： | 微量化學(xué)公司 |
| 主分類號： | C08L63/00 | 分類號： | C08L63/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人： | 顧晉偉;董文國 |
| 地址： | 美國馬*** | 國省代碼： | 美國;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 表面 基底 制造 浮雕 圖案 制劑 方法 | ||
1.一種用于在低表面能聚合物基底上制備負(fù)性色調(diào)永久性光致抗蝕劑浮雕圖案的永久性環(huán)氧光致抗蝕劑組合物，其包含：
（A）一種或更多種環(huán)氧樹脂；
（B）一種或更多種陽離子光引發(fā)劑；
（C）一種或更多種鑄膜溶劑；和
（D）一種或更多種含氟化合物。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的組合物，其還包含一種或更多種的以下添加材料：
（E）一種或更多種表面活性劑；
（F）一種或更多種任選的環(huán)氧樹脂；
（G）一種或更多種反應(yīng)性單體；
（H）一種或更多種光敏劑；
（I）一種或更多種助粘劑；以及
（J）一種或更多種包含染料和顏料的光吸收化合物。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的組合物，其中所述環(huán)氧樹脂（A）包括一種或更多種根據(jù)式I至式VI的環(huán)氧樹脂：
其中式I中的每個(gè)基團(tuán)R獨(dú)立地選自縮水甘油基或氫，并且式I中的k為0至約30的實(shí)數(shù)；
其中式II中的每個(gè)R1、R2和R3獨(dú)立地選自氫或具有1至4個(gè)碳原子的烷基，并且式II中p的值為1至約30的實(shí)數(shù)；
其中式III中的每個(gè)R4和R5獨(dú)立地選自氫、具有1至4個(gè)碳原子的烷基、或三氟甲基，并且式III中n和m的值獨(dú)立地為1至約30的實(shí)數(shù)；
其中式IV中的x為1至約30的實(shí)數(shù)；
其中式V中的R1表示具有z個(gè)活性氫原子的有機(jī)化合物的殘基，n1至nz各自表示0或1至100的整數(shù)，n1至nz所表示整數(shù)的總和為1至100，z表示1至100的整數(shù)并且E分別表示基團(tuán)E1或E2；以及
其中式VI中的每個(gè)基團(tuán)R獨(dú)立地選自縮水甘油基或氫，并且式VI中的x為0至約30的實(shí)數(shù)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的組合物，其還包含一種或更多種附加材料，包括但不限于熱產(chǎn)酸化合物、流動控制劑、熱塑性和熱固性的有機(jī)或有機(jī)金屬聚合物和樹脂、無機(jī)填充材料以及自由基光引發(fā)劑。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的組合物，其中所述環(huán)氧樹脂（A）中的一種或更多種是雙酚A酚醛環(huán)氧樹脂。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的組合物，其中溶劑組分（C）是選自乙酸甲酯、乙酸乙酯、丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮和碳酸二甲酯的溶劑之一或其混合物。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的組合物，其中所述含氟化合物（D）是一種或更多種選自包含以下的化合物：2,3-二氫全氟戊烷、Novec7200和Novec7300。
8.一種在低表面能聚合物基底上形成永久性光致抗蝕劑浮雕圖案的方法，其包括以下步驟：（1）通過將低表面能聚合物溶液涂覆在基底上在所述基底上設(shè)置低表面能聚合物層；（2）在所述低表面能聚合物基底上形成根據(jù)本發(fā)明的光致抗蝕劑組合物中的任意一種的層；（3）通過加熱所涂覆基底使大部分所述溶劑從所述光致抗蝕劑層中蒸發(fā)以在所述基底上形成所述光致抗蝕劑組合物的膜；（4）經(jīng)由掩模用活性射線照射所述光致抗蝕劑膜；（5）通過加熱使所照射的光致抗蝕劑膜交聯(lián)；（6）用溶劑使所述掩模圖像在所述光致抗蝕劑膜中顯影以在所述光致抗蝕劑膜中形成所述掩模的負(fù)性色調(diào)浮雕圖像；以及（7）加熱處理所述光致抗蝕劑浮雕結(jié)構(gòu)以進(jìn)一步固化所述光致抗蝕劑和低表面能聚合物層。
9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中使用狹縫涂覆法將根據(jù)本發(fā)明的組合物的層施用于基底。
10.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中使用壓電式噴墨印刷裝置將根據(jù)本發(fā)明的組合物的圖案化層施用于基底。
11.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中將根據(jù)本發(fā)明的組合物的層施用于低表面能基底。
12.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中所述活性射線由波長為約200納米至約450納米的紫外線組成。
13.一種通過根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法制備的永久性光致抗蝕劑浮雕圖案，其用于顯示裝置。
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