[發明專利]帶低反射膜的物品的制造方法

無效

• 申請號: 201280048487.X
• 申請日: 2012-10-03
• 公開（公告）號: CN103842098A
• 公開（公告）日: 2014-06-04
• 發明（設計）人: 大谷義美;本谷敏
• 申請（專利權）人: 旭硝子株式會社
• 主分類號: B05D5/06
• 分類號: B05D5/06;B05D1/28;C03C17/25;C09D7/12;C09D201/00
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 馮雅

技術領域

本發明涉及在基材上具有低反射膜的物品的制造方法。

背景技術

為了減少外來光的反射或提高光透射率而具有防反射功能的物品已被實用化。作為賦予防反射功能的方法，公知的有利用濕涂法(旋涂法、噴涂法、輥涂法等)在基材上形成低反射膜的方法。

旋涂法是通過在基材上滴加低反射膜形成用涂料組合物，使基材旋轉，利用離心力在基材上涂布低反射膜形成用涂料組合物的方法。

噴涂法是通過向沿規定方向搬運的基材上自噴頭噴射低反射膜形成用涂料組合物，從而在基材上涂布低反射膜形成用涂料組合物的方法。

輥涂法是通過將涂布輥的表面的低反射膜形成用涂料組合物轉移至沿規定方向搬運的基材上，從而在基材上涂布低反射膜形成用涂料組合物的方法。

但是，旋涂法存在下述問題。

·基材增大時，難以使基材旋轉。

·低反射膜在基材的周緣容易變厚，低反射膜的膜厚的均勻性差。

·由于通過離心力將多余的低反射膜形成用涂料組合物自基材甩飛，所以所需的低反射膜形成用涂料組合物的量增多。

此外，噴涂法存在下述問題。

·由于需要使噴頭沿基材的寬度方向往復，所以為了在寬度較寬的基材上均勻地形成低反射膜，需要沿基材的搬運方向配置多個噴頭，或需要減慢基材的搬運速度。

·由于未附著在基材上而飛散至空中的低反射膜形成用涂料組合物多，所以所需的低反射膜形成用涂料組合物的量增多。

作為能應對寬度較寬的基材、可使基材的搬運速度較快、所需的低反射膜形成用涂料組合物的量較少的濕涂法，可例舉輥涂法。

但是，輥涂法存在下述問題。

·基材和涂布輥的間隙的調整困難，低反射膜的膜厚的均勻性差。

·低反射膜形成用涂料組合物的粘度低的情況下，難以形成具有能光學設計的任意膜厚的低反射膜。即、膜厚控制性差。

·為了形成具有能光學設計的任意膜厚的低反射膜，如果增大低反射膜形成用涂料組合物的粘度、或進行重復涂布，則干燥或燒成時間和涂布時間變長。

作為能形成具有均勻膜厚的金屬氧化物膜的輥涂法，提出了下述的方法。

在沿規定方向搬運的基材上，通過逆轉輥涂布機的涂布輥涂布包含金屬化合物和有機溶劑的的涂料組合物，進行燒成，從而形成金屬酸化物膜的方法，其中，所述涂料組合物的金屬化合物的濃度(氧化物換算)為0.1～10質量％，所述涂料組合物的粘度為0.1～100mPa·s，涂布輥的轉速為2～55m/分鐘，基材的搬運速度為1～30m/分鐘，涂布輥的轉速比基材的搬運速度快的方法(參照專利文獻1)。

但是，如果使用該方法，在降低涂料組合物的粘度時，難以形成具有能光學設計的任意膜厚的低反射膜，即、存在膜厚控制性差的問題。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本專利特開平07-068219號公報

發明內容

發明所要解決的技術問題

本發明提供一種能應對寬度較寬的基材、能使基材的搬運速度較快、所需的涂料組合物的量較少、干燥或燒成時間和涂布時間較短、能形成具有均勻膜厚的低反射膜、且容易形成具有能光學設計的任意膜厚的低反射膜(即、膜厚控制性優異)的帶低反射膜的物品的制造方法。

解決技術問題所采用的技術方案

本發明的帶低反射膜的物品的制造方法是在基材上具有低反射膜的物品的制造方法，其特征是，該方法包括在沿規定方向搬運的上述基材上，通過逆轉輥涂布機的涂布輥涂布涂料組合物來形成上述低反射膜的工序；作為上述涂料組合物，使用包含分散介質(a)、分散于上述分散介質(a)中的微粒(b)和溶解或分散于上述分散介質(a)中的粘合劑(c)、且粘度為1.0～10.0mPa·s的涂布液；并且在上述工序中，將在基材上涂布上述涂料組合物時的上述涂布輥的轉速(即、圓周速度。本發明中“轉速”表示圓周速度)設定為比上述基材的搬運速度慢。

上述涂料組合物較好是還包含溶解或分散于上述分散介質(a)中的萜烯衍生物(d)。

上述萜烯衍生物(d)的量相對于上述涂料組合物的固體成分1質量份較好是0.01～2質量份。

上述涂料組合物的固體成分濃度較好是1～9質量％。

上述微粒(b)和上述粘合劑(c)的質量比(微粒(b)/粘合劑(c))較好是10/90～95/5。

上述基材的搬運速度較好是3～20m/分鐘。

上述涂布輥的轉速較好是上述基材的搬運速度的0.28倍以上且0.98倍以下。