[發(fā)明專利]固態(tài)圖像傳感器和電子設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201280048257.3 | 申請(qǐng)日: | 2012-09-27 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103858235A | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-06-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 若野壽史 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 索尼公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/146 | 分類號(hào): | H01L27/146;H04N5/374 |
| 代理公司: | 北京信慧永光知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11290 | 代理人: | 陳桂香;褚海英 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 固態(tài) 圖像傳感器 電子設(shè)備 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及固態(tài)圖像傳感器和電子設(shè)備,更具體地,涉及能夠更有效地實(shí)施配線層中的導(dǎo)體層的數(shù)量減少的固態(tài)圖像傳感器和電子設(shè)備。?
背景技術(shù)
通常,諸如CMOS(Complementary?Metal?Oxide?Semiconductor:互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體)圖像傳感器或CCD(Charge?Coupled?Device:電荷耦合器件)等固態(tài)圖像傳感器被廣泛地用于數(shù)碼相機(jī)或數(shù)碼攝像機(jī)等等。?
例如,入射到CMOS圖像傳感器上的入射光在像素內(nèi)所包含的PD(Photodiode:光電二極管)中經(jīng)受光電轉(zhuǎn)換。此外,在該P(yáng)D中生成的電荷經(jīng)由傳輸晶體管而被傳輸?shù)紽D(Floating?Diffusion:浮動(dòng)擴(kuò)散部)、接著被轉(zhuǎn)換成具有與光接收量相對(duì)應(yīng)的電平的像素信號(hào)、然后被讀取。?
此外,近年來(lái),隨著固態(tài)圖像傳感器的小型化已經(jīng)減小了像素尺寸,并且已經(jīng)開(kāi)發(fā)了即使在微小的像素中也能夠獲得足夠特性的技術(shù)。例如,本申請(qǐng)的申請(qǐng)人曾提出一種能夠在背面照射型CMOS圖像傳感器中抑制飽和信號(hào)量的變化的技術(shù)(參見(jiàn),專利文獻(xiàn)1)。?
引用列表?
專利文獻(xiàn)?
專利文獻(xiàn)1:日本專利申請(qǐng)?zhí)亻_(kāi)JP2011-114324A?
發(fā)明內(nèi)容
要解決的技術(shù)問(wèn)題?
順便提及的是,在傳統(tǒng)的固態(tài)圖像傳感器中,在設(shè)置有與像素連接的配線的配線層中形成有多個(gè)導(dǎo)體層(一般地,三層或更多層的金屬層)。通常,假設(shè)能夠通過(guò)減少導(dǎo)體層的數(shù)量來(lái)獲得實(shí)現(xiàn)成本降低的效果。然而,配線的布局是在各種條件(這些條件包括:對(duì)于入射到固態(tài)圖像傳?感器上的光的光學(xué)觀察點(diǎn)、與形成有用于驅(qū)動(dòng)固態(tài)圖像傳感器的邏輯電路的外圍電路平衡的觀察點(diǎn))下予以進(jìn)行的,并且當(dāng)減少導(dǎo)體層的數(shù)量時(shí),可能不會(huì)獲得有效的效果。?
本發(fā)明是鑒于上述這樣的情況而做出的,且本發(fā)明使得能夠更有效地實(shí)施配線層中的導(dǎo)體層的數(shù)量減少。?
解決問(wèn)題所采取的技術(shù)方案?
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例,提出了一種固態(tài)圖像傳感器,其包括:半導(dǎo)體基板,在所述半導(dǎo)體基板中排列有多個(gè)像素;和配線層,所述配線層堆疊在所述半導(dǎo)體基板上,并且以將具有多條配線的多個(gè)導(dǎo)體層掩埋在絕緣膜中的方式而被形成。在所述配線層中,與所述像素連接的配線由兩個(gè)導(dǎo)體層形成。?
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例,提出了一種電子設(shè)備,其含有固態(tài)圖像傳感器,所述固態(tài)圖像傳感器包括:半導(dǎo)體基板,在所述半導(dǎo)體基板中排列有多個(gè)像素,各所述像素均具有光電轉(zhuǎn)換元件;和配線層,所述配線層堆疊在所述半導(dǎo)體基板上,并且以將具有多條配線的多個(gè)導(dǎo)體層掩埋在絕緣膜中的方式而被形成。在所述配線層中,與所述像素連接的配線由兩個(gè)導(dǎo)體層形成。?
在本發(fā)明的一個(gè)方面中,將半導(dǎo)體基板(在所述半導(dǎo)體基板中排列有多個(gè)像素)和配線層(以將具有多條配線的多個(gè)導(dǎo)體層掩埋在絕緣膜中的方式來(lái)形成所述配線層)堆疊起來(lái)。此外,在所述配線層中,與所述像素連接的配線是由兩個(gè)導(dǎo)體層形成的。?
本發(fā)明的有益效果?
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面,能夠更有效地實(shí)施配線層中的導(dǎo)體層的數(shù)量減少。?
附圖說(shuō)明
圖1是圖示了應(yīng)用了本發(fā)明的圖像傳感器的實(shí)施例的構(gòu)造示例的框圖。?
圖2是圖示了像素的構(gòu)造示例的電路圖。?
圖3是圖示了像素共用結(jié)構(gòu)的圖。?
圖4圖示了圖像傳感器的像素附近的截面構(gòu)造示例。?
圖5圖示了水平配線和垂直配線的布局的第一構(gòu)造示例。?
圖6圖示了水平配線和垂直配線的布局的第一構(gòu)造示例的變型例。?
圖7圖示了水平配線和垂直配線的布局的第二構(gòu)造示例。?
圖8圖示了水平配線和垂直配線的布局的第二構(gòu)造示例的變型例。?
圖9圖示了水平配線和垂直配線的布局的第三構(gòu)造示例。?
圖10圖示了水平配線和垂直配線的布局的第三構(gòu)造示例的變型例。?
圖11是圖示了安裝在電子設(shè)備上的成像器件的構(gòu)造示例的框圖。?
具體實(shí)施方式
在下文中,將參照附圖詳細(xì)地說(shuō)明應(yīng)用了本發(fā)明的具體實(shí)施例。?
圖1是圖示了應(yīng)用了本發(fā)明的圖像傳感器的實(shí)施例的構(gòu)造示例的框圖。?
圖像傳感器11是CMOS型固態(tài)圖像傳感器,并且如圖1所示,包括像素陣列單元12、垂直驅(qū)動(dòng)單元13、列處理單元14、水平驅(qū)動(dòng)單元15、輸出單元16和驅(qū)動(dòng)控制單元17。?
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





