[發(fā)明專利]提供改善的耐劃傷性的抗反射涂層組合物、使用該組合物的抗反射膜及其制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201280048211.1
• 申請(qǐng)日: 2012-09-28
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103842455A
• 公開(kāi)（公告）日: 2014-06-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 金憲;姜俊求;張影來(lái);金惠珉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社LG化學(xué)
• 主分類號(hào): C09D133/04
• 分類號(hào): C09D133/04;C09D7/12;G02B1/11;C08J5/18
• 代理公司: 北京北翔知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11285
• 代理人: 王媛;鐘守期

1.抗反射涂層組合物，包含：

（甲基）丙烯酸酯基化合物；

中空顆粒；

具有第一分子量的引發(fā)劑；

具有比第一分子量高的第二分子量的引發(fā)劑；和

溶劑。

2.權(quán)利要求1的抗反射涂層組合物，其中第一分子量小于420，并且第二分子量為420至1000。

3.權(quán)利要求1的抗反射涂層組合物，包含5至50重量份的所述中空顆粒、1至30重量份的所述具有第一分子量的引發(fā)劑、1至20重量份的所述具有第二分子量的引發(fā)劑和100至500重量份的所述溶劑，以上基于100重量份的所述（甲基）丙烯酸酯基化合物計(jì)。

4.權(quán)利要求1的抗反射涂層組合物，其中所述（甲基）丙烯酸酯基化合物包含具有2至10個(gè)官能團(tuán)的多官能（甲基）丙烯酸酯基化合物和具有含氟取代基的（甲基）丙烯酸酯基化合物。

5.權(quán)利要求4的抗反射涂層組合物，其中所述（甲基）丙烯酸酯基化合物包含重量比為1：10至1：300的所述具有含氟取代基的（甲基）丙烯酸酯基化合物和所述具有2至10個(gè)官能團(tuán)的多官能（甲基）丙烯酸酯基化合物。

6.權(quán)利要求4的抗反射涂層組合物，其中所述具有含氟取代基的（甲基）丙烯酸酯基化合物和所述多官能（甲基）丙烯酸酯基化合物具有5mN/m或更高的表面能差。

7.權(quán)利要求4的抗反射涂層組合物，其中所述多官能（甲基）丙烯酸酯基化合物為選自下列中的一種或多種化合物：六丙烯酸二季戊四醇酯、三丙烯酸季戊四醇酯、四丙烯酸季戊四醇酯、三亞甲基丙烷三丙烯酸酯、二丙烯酸乙二醇酯、9,9-雙（4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)苯基）芴和雙（4-甲基丙烯酰氧基苯硫基）硫醚。

8.權(quán)利要求4的抗反射涂層組合物，其中所述具有含氟取代基的（甲基）丙烯酸酯基化合物是選自以下化學(xué)式1至5的化合物中的一種或多種化合物：

[化學(xué)式1]

其中R¹是氫基團(tuán)或具有1至6個(gè)碳原子的烷基基團(tuán)，a是0至7的整數(shù)，且b是1至3的整數(shù)；

[化學(xué)式2]

其中c是1至10的整數(shù)；

[化學(xué)式3]

其中d是1至11的整數(shù)；

[化學(xué)式4]

其中e是1至5的整數(shù)；

[化學(xué)式5]

其中f是4至10的整數(shù)。

9.權(quán)利要求1的抗反射涂層組合物，其中所述中空顆粒具有1至200nm的數(shù)均直徑。

10.權(quán)利要求1的抗反射涂層組合物，其中所述中空顆粒是中空二氧化硅顆粒。

11.權(quán)利要求1的抗反射涂層組合物，其中所述溶劑具有20至30的介電常數(shù)（25℃）和1.7至2.8的偶極矩。

12.權(quán)利要求1的抗反射涂層組合物，其中所述溶劑是選自下列中的一種或多種：甲基乙基酮、乙酸乙酯、乙酰丙酮、異丁基酮、甲醇、乙醇、正丁醇、異丁醇和叔丁醇。

13.權(quán)利要求1的抗反射涂層組合物，還包含數(shù)均直徑為1至50nm的無(wú)機(jī)納米顆粒。

14.用于制造抗反射膜的方法，包括以下步驟：

制備權(quán)利要求1的抗反射涂層組合物；

將所述組合物施用到基底膜的至少一個(gè)表面上；

干燥所施用的組合物；以及

固化已干燥的組合物層。

15.權(quán)利要求14的用于制造抗反射膜的方法，其中施用于基底膜的組合物自發(fā)地相分離成含有所述具有第一分子量的引發(fā)劑的第一層以及含有所述中空顆粒和所述具有第二分子量的引發(fā)劑的第二層，這些層在基底膜上依次形成。

16.權(quán)利要求14的用于制造抗反射膜的方法，其中所述組合物的干燥過(guò)程在5至150℃的溫度下進(jìn)行0.1至60分鐘。

17.權(quán)利要求14的用于制造抗反射膜的方法，其中所述組合物的固化過(guò)程在0.1至2J/cm²的UV輻射劑量下進(jìn)行1至600秒。