[發明專利]用于將多個基質運輸到基質處理裝置的區域中的運輸裝置

無效

• 申請號: 201280047762.6
• 申請日: 2012-09-28
• 公開（公告）號: CN104011258A
• 公開（公告）日: 2014-08-27
• 發明（設計）人: P.雷滕巴赫爾;T.默茨;S.卡斯特爾
• 申請（專利權）人: 曼茲股份公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 陳浩然;楊國治

技術領域

本發明涉及一種用于同時運輸待在處理裝置中或在其處處理的至少兩個基質(Substrat)的運輸裝置。該至少兩個基質在此關于共同的軸線可旋轉地來支承、但是彼此軸向錯位地來布置。

背景技術

用于基質的表面處理、尤其用于蝕刻或涂覆基質表面的裝置在現有技術中充分已知。在大量常用的涂覆方法和裝置中例如應用化學的以及物理的蒸汽分離法(Dampfabscheidungsverfahren)(化學蒸汽沉積法(CVD)或物理蒸汽沉積法(PVD))、在此之下尤其等離子體輔助的化學的蒸汽分離法、所謂的PECVD方法。

在等離子體輔助的化學的蒸汽分離法中將一個或多個基質布置在真空腔中，在維持預設的壓力和溫度參數的情況下將反應氣體或與表面處理相協調的氣體混合物導入真空腔中。其可通過供給和加載電磁能量至少部分地轉變到設置用于相應的表面處理的等離子狀態中。

典型地，另外的過程(例如加熱、冷卻以及基質滲入(Einschleusen)真空區域中和/或從其中滲出(Ausschleusen))前置或后置于真正的表面處理過程。借助于運輸裝置來運輸將待處理的基質連續地輸送給各個處理站(Prozessstation)證實為適宜的。

存在用于布置各個處理站以及用于由此得到的運輸方案的不同方式。在連續方法(Durchlaufverfahren)中將各個基質例如相繼地、大多在保持其運動方向的情況下運輸穿過各個大約線性地彼此鄰接的處理站。在所謂的批量運行(Batchbetrieb)中以類似的方式分別將多個基質成組式或堆式地輸送給各個處理站。連續以及批量運行就此而言證實為不利的，即為了建立預設的真空條件必須將各個處理站的分別比較大的容積帶到預設的壓力水平上。

此外由文件DE?24?54?544?C4已知一種用于將薄的層氣相噴鍍(Aufdampfen)到基質上的真空涂覆設備，其具有用于運輸基質通過多個腔的輸送裝置。輸送裝置在此具有圍繞共同的軸線布置的且可圍繞該軸線擺動的用于容納基質的多個框架，其中，在至少兩個處理位置、即進入和離開位置處和在氣相噴鍍位置中這樣的框架本身形成處理腔的壁的部分。

此外，在這些處理位置中的至少一個中設置有可動的閥板用于閉鎖形成處理腔的一部分的框架的端側。

設置用于密封不同的腔的閥板在此設置在真空涂覆設備的外殼體的相對而置的側面處。外殼體在此必須足夠穩定并且扭轉剛性地來設計，以便能夠分別在處理腔以及進入和離開腔的區域中提供足夠用于操縱相應的閥板的反力。

發明內容

相應地，本發明目的在于提供一種改進的運輸裝置以及一種以此裝備的真空處理裝置，其運輸方案使尤其用于密封各個處理站的改進的且對于涂覆設備的設計優化的力引入以及力分布成為可能。此外，本發明的目的是對于真空處理裝置提供一種關于運輸物流改進的運輸方案，其可更好地且全面地利用各個處理站的處理能力。

本發明所基于的目的利用根據權利要求1的運輸裝置、此外利用根據權利要求15的真空處理裝置來實現，其中，本發明的有利的設計方案分別是從屬權利要求的內容。

根據本發明的運輸裝置構造用于同時運輸待在真空處理裝置中或在其處處理的至少兩個基質。為此其具有關于共同的軸線可旋轉地支承的、但是關于軸線彼此軸向錯位地布置的至少兩個支承裝置(Traegereinrichtung)。在支承裝置的每個處分別布置有構造用于容納至少一個或多個基質的至少一個保持框架。這兩個支承裝置通過圍繞共同的軸線的旋轉運動可轉移到在軸向上可布置在這兩個支承裝置之間的處理單元的區域中。布置在保持框架處的基質由此分別可轉移到處理單元的彼此相對而置的作用區域中并且在進行處理之后沿著相同的或相反地指向的旋轉運動能夠繼續運輸。

利用具有至少兩個支承裝置的運輸裝置，可在處理單元的相對而置的作用區域中并且因此在處理單元的處理腔兩側來布置彼此相對而置的多個基質用于表面處理。就此而言可顯著提升處理單元的負荷率(Auslastung)或處理能力。在待處理的基質處的生產量(Durchsatz)或處理能力因此可以以有利的方式提升和改善。