[發明專利]監視超級電容器的安全工作的方法

有效

• 申請號: 201280045519.0
• 申請日: 2012-09-13
• 公開（公告）號: CN103814421B
• 公開（公告）日: 2017-03-15
• 發明（設計）人: R·W·夏普斯;T·M·韋瑟里爾
• 申請（專利權）人: 康寧股份有限公司
• 主分類號: H01G9/12
• 分類號: H01G9/12;H01G11/78;H01G2/14
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司31100
• 代理人: 李玲

1.一種容納電極和電解質的電化學雙層電容器的容器，所述容器包括：

具有腔的殼體；

耦合至所述殼體以與所述腔一起形成流體密封儲液器的罩部；納入到所述殼體或所述罩部中的一個或多個之中的多個端子，所述多個端子適于電耦合至所述電極；以及

納入到所述殼體或所述罩部中的一個之中的壓力順應膜。

2.如權利要求1所述的容器，其特征在于，所述壓力順應膜包括被耦合至保持環的彈性檔片。

3.如權利要求1所述的容器，其特征在于，所述壓力順應膜是所述殼體或所述罩部中的一個的局部變薄部分。

4.如權利要求1所述的容器，其特征在于，還包括被納入到所述殼體或所述罩部中的一個之中并與所述流體密封儲液器流體連通的減壓閥。

5.如權利要求4所述的容器，其特征在于，所述減壓閥包括破裂盤。

6.如權利要求4所述的容器，其特征在于，所述減壓閥包括單向閥。

7.一種用于電化學雙層電容器的壓力監視系統，包括：

具有流體密封儲液器的容器；

納入到所述容器中的壓力順應膜，所述壓力順應膜響應于所述流體密封儲液器內的流體壓力而撓曲；以及

位移測量設備，所述位移測量設備適于測量所述壓力順應膜的撓曲。

8.如權利要求7所述的壓力監視系統，其特征在于，還包括納入所述流體密封儲液器內的雙層電容器單元。

9.如權利要求8所述的壓力監視系統，其特征在于，所述壓力順應膜與圍繞所述雙層電容器單元的液體電解質流體連通。

10.如權利要求7所述的壓力監視系統，其特征在于，所述壓力順應膜包括被耦合至保持環的彈性檔片。

11.如權利要求7所述的壓力監視系統，其特征在于，所述壓力順應膜是所述容器的局部變薄部分。

12.如權利要求7所述的壓力監視系統，其特征在于，所述位移測量設備包括光學測量系統。

13.如權利要求12所述的壓力監視系統，其特征在于，所述光學測量系統包括激光器。

14.如權利要求7所述的壓力監視系統，其特征在于，所述位移測量設備包括作為液體被引入到所述容器中并凝固的可澆鑄介質，其記錄所述壓力順應膜的撓曲。

15.如權利要求7所述的壓力監視系統，其特征在于，所述位移測量設備包括適于產生用于指示所述壓力順應膜與接觸感測探頭相接觸的位移距離信號的接觸監視系統。

16.如權利要求8所述的壓力監視系統，其特征在于，還包括電耦合至所述位移測量設備的電子控制單元，所述電子控制單元包括處理器和存儲計算機可讀和可執行指令集的存儲器。

17.如權利要求16所述的壓力監視系統，其特征在于，還包括電耦合至所述電子控制單元和所述電化學雙層電容器的充電管理系統，其中，所述電子控制單元從所述位移測量設備接收位移距離信號并且所述處理器執行所述指令集以使所述電子控制單元將充電控制信號發送至所述充電管理系統以停止將充電電壓提供給所述電化學雙層電容器。

18.一種管理電化學雙層電容器容器內的壓力的方法，包括：

監視所述電化學雙層電容器的容器內與流體密封儲液器流體連通的壓力順應膜的撓曲；

將所述壓力順應膜的撓曲與所述容器的基線部分進行比較。

19.如權利要求18所述的方法，其特征在于，所述壓力順應膜的撓曲是由光學測量系統測得的。

20.如權利要求18所述管理壓力的方法，其特征在于，還包括：

將可澆鑄介質引入到所述壓力順應膜和所述容器的基線部分；以及

使所述可澆鑄介質凝固。

21.如權利要求18所述管理壓力的方法，其特征在于，所述壓力順應膜的撓曲是由接觸監視系統測得的，所述接觸監視系統在所述壓力順應膜與接觸感測探頭相接觸時產生位移距離信號。

22.如權利要求18所述管理壓力的方法，其特征在于，還包括向充電管理系統發布一信號以停止對所述電化學雙層電容器的充電管理。

23.如權利要求18所述管理壓力的方法，其特征在于，還包括向充電管理系統發布一信號以對所述電化學雙層電容器放電。