[發(fā)明專利]用于監(jiān)測光刻圖案形成裝置的設(shè)備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201280044714.1
• 申請日: 2012-08-21
• 公開（公告）號: CN103797329A
• 公開（公告）日: 2014-05-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: L·斯卡克卡巴拉茲;V·班尼恩;B·盧提克惠斯;R·科萊;H·萬德爾吉姆;P·格拉夫
• 申請（專利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G01B11/30
• 分類號: G01B11/30;G03F1/84;G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 張啟程

1.一種光刻圖案形成裝置變形監(jiān)測設(shè)備，包括：

輻射源，配置成將具有預(yù)定直徑的多個輻射束朝向光刻圖案形成裝置引導(dǎo)使得它們被圖案形成裝置反射；

成像檢測器，配置成在多個輻射束被光刻圖案形成裝置反射之后檢測多個輻射束的空間位置；和

處理器，配置成監(jiān)測多個輻射束的空間位置并由此判定光刻圖案形成裝置變形的存在，

其中成像檢測器具有小于輻射束的最小衍射角的收集角。

2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中具有預(yù)定直徑的多個輻射束被準(zhǔn)直以基本上彼此平行地傳播。

3.如權(quán)利要求1或2所述的設(shè)備，其中多個輻射束的預(yù)定直徑小于1000微米。

4.如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其中多個輻射束包括在給定方向上分離的三個或更多個輻射束。

5.如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其中多個輻射束包括輻射束的二維陣列。

6.如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其中成像檢測器的位置與配置成保持圖案形成裝置的支撐結(jié)構(gòu)相距100mm或更多。

7.如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其中成像檢測器配置成在任何給定時刻具有在小于1英寸的跨度上測量的操作區(qū)域。

8.如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其中輻射源包括標(biāo)準(zhǔn)具，所述標(biāo)準(zhǔn)具配置成將輻射束轉(zhuǎn)換為基本上彼此平行地傳播的多個輻射束。

9.如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其中輻射源是多個輻射源中的一個并且成像檢測器是多個成像檢測器中的一個，其中所述設(shè)備還包括控制器，所述控制器配置成操作串聯(lián)的每個輻射源和相關(guān)聯(lián)的成像檢測器。

10.如權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其中輻射源是多個輻射源中一個并且所述設(shè)備還包括控制器，所述控制器配置成操作串聯(lián)的每個輻射源并且接收來自串聯(lián)的成像檢測器的選定部分的檢測到的輻射信號。

11.一種光刻設(shè)備，包括如權(quán)利要求1至10中任一項(xiàng)所述的圖案形成裝置變形監(jiān)測設(shè)備。

12.如權(quán)利要求11所述的光刻設(shè)備，還包括下列部件中的一個或更多個：

照射系統(tǒng)，配置成調(diào)節(jié)輻射束，

支撐結(jié)構(gòu)，構(gòu)造成支撐圖案形成裝置，所述圖案形成裝置能夠在輻射束的橫截面上將圖案賦予輻射束以形成圖案化的輻射束，

襯底臺，構(gòu)造成保持襯底，和

投影系統(tǒng)，配置成將圖案化的輻射束投影到襯底的目標(biāo)部分上。

13.如權(quán)利要求12所述的光刻設(shè)備，其中支撐結(jié)構(gòu)支撐圖案形成裝置，并且其中輻射束的預(yù)定直徑不大于在光刻圖案形成裝置上存在的最大周期結(jié)構(gòu)的節(jié)距的十倍。

14.一種光刻圖案形成裝置變形監(jiān)測設(shè)備，包括：

輻射源，配置成將具有預(yù)定直徑的多個輻射束朝向光刻圖案形成裝置引導(dǎo)使得它們被光刻圖案形成裝置反射；

成像檢測器，配置成在多個輻射束被光刻圖案形成裝置反射之后檢測多個輻射束的空間位置，和

處理器，配置成監(jiān)測多個輻射束的空間位置并由此判定光刻圖案形成裝置變形的存在，

其中成像檢測器具有小于或等于+/-5度的收集角。

15.一種確定圖案形成裝置是否遭受變形的方法，所述方法包括：

將多個輻射束朝向光刻圖案形成裝置引導(dǎo)使得它們被圖案形成裝置反射；

在多個輻射束被光刻圖案形成裝置反射之后使用成像檢測器檢測多個輻射束的空間位置；和

監(jiān)測多個輻射束的空間位置并由此判定圖案形成裝置變形的存在，

其中，成像檢測器具有小于輻射束的最小衍射角的收集角。

16.一種用以監(jiān)測圖案形成裝置的變形的變形監(jiān)測設(shè)備，所述圖案形成裝置是光刻圖案形成裝置，所述設(shè)備包括：

輻射源，配置成將具有預(yù)定直徑的多個輻射束朝向光刻圖案形成裝置引導(dǎo)使得通過圖案形成裝置的反射來提供對應(yīng)的多個反射輻射束；

成像檢測器，配置成檢測多個反射輻射束的空間位置；和

處理器，配置成監(jiān)測多個反射輻射束的空間位置并由此判定圖案形成裝置變形的存在，

其中成像檢測器具有收集角，所述收集角小于與被朝向圖案形成裝置引導(dǎo)的多個輻射束中的至少一個相關(guān)聯(lián)的被圖案形成裝置衍射的衍射輻射束的最小衍射角。