[發(fā)明專利]光照射裝置及具備該光照射裝置的光照射治療·預(yù)防裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201280041987.0
• 申請日: 2012-08-22
• 公開（公告）號: CN103781513A
• 公開（公告）日: 2014-05-07
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 大條和宏
• 申請（專利權(quán)）人: 松下電器產(chǎn)業(yè)株式會社
• 主分類號: A61N5/06
• 分類號: A61N5/06;F21V7/09;F21V11/08;F21V11/12;F21Y101/00
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 劉婷

1.一種光照射裝置，其具備：放射放射光的發(fā)光部；反射所述放射光的反射部；將從所述反射部反射來的所述放射光向被照射體引導(dǎo)的導(dǎo)光部，所述光照射裝置的特征在于，

所述導(dǎo)光部具有第一導(dǎo)光面和與所述第一導(dǎo)光面對置的第二導(dǎo)光面，

所述反射部具有：

第一反射部，其將所述放射光的一部分向所述第一導(dǎo)光面反射；第二反射部，其將入射光向所述第二導(dǎo)光面反射；第三反射部，其由將所述放射光的其余的一部分作為所述入射光向所述第二反射部反射且設(shè)有透過部的主體部構(gòu)成，

所述第三反射部配置為所述透過部側(cè)向所述發(fā)光部側(cè)傾斜，且所述第三反射部的所述透過部構(gòu)成為越接近所述發(fā)光部而使所述放射光的透過光量越增加。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光照射裝置，其中，

所述第三反射部由平面形狀的反射板構(gòu)成。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光照射裝置，其中，

所述透過部為越接近所述發(fā)光部側(cè)而開口面積越擴(kuò)大的切口。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光照射裝置，其中，

所述透過部為越接近所述發(fā)光部側(cè)而開口面積越擴(kuò)大的狹縫。

5.一種光照射治療·預(yù)防裝置，其通過將從權(quán)利要求1所述的光照射裝置照射的放射光向生物體的特定部位照射來進(jìn)行治療或預(yù)防，所述光照射治療·預(yù)防裝置的特征在于，

還具備波長透過部，該波長透過部配置于從發(fā)光部放射而通過導(dǎo)光部照射的所述放射光的光路上，使從所述發(fā)光部放射的所述放射光中波長為566.5nm以上且780nm以下的范圍內(nèi)的所述放射光透過，

所述光照射治療·預(yù)防裝置將透過了所述波長透過部的所述放射光向生物體的特定部位照射。