[發明專利]固化性組合物及固化物無效
| 申請號: | 201280041566.8 | 申請日: | 2012-08-24 |
| 公開(公告)號: | CN103764697A | 公開(公告)日: | 2014-04-30 |
| 發明(設計)人: | 日渡謙一郎;富田敦郎;齊木智秋;村田圣 | 申請(專利權)人: | 株式會社ADEKA |
| 主分類號: | C08F212/34 | 分類號: | C08F212/34;C08F2/44;C08F291/00 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;李茂家 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 固化 組合 | ||
技術領域
本發明涉及固化性組合物及其固化物,詳細而言,涉及能夠得到加工成型性優異、耐熱性高的固化物的固化性組合物及其固化物。
背景技術
SiC(碳化硅)與硅相比電絕緣性和通電時的能量損失小,因此發熱量少、耐熱性也高。因此,SiC功率半導體可以處理比硅功率半導體大的電力,目前,作為替代廣泛使用的硅功率半導體的下一代功率半導體,得到積極研究。硅功率半導體裝置的耐熱極限溫度約為150℃,而SiC功率半導體裝置為了處理更大的電力而研究在240~300℃下使用,對于SiC功率半導體裝置的構件也要求超過240℃的耐熱性。
迄今,用樹脂進行模塑的半導體的模塑樹脂主要使用環氧樹脂。一般,樹脂以Tg(玻璃化轉變溫度)為界,粘彈性、熱膨脹系數等物性會大幅變化,因此模塑樹脂的Tg要求比半導體的使用溫度高。然而,現有的環氧樹脂的Tg大致為200℃以下,在超過240℃的使用環境下存在材料的軟化、產生裂紋等問題(例如參見專利文獻1~2)。此外,具有240℃以上的Tg的環氧樹脂由于固化前的樹脂的熔點高,因此固化溫度也高,且固化需要長時間,因而對其他構件的不良影響、生產率的降低成為問題(例如參見專利文獻3)。此外,也研究了使用聚酰亞胺等環氧樹脂以外的樹脂(例如參見專利文獻4),但對于所要求的性能而言是不充分的。
另一方面,也已知有含有多元酚化合物的乙烯基芐基醚化合物的固化性組合物(例如參見專利文獻5~7),但Tg均小于240℃,作為SiC功率半導體的模塑樹脂是不充分的。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本特開2005-036085號公報
專利文獻2:日本特開2006-269730號公報
專利文獻3:日本特開2011-184650號公報
專利文獻4:日本特開2010-222392號公報
專利文獻5:日本特開2000-258932號公報
專利文獻6:日本特開2004-189901號公報
專利文獻7:日本特開2010-202778號公報
發明內容
發明要解決的問題
因此,本發明的目的在于提供能夠得到加工成型性優異、耐熱性高、具有高至可作為SiC功率半導體的模塑樹脂使用的Tg的固化物的固化性組合物及其固化物。
用于解決問題的方案
本發明人等鑒于前述問題進行了深入研究,結果發現,含有特定結構的化合物的固化性組合物的加工成型性優異、固化后的耐熱性高,從而完成了本發明。即,本發明是一種固化性組合物,其含有作為(A)成分的在分子中具有至少2個下述通式(1)所示的部分結構的化合物100質量份、作為(B)成分的熱自由基產生劑0.5~3質量份以及作為(C)成分的其他自由基反應性化合物0~50質量份。
(式中,環A表示苯環或環己基環,R1表示碳數1~6的亞烷基,R2表示碳數1~4的烷基,a表示0或1的數,b表示0~3的整數,c表示1或2的數。)
本發明的固化性組合物優選的是,前述(A)成分為下述通式(2)或通式(3)所示的化合物。
(式中,R3表示碳數1~4的烷基,d表示0~2的整數,X1表示氧原子、硫原子、亞磺?;?、磺?;Ⅳ驶?、亞苯基、亞環己基(除1,1-亞環己基以外)、下述通式(4)所示的基團或直接鍵合,R1、R2、a、b和c與通式(1)同義。)
(式中,R4和R5各自獨立表示氫原子、三氟甲基或碳數1~12的烴基。其中,R4和R5為碳數1~12的烴基時,R4和R5可以彼此相連。)
(式中,R1、R2、a、b和c與通式(1)同義。)
此外,本發明的固化性組合物優選的是,其還含有填料作為(D)成分。
本發明的傳遞成型用料片(tablet)的特征在于,其由前述固化性組合物形成。
本發明的固化物的特征在于,其使前述固化性組合物固化而成。
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