[發明專利]清潔裝置、處理盒和成像設備

有效

• 申請號: 201280041323.4
• 申請日: 2012-08-29
• 公開（公告）號: CN103765328B
• 公開（公告）日: 2016-11-30
• 發明（設計）人: 岡秀人;宇山雅夫;進藤賢治;吉田延喜;金井良介;居波聰
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03G21/00
• 分類號: G03G21/00
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 羅聞

1.一種用于與成像設備一起使用的清潔裝置，所述清潔裝置包括：

固定部分，所述固定部分設置在框架上；

清潔構件，所述清潔構件待被固定在所述固定部分處，用于從圖像承載構件去除顯影劑，其中，所述清潔構件包括：刮刀部分，所述刮刀部分相對于所述圖像承載構件的運動方向的反方向接觸到所述圖像承載構件；和柔性支撐構件，所述支撐構件用于支撐所述刮刀部分，所述支撐構件包括：一個端部部分，在所述一個端部部分處設置有所述刮刀部分；另一個端部部分，所述另一個端部部分包括用于被固定在所述固定部分處的待被固定的部分；和彎曲部分，所述彎曲部分相對于將所述待被固定的部分和所述刮刀部分接觸到所述圖像承載構件的接觸部分連接起來的線在朝向外部遠離所述圖像承載構件的表面的一側中介于所述一個端部部分和所述另一個端部部分之間，其中，所述待被固定的部分設置在所述接觸部分相對于所述圖像承載構件的運動方向的下游；和

容納部分，所述容納部分由所述框架限定，用于容納從所述圖像承載構件去除的顯影劑，

其中，在所述框架和所述另一個端部部分之間，設置有用于允許所述另一個端部部分彈性變形的空隙。

2.根據權利要求1所述的接觸壓力，其中，在所述清潔裝置被安裝在所述成像設備的主組件中的狀態中，所述待被固定的部分的位置處于所述彎曲部分的位置上方。

3.根據權利要求1或2所述的接觸壓力，其中，在所述清潔裝置被安裝在所述成像設備的主組件中的狀態中，

所述待被固定的部分的位置處于所述彎曲部分的位置上方或處于與所述彎曲部分的位置相同的高度，并且

在經過所述彎曲部分的水平線和將所述彎曲部分和所述待被固定的部分連接起來的線之間所形成的角不小于所述顯影劑的休止角。

4.一種用于在記錄材料上形成圖像的成像設備，所述成像設備包括：

至少一圖像承載構件；和

根據權利要求1至3中任一項所述的清潔裝置。

5.一種能拆卸地安裝到成像設備的處理盒，所述處理盒包括：

至少一圖像承載構件；和

根據權利要求1至3中任一項所述的清潔裝置。

6.一種用于與成像設備一起使用的清潔裝置，所述清潔裝置包括：

固定部分，所述固定部分設置在框架上；

清潔構件，所述清潔構件待被固定在所述固定部分處，用于從圖像承載構件去除顯影劑，其中，所述清潔構件包括：刮刀部分，所述刮刀部分相對于所述圖像承載構件的運動方向的反方向接觸到所述圖像承載構件；和柔性曲線形支撐構件，所述支撐構件用于支撐所述刮刀部分，所述支撐構件包括：刮刀部分支撐部分，所述刮刀部分設置在所述刮刀部分支撐部分的端部側中；待被固定的部分，用于被固定在所述固定部分處；和彎曲頂部，所述彎曲頂部相對于將所述待被固定的部分和所述刮刀部分接觸到所述圖像承載構件的接觸部分連接起來的線在朝向外部遠離所述圖像承載構件的表面的一側中介于所述一個端部部分和所述另一個端部部分之間，其中，所述待被固定的部分設置在所述接觸部分相對于所述圖像承載構件的運動方向的下游；和

容納部分，所述容納部分由所述框架限定，用于容納從所述圖像承載構件去除的顯影劑，

其中，在所述框架和從所述彎曲頂部到所述待被固定的部分的區域之間，設置有用于允許所述區域彈性變形的空隙。

7.根據權利要求6所述的接觸壓力，其中，在所述清潔裝置被安裝在所述成像設備的主組件中的狀態中，所述待被固定的部分的位置處于所述彎曲頂部的位置上方。

8.根據權利要求6或7所述的接觸壓力，其中，在所述清潔裝置被安裝在所述成像設備的主組件中的狀態中，

所述待被固定的部分的位置處于所述彎曲頂部的位置上方或處于與所述彎曲頂部的位置相同的高度，并且

在經過所述彎曲頂部的水平線和將所述彎曲頂部和所述待被固定的部分連接起來的線之間所形成的角不小于所述顯影劑的休止角。

9.一種用于在記錄材料上形成圖像的成像設備，所述成像設備包括：

至少一圖像承載構件；和

根據權利要求6至8中任一項所述的清潔裝置。

10.一種能拆卸地安裝到成像設備的處理盒，所述處理盒包括：

至少一圖像承載構件；和

根據權利要求6至8中任一項所述的清潔裝置。