[發(fā)明專(zhuān)利]耦合波導(dǎo)裝置及其結(jié)構(gòu)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201280039466.1 | 申請(qǐng)日: | 2012-07-19 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104246560A | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-12-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 伊恩·里阿爾曼;邁克爾·羅伯遜;孫義申 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 集成光子學(xué)中心有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G02B6/122 | 分類(lèi)號(hào): | G02B6/122;G02B6/124;G02B6/293;H01S5/10 |
| 代理公司: | 廣州三環(huán)專(zhuān)利代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝傳鑫;熊永強(qiáng) |
| 地址: | 英國(guó)伊*** | 國(guó)省代碼: | 英國(guó);GB |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 耦合 波導(dǎo) 裝置 及其 結(jié)構(gòu) | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及用于在光電子器件結(jié)構(gòu)、組件或系統(tǒng)中使用的耦合波導(dǎo)裝置及其結(jié)構(gòu),以及制造此類(lèi)裝置和結(jié)構(gòu)的方法。本發(fā)明實(shí)施例尤其用于有源器件的光模擴(kuò)展,例如用在光子集成(photonic?integration)中。
背景技術(shù)
現(xiàn)已知,可以使用耦合波導(dǎo)來(lái)將光輻射從一個(gè)器件或結(jié)構(gòu)傳播到另一個(gè)器件或結(jié)構(gòu),以及使用耦合波導(dǎo)的特性來(lái)改善這種傳播。
例如,歷史上,半導(dǎo)體光學(xué)器件曾具有很小的波導(dǎo)模(waveguide?mode),而光纖則傾向于具有大很多的波導(dǎo)模,例如為前者的10倍。在模尺寸上的不匹配會(huì)導(dǎo)致波導(dǎo)與光纖之間的耦合效率極低。
現(xiàn)已知,使用輔助波導(dǎo)來(lái)擴(kuò)展半導(dǎo)體光學(xué)器件的模斑(mode?spot)尺寸。第5,985,685號(hào)和第6,282,345號(hào)美國(guó)專(zhuān)利中揭示了這些實(shí)例。但是,這樣做存在一些問(wèn)題,諸如制造產(chǎn)量、可重現(xiàn)性以及/或者性能相對(duì)較低,而這些可以帶來(lái)昂貴的生產(chǎn)成本。
發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的第一方面,提供一種用于對(duì)由基板支撐的波導(dǎo)之間的光學(xué)輻射進(jìn)行耦合的平面波導(dǎo)裝置,所述裝置包含無(wú)源波導(dǎo)以及相對(duì)于所述基板至少部分地覆于所述無(wú)源波導(dǎo)之上的波導(dǎo),該上覆波導(dǎo)具有至少一個(gè)漸細(xì)區(qū)段以在使用所述裝置時(shí)支持所述上覆波導(dǎo)與所述無(wú)源波導(dǎo)之間的所述耦合,并且所述無(wú)源波導(dǎo)包含纖芯層和包層材料,其中所述無(wú)源波導(dǎo)在截面中包含由纖芯材料組成的肋,所述肋在所有側(cè)面上由所述包層材料環(huán)繞,從而提供內(nèi)埋肋波導(dǎo)。
在實(shí)踐中可以將所述包層材料制成多個(gè)層,其中各個(gè)層含有一種或多種不同材料。
使用一種無(wú)源波導(dǎo)結(jié)構(gòu),其中在任一側(cè)面上纖芯層均被完全蝕刻并打穿,然后埋入包層材料中,這樣的結(jié)構(gòu)克服諸如在蝕刻深度上的關(guān)鍵依賴(lài)性以及所暴露的四元層的過(guò)度生長(zhǎng)等問(wèn)題,如在US6,282,345中描述。
所述上覆波導(dǎo)可以包含有源材料以在使用中提供光學(xué)增益。然后可以將此類(lèi)波導(dǎo)實(shí)施為有源器件,諸如半導(dǎo)體光學(xué)放大器(SOA)或激光器。
所述漸細(xì)區(qū)段可以在一個(gè)或多個(gè)維度中漸細(xì)化。在許多已知的制造技術(shù)中,例如光刻技術(shù),會(huì)出于便利而將所述漸細(xì)區(qū)段在平行于或大體平行于基板的平面中漸細(xì)化,但并非必須如此。唯一重要的是所述漸細(xì)區(qū)段支持在所述上覆波導(dǎo)與所述無(wú)源波導(dǎo)之間的至少一種光模的耦合。
在許多實(shí)施例中,出于便利,所述無(wú)源波導(dǎo)提供相對(duì)于所述上覆波導(dǎo)的模擴(kuò)展。這樣就能夠在諸如SOA或激光器等可能具有嚴(yán)格限制的上覆波導(dǎo)與諸如光纖等具有較大模斑尺寸的波導(dǎo)之間對(duì)光學(xué)輻射進(jìn)行耦合。
在大多數(shù)情況下,在使用所述裝置時(shí),如果所述上覆波導(dǎo)的漸細(xì)區(qū)段的傳播方向,與發(fā)生耦合的內(nèi)埋肋波導(dǎo)中的一部分的傳播方向相互平行或者至少基本上遵循相同路徑,就能夠以最佳方式達(dá)成有效耦合。然而,可能存在傳播方向并非完全相同或并非一直相同的布置。
在所述無(wú)源波導(dǎo)與所述上覆波導(dǎo)在相互耦合距離內(nèi)延伸之處,可能會(huì)傳播一種或多種寄生模。(在這種情況中,寄生模指的是例如由于傳遞到上覆波導(dǎo)的模不完整而在無(wú)源波導(dǎo)中留下的不想要的光模。)在所述無(wú)源波導(dǎo)中的斷點(diǎn)或終止點(diǎn)提供了與上覆波導(dǎo)相關(guān)的至少一個(gè)無(wú)引導(dǎo)區(qū)域,這樣在使用所述裝置時(shí)可以減少或避免此類(lèi)寄生模。此類(lèi)斷點(diǎn)或終止點(diǎn)具體來(lái)說(shuō)可以由所述無(wú)源波導(dǎo)的纖芯層中的斷點(diǎn)或間隔來(lái)提供,并且優(yōu)選地在設(shè)置之后在使用所述裝置時(shí)不會(huì)影響在所述上覆波導(dǎo)中傳播的一個(gè)或多個(gè)模,例如通過(guò)改變模斑尺寸或形狀來(lái)設(shè)置。
如果所述上覆波導(dǎo)具有一個(gè)或多個(gè)電驅(qū)動(dòng)區(qū)域,例如如果所述上覆波導(dǎo)并入到有源器件或波導(dǎo)中,那么可能尤其重要的是要避免寄生模。在此情況中,在使用所述裝置時(shí),至少一個(gè)無(wú)引導(dǎo)區(qū)域可能相對(duì)于所述基板位于上覆波導(dǎo)的至少一個(gè)電驅(qū)動(dòng)區(qū)域之下。
所述無(wú)源波導(dǎo)還可以通過(guò)具有至少一個(gè)彎曲引導(dǎo)部分來(lái)提供路由,以將光學(xué)輻射引導(dǎo)偏離所述上覆波導(dǎo)的傳播方向。同樣地,此類(lèi)結(jié)構(gòu)可能尤其有益,其中彎曲引導(dǎo)部分有部分相對(duì)于所述基板處于所述上覆波導(dǎo)的電驅(qū)動(dòng)區(qū)域之下。
所述無(wú)源波導(dǎo)的其他修改為,所述無(wú)源波導(dǎo)可能包含至少一個(gè)光柵,所述光柵用作濾波器或分布式布拉格反射器。所述無(wú)源波導(dǎo)可能會(huì)分支耦合到單獨(dú)的上覆波導(dǎo),并且這種耦合可能偏向不同的各自光學(xué)傳播模,例如,不同的偏振模。
進(jìn)而可以存在通過(guò)修改上覆波導(dǎo)而引入的特征。舉例而言,在所述上覆波導(dǎo)中的斷點(diǎn)可以提供基于所述上覆波導(dǎo)或并入所述上覆波導(dǎo)的兩個(gè)或多個(gè)電驅(qū)動(dòng)器件之間的電隔離。
根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的第二方面,提供一種制造用于對(duì)漸細(xì)波導(dǎo)與無(wú)源波導(dǎo)之間的光學(xué)輻射進(jìn)行耦合的波導(dǎo)裝置的方法,所述方法包含以下步驟:
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