[發(fā)明專利]投影單元和用于控制投影單元的方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201280038906.1
• 申請(qǐng)日: 2012-06-25
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103842906A
• 公開(kāi)（公告）日: 2014-06-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 諾貝特·馬格
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 歐司朗有限公司
• 主分類號(hào): G03B21/20
• 分類號(hào): G03B21/20
• 代理公司: 北京康信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240
• 代理人: 余剛;李慧

1.一種具有反射器-燈-裝置的投影單元，設(shè)計(jì)用于在運(yùn)轉(zhuǎn)中射出光線，其中所述光線發(fā)射到孔徑（14，72，84）內(nèi)，其中，設(shè)置有調(diào)節(jié)單元（8，10；58；66；78；），借助所述調(diào)節(jié)單元能夠調(diào)節(jié)所述發(fā)射的光線相對(duì)于孔徑（14，72，84）的光強(qiáng)分布，其中所述光強(qiáng)分布的所述調(diào)節(jié)根據(jù)所述燈的燃燒持續(xù)時(shí)間來(lái)實(shí)現(xiàn)，和/或設(shè)置有測(cè)量單元（20，92），借助所述測(cè)量單元能夠測(cè)量所述光強(qiáng)分布的至少一部分，其中根據(jù)所述光強(qiáng)分布的改變，實(shí)現(xiàn)相對(duì)于所述孔徑（14，72，84）的所述光強(qiáng)分布的調(diào)節(jié)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的投影單元，其中所述調(diào)節(jié)單元（8，10；58；66；78；）調(diào)節(jié)所述發(fā)射的光線相對(duì)于所述孔徑（14，72，84）的所述光強(qiáng)分布，使得所述光強(qiáng)分布的最大值基本上位于所述孔徑（14，72，84）內(nèi)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的投影單元，其中所述測(cè)量單元（20，92）檢測(cè)所述光線沒(méi)有通過(guò)所述孔徑（14，72，84）發(fā)射的部分的所述光強(qiáng)分布的至少一部分。

4.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的投影單元，其中設(shè)置有用于控制所述調(diào)節(jié)單元（8，10；58；66；78；）的控制單元（24），根據(jù)由所述測(cè)量單元（20，92）檢測(cè)到的光強(qiáng)分布和/或根據(jù)所述燈的所述燃燒持續(xù)時(shí)間控制所述調(diào)節(jié)單元（8，10；58；66；78；）。

5.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的投影單元，其中所述測(cè)量單元（20，92）具有多個(gè)傳感器（36至42，94至100），特別是檢測(cè)所述光強(qiáng)分布的光傳感器和/或溫度傳感器和/或照相機(jī)，其中所述傳感器（36至42，94至100）布置在所述孔徑（14，72，84）的外部，特別是基本布置在孔徑平面（12）內(nèi)。

6.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的投影單元，其中為了調(diào)節(jié)相對(duì)于所述孔徑（14，72，84）的所述光強(qiáng)分布，所述燈和/或光學(xué)元件（64，74），特別是鏡子（64）或者透鏡（74），和/或所述孔徑（14，72，84）的位置能夠通過(guò)所述調(diào)節(jié)單元（8，10；58；66；78；）改變。

7.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的投影單元，其中所述調(diào)節(jié)單元（8，10；78）至少具有一個(gè)電動(dòng)機(jī)（8，10；78），特別是步進(jìn)式電動(dòng)機(jī)，為了調(diào)節(jié)所述光強(qiáng)分布，能夠借助所述步進(jìn)式電動(dòng)機(jī)改變所述燈的燈殼體（6）和/或所述光學(xué)元件（74）和/或所述孔徑（14，72，84）的位置和/或所述燈相對(duì)于反射器的位置。

8.根據(jù)前述權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的投影單元，其中所述調(diào)節(jié)單元設(shè)計(jì)為偏轉(zhuǎn)單元（58；66），為了調(diào)節(jié)所述光強(qiáng)分布，能夠借助所述偏轉(zhuǎn)單元偏轉(zhuǎn)所述燈的所述燈殼體（6）和/或所述光學(xué)元件（64）和/或所述孔徑（14，72，84）和/或所述燈相對(duì)于反射器的位置。

9.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的投影單元，其中所述投影單元是數(shù)字光處理（DLP）投影單元或者液晶顯示器（LCD）投影單元或者硅基液晶(LCoS)投影單元或者圖形化光學(xué)薄板（Gobo）投影單元。

10.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的投影單元，其中所述投影單元設(shè)計(jì)為多燈系統(tǒng)，特別是雙倍或者四倍燈裝置。

11.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的投影單元，其中所述燈具有電極，所述電極的幾何形狀能夠通過(guò)再成形方法改變。

12.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的投影單元，其中所述光強(qiáng)分布能夠通過(guò)所述調(diào)節(jié)單元相對(duì)于所述孔徑（14，72，84）在所述孔徑平面內(nèi)以大約1/10mm的步幅調(diào)節(jié)。

13.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的投影單元，其中所述放射器-燈-裝置包括放電燈。

14.一種用于控制根據(jù)前述權(quán)利要求的投影單元的方法，具有以下步驟：

-借助所述測(cè)量單元（20）檢測(cè)所述光強(qiáng)分布的至少一部分，

-借助用于檢測(cè)所述光強(qiáng)分布的改變的評(píng)估單元（24）評(píng)估所述光強(qiáng)分布，

-借助用于平衡所述光強(qiáng)分布的改變的所述調(diào)節(jié)單元（8，10；58；66；78；）調(diào)節(jié)所述發(fā)射的光線相對(duì)于所述孔徑（14，72，84）的所述光強(qiáng)分布，

和/或包括以下步驟：

-根據(jù)所述燃燒持續(xù)時(shí)間，借助所述調(diào)節(jié)單元（8，10；58；66；78；）調(diào)節(jié)所述發(fā)射的光線相對(duì)于所述孔徑（14，72，84）的所述光強(qiáng)分布。