[發明專利]沖擊吸收構件

有效

• 申請號: 201280038691.3
• 申請日: 2012-08-07
• 公開（公告）號: CN103732942A
• 公開（公告）日: 2014-04-16
• 發明（設計）人: 廣瀨智史
• 申請（專利權）人: 新日鐵住金株式會社
• 主分類號: F16F7/12
• 分類號: F16F7/12;B62D21/15;B62D25/20;F16F7/00
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 段承恩;楊光軍

1.一種沖擊吸收構件，是具有軸線、相對于該軸線平行地延伸的多個矩形壁部、和相對于所述軸線垂直的多邊形截面，一邊沿所述軸線方向壓曲變形一邊吸收從外部施加的沖擊能的、沿所述軸線方向延伸的中空柱狀的沖擊吸收構件，

其具備在所述多個壁部之中至少一個壁部形成的給予壓曲變形的開端的至少一個壓邊部，

該至少一個壓邊部，在形成有該壓邊部的壁部沿所述軸線平行地延伸的一方的緣部偏向配置。

2.根據權利要求1所述的沖擊吸收構件，所述至少一個壓邊部具備在一個壁部形成的一個壓邊部。

3.根據權利要求1所述的沖擊吸收構件，所述至少一個壓邊部具備多個壓邊部。

4.根據權利要求3所述的沖擊吸收構件，所述多個壓邊部在一個壁部沿所述軸線方向在一條直線上等間隔地配置。

5.根據權利要求3所述的沖擊吸收構件，所述多個壓邊部在所述多個壁部之中至少2個壁部的每一個上各形成一個，并且，在垂直于所述軸線的同一平面內，在所述沖擊吸收構件的繞軸線的周向的同側的緣部附近配置。

6.根據權利要求3所述的沖擊吸收構件，所述多個壓邊部在所述多個壁部之中至少2個壁部的每一個以相同個數配置，并且，在垂直于所述軸線的多個平面內，在所述沖擊吸收構件的繞軸線的周向的同側的緣部附近，沿所述軸線方向在一條直線上等間隔地配置。

7.根據權利要求1～6的任一項所述的沖擊吸收構件，所述壓邊部具備從所述沖擊吸收構件的外表面凹入的凹窩。

8.根據權利要求7所述的沖擊吸收構件，所述壓邊部是沿相對于所述沖擊吸收構件的軸線正交的方向延伸的槽形的凹處。

9.根據權利要求1～6的任一項所述的沖擊吸收構件，所述壓邊部具備從所述沖擊吸收構件的外表面突出的隆起。

10.根據權利要求4或6所述的沖擊吸收構件，所述壓邊部從壓曲的開始端側沿軸線方向排列配置。