[發明專利]光學層壓體、光學層壓體套件和使用所述光學層壓體或所述光學層壓體套件的液晶面板有效
| 申請號: | 201280038201.X | 申請日: | 2012-07-25 |
| 公開(公告)號: | CN103718073A | 公開(公告)日: | 2014-04-09 |
| 發明(設計)人: | 澤田浩明;荒木龍彌;近藤誠司;宮武稔 | 申請(專利權)人: | 日東電工株式會社 |
| 主分類號: | G02B5/30 | 分類號: | G02B5/30;B32B7/02;G02F1/1335 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;李茂家 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 層壓 套件 使用 液晶面板 | ||
技術領域
本發明涉及一種光學層壓體、光學層壓體套件和使用所述光學層壓體或所述光學層壓體套件的液晶面板。
背景技術
近年來進行以液晶顯示裝置代表的圖像顯示裝置的大屏幕化和所述設備的薄型化。伴隨大屏幕化和薄型化產生以下問題。發生液晶面板的翹曲,結果產生顯示不均或漏光。為解決此類問題,已提出關于調整在配置于液晶單元兩側的各光學層壓體中的偏光膜的保護層的厚度的技術(專利文獻1),或關于調整各光學層壓體的水含量的技術(專利文獻2)。然而,就抑制液晶面板的翹曲而言,這些技術各自仍存在很大的改進空間。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:JP2003-149438A
專利文獻2:JP2007-292966A
發明內容
發明要解決的問題
已進行本發明以解決上述常規問題,且本發明的目的是提供一種可顯著地抑制液晶面板的翹曲,并可實現高對比度的光學層壓體。
用于解決問題的方案
根據本發明的實施方案的光學層壓體包括:厚度10μm以下的偏光膜;和反射偏光薄膜。
在本發明的一個實施方案中,所述偏光膜通過橫向拉伸而得到。
根據本發明的另一方面,提供一種光學層壓體套件。所述光學層壓體套件包括:包含上述光學層壓體的第一光學層壓體;第二光學層壓體,所述第二光學層壓體包括比該第一光學層壓體的偏光膜的厚度厚5μm以上的偏光膜。
根據本發明的又一方面,提供一種液晶面板。本發明的液晶面板包括:液晶單元和上述光學層壓體。
根據本發明的另一實施方案的液晶面板包括:液晶單元;和上述光學層壓體套件。所述第二光學層壓體配置在觀看者側,且所述第一光學層壓體配置在觀看者側的相反側。
發明的效果
根據本發明,通過使用具有薄偏光膜和反射偏光薄膜的光學層壓體,可同時實現兩種效果,即,抑制液晶面板的翹曲和對比度(contrast)的改進。此外,通過使用此類光學層壓體(第一光學層壓體),和具有比該第一光學層壓體的偏光膜的厚度厚5μm以上的偏光膜的第二光學層壓作為套件,可以格外顯著地得到所述效果。
附圖說明
圖1是根據本發明的一個實施方案的光學層壓體的示意性截面圖。
圖2是本發明中使用的反射偏光薄膜的實例的示意性透視圖。
圖3是根據本發明的一個實施方案的液晶面板的示意性截面圖。
具體實施方式
以下,參照附圖說明本發明的優選實施方案。然而,本發明不限定于這些具體的實施方案。
A.光學層壓體
A-1.光學層壓體整體的構造
圖1是根據本發明的一個實施方案的光學層壓體的示意性截面圖。光學層壓體100具有偏光膜110和反射偏光薄膜120。偏光膜110的厚度在10μm以下。偏光膜110和反射偏光薄膜120可通過任意適當的粘接層(具體地,壓敏粘合劑層或粘接劑層)層壓,或者可以被層壓以使彼此密接(不借助于任意的粘接層)。根據本發明,將此類薄偏光膜和反射偏光薄膜層壓,因此可抑制液晶面板的翹曲。此外,如稍后詳細所述,通過使用本發明的光學層壓體(以下當提到光學層壓體套件時有時稱為“第一光學層壓體”)和具有比該第一光學層壓體的偏光膜厚的偏光膜的第二光學層壓體作為套件,可格外顯著地得到此類效果。更具體地,當將本發明的光學層壓體(第一光學層壓體)配置在液晶單元的觀看者側的相反側,且將第二光學層壓體配置在液晶單元的觀看者側時,顯著地抑制液晶面板的翹曲,結果可防止顯示不均和漏光。此外,根據本發明,將反射偏光薄膜引入光學層壓體中,進而可改進背光的利用效率。近年來,雖然進行液晶顯示裝置的低價格化并且該降低導致液晶面板的低亮度化,但是本發明的光學層壓體可對抑制此類低亮度化作出貢獻。即,根據本發明的光學層壓體可同時實現兩種效果,即抑制液晶面板的翹曲和防止低亮度化。此外,根據本發明的光學層壓體,可實現具有高對比度的液晶面板。
偏光膜110的透過軸與反射偏光薄膜120的透過軸可根據目的形成任意的適當角度。優選偏光膜110的透過軸與反射偏光薄膜120的透過軸彼此實質上平行。
A-2.偏光膜
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于日東電工株式會社,未經日東電工株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201280038201.X/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種冷凝水回收再利用系統
- 下一篇:一種單紗染色上漿一體機





