[發明專利]多焦斑X射線射輻射濾波

有效

• 申請號: 201280037773.6
• 申請日: 2012-05-30
• 公開（公告）號: CN103718251A
• 公開（公告）日: 2014-04-09
• 發明（設計）人: G·福格特米爾;R·皮蒂格;C·勒夫;M·K·迪爾;G·J·卡爾森
• 申請（專利權）人: 皇家飛利浦有限公司
• 主分類號: G21K1/04
• 分類號: G21K1/04;G21K1/10
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 舒雄文;蹇煒

1.一種用于生成多能量X射線輻射的X射線管（10），具有：

-陽極（12）；以及

-濾波單元（14）；

其中，所述陽極至少包括第一焦斑位置（16）和第二焦斑位置（18），所述第一焦斑位置（16）和所述第二焦斑位置（18）在與X射線輻射投射方向相交的偏移方向（20）上彼此相偏移；

其中，所述濾波單元包括具有用于X射線輻射的第一濾波特性的第一多個（22）第一區段（24）和具有用于X射線輻射的第二濾波特性的第二多個（26）第二區段（28）；

其中，所述濾波單元是適于使得，

-從所述第一焦斑位置發出的第一X射線束（30）的至少第一部分經由所述第一區段穿過所述濾波單元，以及

-從所述第二焦斑位置發出的第二X射線束（32）的至少第二部分在穿過所述濾波單元時通過所述第二區段，的定向濾波器；

其中，所述第二X射線束的所述第二部分比所述第一X射線束的所述第一部分大；并且

其中，所述第一X射線束的經由所述第一區段穿過所述濾波單元的部分的區段和所述第二X射線束的在穿過所述濾波單元時通過所述第二區段的區段穿過所述濾波單元的公共區域。

2.根據權利要求1所述的X射線管，其中，所述第一區段的側面（66）與公共參考點（68）對準；其中，所述公共參考點是所述第一焦斑位置。

3.根據前述權利要求之一所述的X射線管，其中，所述X射線管是包括陰極裝置（52）的雙能量管（50），所述陰極裝置（52）被配置為提供具有至所述第一焦斑位置的第一加速電壓的第一電子束（56）和具有至所述第二焦斑位置的第二加速電壓的第二電子束（58），其中，所述第一電壓比所述第二電壓低；并且

其中，所述第二濾波特性適于從所述第二電壓束中去除低能量光子。

4.根據前述權利要求之一所述的X射線管，其中，所述濾波單元包括濾波主體結構（72），給所述濾波主體結構（72）提供了所述第二濾波特性；并且其中，將所述第一區段提供為所述濾波主體結構中的凹部（74）。

5.根據前述權利要求之一所述的X射線管，其中，所述第二區段它們在所述偏移方向上的濾波特性改變。

6.根據前述權利要求之一所述的X射線管，其中，所述濾波單元包括在所述X射線輻射的方向上以鎖環（82）布置的多個濾波片（80）；并且

其中，給所述濾波片均提供了多個第一子區段（84），所述多個第一子區段（84）與相鄰的濾波片的所述第一子區段對準。

7.根據前述權利要求之一所述的X射線管，其中，所述陽極是具有旋轉軸（z）的旋轉陽極（102）；并且其中，在正交于所述旋轉軸的方向（r）上發射所述X射線束；

其中，所述第二焦斑位置在第一偏移方向（d_Z）上和/或在第二偏移方向（d_X）上與所述第一焦斑位置相偏移，所述第一偏移方向（d_Z）正交于所述X射線輻射投射方向（r）并且平行于所述旋轉軸（z），所述第二偏移方向（d_X）正交于所述旋轉軸（z）并且正交于所述發射方向（r）。

8.根據前述權利要求之一所述的X射線管，其中，所述X射線管包括外殼（110）；并且其中，所述濾波單元布置在所述外殼內或所述外殼的X射線窗口外。

9.根據前述權利要求之一所述的X射線管，其中，所述濾波單元相對于所述焦斑位置可拆卸地固定。

10.一種X射線成像系統（200），包括：

-X射線源（214）；以及

-X射線探測器（216）；

其中，所述X射線源包括根據權利要求1至9之一所述的X射線管；并且

其中，所述X射線探測器適于探測由從所述第一焦斑位置發出的所述第一X射線束和從所述第二焦斑位置發出的所述第二X射線束產生的X射線輻射。