[發(fā)明專利]立式磨機(jī)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201280037514.3
• 申請(qǐng)日: 2012-09-06
• 公開（公告）號(hào): CN103747876A
• 公開（公告）日: 2014-04-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 二橋謙介;金澤宏幸;淺野伸;井上智晃;福井和司;大丸卓一郎
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 三菱重工業(yè)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): B02C15/04
• 分類號(hào): B02C15/04
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 雒運(yùn)樸

1.一種立式磨機(jī)，其特征在于，具備：

殼體，其呈中空形狀；

粉碎臺(tái)，其在所述殼體內(nèi)由沿著鉛垂方向的支承軸心支承為能夠進(jìn)行驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)；

粉碎輥，其配置在所述粉碎臺(tái)的上方而由第一支承軸支承為旋轉(zhuǎn)自如，且外周面與所述粉碎臺(tái)的上表面接觸而能夠進(jìn)行隨動(dòng)旋轉(zhuǎn)；

支承臂，其對(duì)所述第一支承軸進(jìn)行支承，且以使所述粉碎輥的外周面相對(duì)于所述粉碎臺(tái)的上表面接近離開自如的方式擺動(dòng)自如地由第二支承軸支承于所述殼體；以及

反力載荷施加裝置，其具有填充了磁性流體的阻尼器，通過使所述磁性流體磁化，而從所述支承臂對(duì)所述粉碎輥施加與該粉碎輥從所述粉碎臺(tái)分離的方向相反的反力載荷。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的立式磨機(jī)，其特征在于，

所述立式磨機(jī)設(shè)有使所述粉碎輥向接近所述粉碎臺(tái)的初始位置返回的返回裝置。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的立式磨機(jī)，其特征在于，

所述立式磨機(jī)設(shè)有：檢測(cè)所述粉碎輥相對(duì)于所述粉碎臺(tái)的位置或所述粉碎輥對(duì)所述粉碎臺(tái)的按壓載荷的檢測(cè)器；以及伴隨該檢測(cè)器的檢測(cè)值的增加而使所述反力載荷施加裝置施加的反力載荷增加的控制裝置。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的立式磨機(jī)，其特征在于，

所述控制裝置在所述檢測(cè)器的檢測(cè)值超過預(yù)先設(shè)定的規(guī)定值時(shí)，使所述反力載荷施加裝置施加的反力載荷比預(yù)先設(shè)定的基準(zhǔn)值降低。

5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的立式磨機(jī)，其特征在于，

所述控制裝置在所述粉碎輥的振動(dòng)進(jìn)入到共振區(qū)域時(shí)，使所述反力載荷施加裝置施加的反力載荷增加。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的立式磨機(jī)，其特征在于，

所述粉碎輥及所述支承臂沿著所述粉碎臺(tái)的周向以等間隔設(shè)置多個(gè)，所述反力載荷施加裝置使所述多個(gè)粉碎輥中的反力載荷不同。