[發(fā)明專利]帶電粒子射線裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201280036624.8
• 申請日: 2012-07-09
• 公開（公告）號: CN103718267A
• 公開（公告）日: 2014-04-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 秋間學(xué)尚;平山陽一
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社日立高新技術(shù)
• 主分類號: H01J37/153
• 分類號: H01J37/153;G05B13/02;G06N3/00
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 王亞愛

1.一種帶電粒子射線裝置，具備：

帶電粒子射線源；

帶電粒子光學(xué)系統(tǒng)，其將從所述帶電粒子射線源放出的帶電粒子作為帶電粒子射線來照射樣本；

像差校正器，其校正所述帶電粒子光學(xué)系統(tǒng)的像差；和

控制單元，其控制所述帶電粒子光學(xué)系統(tǒng)和所述像差校正器的各構(gòu)成要素，

所述帶電粒子射線裝置的特征在于，

還具備：

自動像差校正裝置，其通過學(xué)習(xí)自律地獲得最佳的調(diào)整順序。

2.一種帶電粒子射線裝置，其特征在于，具有：

帶電粒子射線源；

帶電粒子光學(xué)系統(tǒng)，其將從所述帶電粒子射線源放出的帶電粒子作為帶電粒子射線來照射樣本；

像差校正器，其校正所述帶電粒子光學(xué)系統(tǒng)的像差；

控制單元，其控制所述帶電粒子光學(xué)系統(tǒng)和所述像差校正器的各構(gòu)成要素；

所述像差測定單元，其測定所述帶電粒子光學(xué)系統(tǒng)的多個像差系數(shù)；

存儲裝置，其保存價值函數(shù)表，該價值函數(shù)表保持所述測定的多個像差系數(shù)中的表示校正哪個像差的值；

校正對象判斷單元，其基于所述測定的像差系數(shù)和所述價值函數(shù)表的值來判斷多個像差的校正；和

像差校正單元，其校正由所述校正對象判斷單元進(jìn)行了所述校正的判斷的所述多個像差。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的帶電粒子射線裝置，其特征在于，

所述校正對象判斷單元，根據(jù)由所述像差測定單元測定的像差校正前后的像差系數(shù)將該像差校正的效果定量化為回報，基于該回報來更新所述價值函數(shù)表的所述值。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的帶電粒子射線裝置，其特征在于，

所述價值函數(shù)表，將對各像差系數(shù)以各自的校正目標(biāo)值進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn)化后得到的值分級化為N等級，將排列該分級化后的值而成的N進(jìn)制數(shù)的數(shù)值變換為10進(jìn)制數(shù)，將由此得到的數(shù)值設(shè)為像差狀態(tài)，并將該像差狀態(tài)作為行索引。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的帶電粒子射線裝置，其特征在于，

所述價值函數(shù)表，作為初始值，按照以下方式進(jìn)行設(shè)定：在某行的所述像差狀態(tài)下，像差相對越大具有越高的值，在不同的像差狀態(tài)之間，各像差系數(shù)的總和越小的像差狀態(tài)具有越高的值。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的帶電粒子射線裝置，其特征在于，

所述校正對象判斷單元，遵循與所述價值函數(shù)表相應(yīng)的選擇概率來判斷1個或多個像差的校正。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的帶電粒子射線裝置，其特征在于，

在將校正后的綜合的像差越小則越大的權(quán)重系數(shù)設(shè)為W時，所述回報設(shè)為W×((校正前的像差系數(shù))-(校正后的像差系數(shù)))。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的帶電粒子射線裝置，其特征在于，

將對各像差系數(shù)以各自的校正目標(biāo)值進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn)化后得到的值分級化為N等級，所述權(quán)重系數(shù)設(shè)為該分級化后的值的總和的倒數(shù)。

9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的帶電粒子射線裝置，其特征在于，

所述像差校正單元，通過參考保存在所述存儲裝置中的變換系數(shù)表來從進(jìn)行校正的像差的像差系數(shù)變換為校正控制量，使該校正控制量與衰減系數(shù)K相乘后反饋到所述控制單元，由此來校正所述像差。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的帶電粒子射線裝置，其特征在于，

所述衰減系數(shù)K設(shè)為1.0-(像差系數(shù)的相對誤差)。

11.根據(jù)權(quán)利要求2所述的帶電粒子射線裝置，其特征在于，

還具備：

控制量記錄單元，其記錄所述控制單元的控制量，

所述控制量記錄單元記錄所述像差校正單元校正像差前的所述控制單元的控制量，

在所述校正對象判斷單元算出的所述回報全都為負(fù)的情況下，通過使所述控制單元恢復(fù)該記錄的控制量來返回到校正前的狀態(tài)。

12.根據(jù)權(quán)利要求2所述的帶電粒子射線裝置，其特征在于，

所述像差校正單元，將由所述像差測定單元測定的像差系數(shù)作為測定歷史記錄來進(jìn)行記錄，根據(jù)該測定歷史記錄來算出該像差系數(shù)的標(biāo)準(zhǔn)偏差，直到該標(biāo)準(zhǔn)偏差成為事前設(shè)定的閾值以下為止都限制所述像差的校正。