[發明專利]光學部件及其制備方法在審
| 申請號: | 201280036031.1 | 申請日: | 2012-07-11 |
| 公開(公告)號: | CN103718065A | 公開(公告)日: | 2014-04-09 |
| 發明(設計)人: | 大金政信 | 申請(專利權)人: | 佳能株式會社 |
| 主分類號: | G02B1/11 | 分類號: | G02B1/11 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人: | 李英 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 部件 及其 制備 方法 | ||
1.光學部件的制備方法,包括:
在基材上形成減反射膜,其中
形成該減反射膜包括:
涂布在分散介質中分散有顆粒的液體,然后涂布含有形成粘結劑所必需的成分的溶液以形成用該粘結劑將該顆粒之間的間隙填充的層;和
將該層干燥。
2.根據權利要求1的光學部件的制備方法,其中形成粘結劑所必需的成分是烷氧基硅烷水解縮合產物。
3.根據權利要求1或2的光學部件的制備方法,其中通過旋轉涂布來進行在分散介質中分散有顆粒的液體的涂布和含有形成粘結劑所必需的成分的溶液的涂布。
4.根據權利要求1-3的任一項的光學部件的制備方法,其中該分散介質含有1-甲氧基-2-丙醇、甲基溶纖劑、乙基溶纖劑和丁基溶纖劑中的任一個。
5.根據權利要求1-4的任一項的光學部件的制備方法,其中該顆粒是含有二氧化硅的中空顆粒。
6.根據權利要求1-5的任一項的光學部件的制備方法,其中形成該減反射膜還包括形成該粘結劑位于該顆粒之間的層以外的其他層。
7.根據權利要求6的光學部件的制備方法,其中通過氧化鋯、氧化鈦、氧化鉭、氧化鈮、氧化鉿、氧化鋁、二氧化硅或氟化鎂的沉積來進行形成其他層。
8.光學部件,包括在基材上形成的減反射膜,其中
該減反射膜具有在與該基材表面平行的方向上排列的多重層疊的顆粒形成的層;并且
用粘結劑將該層中該顆粒之間的間隙填充。
9.根據權利要求8的光學部件,其中該層以0.8-0.88的二維密度包括該顆粒。
10.根據權利要求8或9的光學部件,其中該粘結劑具有空隙,并且該空隙與該層的體積比為5體積%-25體積%。
11.根據權利要求8-10的任一項的光學部件,其中該顆粒是含有二氧化硅的中空顆粒。
12.根據權利要求11的光學部件,其中該層具有厚度d:
[數學式1]
其中,a表示該中空顆粒的平均顆粒半徑;和n表示正整數。
13.根據權利要求11或12的光學部件,其中該層具有60nm-200nm的厚度。
14.根據權利要求11-13的任一項的光學部件,其中該中空顆粒具有15nm-100nm的平均顆粒直徑。
15.根據權利要求12-14的任一項的光學部件,其中該中空顆粒各自有具有平均顆粒直徑的10%-50%的厚度的殼。
16.根據權利要求8-15的任一項的光學部件,其中該減反射膜還包括單層或多層。
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