[發(fā)明專利]泡沫穩(wěn)定性得到提高的應用及方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201280034176.8 | 申請日: | 2012-06-06 |
| 公開(公告)號: | CN103649459B | 公開(公告)日: | 2016-10-19 |
| 發(fā)明(設計)人: | 米克爾·莫爾萬;馬克斯·沙貝爾;馬努阿·S·達哈納亞克 | 申請(專利權)人: | 羅地亞管理公司 |
| 主分類號: | E21B43/22 | 分類號: | E21B43/22;E21B43/28 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權代理有限公司 11112 | 代理人: | 丁業(yè)平;金小芳 |
| 地址: | 法國歐*** | 國省代碼: | 法國;FR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 泡沫 穩(wěn)定性 得到 提高 應用 方法 | ||
1.一種用于增強從儲層內的含油地層中采油的方法,包括:
(a)在壓力下將發(fā)泡組合物導入所述含油地層中;
(b)在壓力下將氣體導入所述含油地層中,其中所述發(fā)泡組合物的存在影響氣體在所述含油地層中的流動;以及
(c)通過所述儲層中的井眼采油;
其中所述發(fā)泡組合物包含泡沫穩(wěn)定劑,所述泡沫穩(wěn)定劑選自烴基二甲基甜菜堿、烴基酰胺基丙基羥基磺基甜菜堿、或烴基羥基磺基甜菜堿,其中所述烴基的碳原子個數(shù)是介于約10至約24之間的整數(shù)。
2.權利要求1所述的方法,其中所述烴基的碳原子個數(shù)是介于約12至約24之間的整數(shù)。
3.權利要求1所述的方法,其中所述烴基的碳原子個數(shù)是介于約18至約24之間的整數(shù)。
4.權利要求1所述的方法,其中所述發(fā)泡組合物還包含水,并且任選地包含發(fā)泡氣體。
5.權利要求1所述的方法,其中所述發(fā)泡組合物還包含一種或多種發(fā)泡劑。
6.權利要求5所述的方法,其中所述發(fā)泡劑選自由以下物質構成的組:非離子表面活性劑、陽離子表面活性劑、兩性表面活性劑、兩性離子表面活性劑、陰離子表面活性劑、以及它們的任意組合。
7.權利要求1所述的方法,其中所述氣體選自二氧化碳、空氣、氮氣、天然氣、蒸汽、煙道氣、或它們的任意組合。
8.權利要求1所述的方法,其中將所述發(fā)泡組合物導入所述含油地層的步驟包括將所述發(fā)泡組合物導入位于所述含油地層內的一個或多個高滲透區(qū)中。
9.權利要求1所述的方法,其中將所述氣體導入所述含油地層的步驟包括將所述氣體導入位于所述含油地層內的一個或多個低滲透區(qū)中。
10.一種用于增強從儲層內的含油地層中采油的方法,包括:
(a)在壓力下將發(fā)泡組合物導入所述含油地層中;
(b)在壓力下將氣體導入所述含油地層中,其中所述發(fā)泡組合物的存在影響氣體在所述含油地層中的流動;以及
(c)通過所述儲層中的井眼采油;
其中所述發(fā)泡組合物包含具有式(I)的泡沫穩(wěn)定劑:
其中,R1為烴基酰胺基、或者直鏈或支鏈烴基;R2和R3獨立地為氫、甲基或羥乙基;R4、R5和R6獨立地為氫或羥基,條件是R4、R5或R6中至少一個為羥基,其中所述烴基的碳原子個數(shù)是介于約10至約24之間的整數(shù)。
11.權利要求10所述的方法,其中所述烴基的碳原子個數(shù)是介于約12至約24之間的整數(shù)。
12.權利要求10所述的方法,其中所述烴基的碳原子個數(shù)是介于約18至約24之間的整數(shù)。
13.權利要求10所述的方法,其中R1為具有式(II)的烴基酰胺基:
其中R7為具有大于約10個碳原子的直鏈或支鏈烴基,其中n為2至5的整數(shù)。
14.權利要求13所述的方法,其中R7為具有大于約16個碳原子的直鏈或支鏈烴基。
15.權利要求10所述的方法,其中所述泡沫穩(wěn)定劑具有式(III):
其中R1為烴基酰胺基、或者直鏈或支鏈烴基;R2和R3獨立地為氫、甲基或羥乙基;其中所述烴基的碳原子個數(shù)是介于約10至約24之間的整數(shù)。
16.權利要求10所述的方法,其中所述發(fā)泡組合物含有相對于每加侖水最高達約20磅的有機和無機鹽。
17.權利要求10所述的方法,其中將所述發(fā)泡組合物導入所述含油地層的步驟包括將所述發(fā)泡組合物導入位于所述含油地層內的一個或多個高滲透區(qū)中。
18.權利要求10所述的方法,其中將所述氣體導入所述含油地層的步驟包括將所述氣體導入位于所述含油地層內的一個或多個低滲透區(qū)中。
19.權利要求10所述的方法,還包含發(fā)泡劑,所述發(fā)泡劑選自由以下物質構成的組:非離子表面活性劑、陽離子表面活性劑、兩性表面活性劑、兩性離子表面活性劑、陰離子表面活性劑、以及它們的任意組合。
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