[發明專利]CVD反應器的進氣機構

有效

• 申請號: 201280033705.2
• 申請日: 2012-07-05
• 公開（公告）號: CN103649369A
• 公開（公告）日: 2014-03-19
• 發明（設計）人: H.席爾瓦;N.朱奧爾特;V.塞韋爾;F.克勞利;M.道爾斯伯格;J.林德納
• 申請（專利權）人: 艾克斯特朗歐洲公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;C30B25/14;C23C16/30
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 侯宇

1.一種CVD反應器的進氣機構(2)，其具有進氣殼體，所述進氣殼體具有至少一個可由第一輸送管(21)輸送第一處理氣體的第一氣體分配腔(5)，所述第一氣體分配腔(5)具有多個分別設計為管件的氣體管道(8)，所述氣體管道(8)伸入安置于進氣殼體壁(10)前方的排氣板(14)的第一開口(16)內，并且所述第一處理氣體通過所述氣體管道(8)進入設置于所述排氣板(14)下方的處理室內，并且所述進氣機構(2)還具有設置在所述進氣殼體壁(10)和所述排氣板(14)之間的間隔空間(20)，其特征在于，設置有與所述進氣殼體壁(10)鄰接的冷卻劑室(7)，冷卻劑可被送入所述冷卻劑室(7)內，用于冷卻所述進氣殼體壁(10)以及與被冷卻的進氣殼體壁(10)傳熱連接的氣體管道(8)的管口(8')，其中，所述排氣板(14)與所述進氣殼體壁(10)之間不傳熱，從而使得受到來自于所述處理室(22)的熱輻射的所述排氣板(14)相比于伸入到所述排氣板(14)的開口(16)內的管口(8')被更大程度地加熱。

2.如權利要求1所述的進氣機構(2)，其特征在于，所述氣體管道(8)的管口(8')與所述排氣板(14)的朝向所述處理室(22)的表面基本齊平，或者可以通過所述排氣板(14)的豎向移動與其表面齊平。

3.如前述權利要求之一所述的進氣機構(2)，其特征在于，所述進氣殼體具有可由第二輸送管(23)輸送氣體的第二氣體分配腔(6)，所述第二氣體分配腔(6)通過多個第二氣體管道(9)與所述進氣殼體壁(10)相連接。

4.如前述權利要求之一所述的進氣機構(2)，其特征在于，所述第二氣體管道(9)連通到所述間隔空間(20)中。

5.如前述權利要求之一所述的進氣機構(2)，其特征在于，所述排氣板(14)具有第二開口(18)，第二處理氣體可經由所述第二開口(18)排出到所述處理室(22)中。

6.如前述權利要求之一所述的進氣機構(2)，其特征在于，所述第一氣體管道(8)借助氣體管道延長部(15)伸入至與之配屬的所述第一開口(16)中，所述氣體管道延長部(15)的外徑小于所述第一開口(16)的開口寬度，使得所述氣體管道延長部(15)分別被環形間隙(17)圍繞。

7.如前述權利要求之一所述的進氣機構(2)，其特征在于，所述第一氣體管道(8)的管口(8')在所述排氣板(14)上分布于等邊三角形的頂點上。

8.如前述權利要求之一所述的進氣機構(2)，其特征在于，所述第二開口(18)位于等邊三角形的中心點上。

9.如前述權利要求之一所述的進氣機構(2)，其特征在于，所述第一氣體輸送管被第三尤其沖洗氣體或處理氣體管道(26)所圍繞，所述第三氣體管道(26)由第三分配腔(25)供應氣體。

10.如前述權利要求之一所述的進氣機構(2)，其特征在于，所述排氣板(14)可調溫并且尤其具有調溫通道(19)。

11.如前述權利要求之一所述的進氣機構(2)，其特征在于，尤其可借助位移裝置(31)改變所述進氣殼體壁(10)和所述排氣板(14)之間的距離(H)或者所述排氣板(14)到基座(3)的距離。

12.如前述權利要求之一所述的進氣機構(2)，其特征在于，所述排氣板(14)在其延伸平面內可被如此移動，使得所述排氣板(14)可與所述氣體管道延長部(15)傳熱地連接。

13.如前述權利要求之一所述的進氣機構(2)，其特征在于，所述開口(16)具有影響穿過所述開口(16)的氣流的成型結構(28，29)。

14.如前述權利要求之一所述的進氣機構(2)，其特征在于，所述開口(16)是延伸到所述間隔空間(20)內的套筒(30)的空腔。

15.如前述權利要求之一所述的進氣機構(2)，其特征在于，所述排氣板(14)的導熱性能低于所述氣體管道(8)的導熱性能。