[發(fā)明專利]機(jī)械應(yīng)力下具有改進(jìn)抗裂性能的含抗反射涂層光學(xué)物品有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201280032830.1 | 申請日: | 2012-06-28 |
| 公開(公告)號: | CN103649785A | 公開(公告)日: | 2014-03-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | P·庫埃;A·庫德瓦;I·博內(nèi) | 申請(專利權(quán))人: | 埃西勒國際通用光學(xué)公司 |
| 主分類號: | G02B1/10 | 分類號: | G02B1/10 |
| 代理公司: | 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利商標(biāo)事務(wù)所 11038 | 代理人: | 張力更 |
| 地址: | 法國沙*** | 國省代碼: | 法國;FR |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 機(jī)械 應(yīng)力 具有 改進(jìn) 性能 反射 涂層 光學(xué) 物品 | ||
1.一種光學(xué)物品,以下列順序從襯底開始包括:
(a)一個(gè)由有機(jī)玻璃制成的包括兩個(gè)主面的透明襯底,
(b)一個(gè)包含聚氨酯的底漆涂層,沉積在該由玻璃制成的襯底的這兩個(gè)主面的至少一個(gè)上,
(c)一個(gè)沉積在該底漆涂層上的耐磨涂層,以及
(d)一個(gè)沉積在該耐磨涂層上的抗反射涂層,
其特征在于,該底漆涂層另外包括微粒狀硅石。
2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)物品,其特征在于,相對于干涂層的重量在該干底漆涂層中的微粒狀硅石的重量百分比是在20%和70%之間、優(yōu)選在35%和65%之間并且更優(yōu)選在45%和55%之間。
3.如權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的光學(xué)物品,其特征在于,這些硅石微粒的平均尺寸是在5nm和50nm之間,優(yōu)選在5nm和15nm之間并且更優(yōu)選在7nm和12nm之間。
4.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的光學(xué)物品,其特征在于,相對于干涂層的重量在該干底漆涂層中的聚氨酯的重量百分比是在30%和80%之間、優(yōu)選在35%和65%之間并且更優(yōu)選在45%和55%之間。
5.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的光學(xué)物品,其特征在于,相對于干涂層的體積在該干底漆涂層中的微粒狀硅石的體積百分比是在10%和50%之間、優(yōu)選在20%和40%之間并且更優(yōu)選在25%和35%之間。
6.如權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的光學(xué)物品,其特征在于,在該干底漆涂層中該微粒狀硅石與該聚氨酯的重量比是在0.2和2.5之間、優(yōu)選在0.5和1.5之間并且更優(yōu)選在0.9和1.1之間。
7.如權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的光學(xué)物品,其特征在于,該底漆涂層的厚度是在0.2μm和2.5μm之間、優(yōu)選在0.5μm和1.5μm之間并且仍然更優(yōu)選在0.5μm和1μm之間。
8.如權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的光學(xué)物品,其特征在于,它展現(xiàn)出1.5的折射率。
9.一種用于制造光學(xué)物品的方法,包括下列步驟:
(1)提供一個(gè)由玻璃制成的包括兩個(gè)主面的透明襯底;
(2)在這兩個(gè)主面的至少一個(gè)上沉積一個(gè)液體底漆組合物的層,該底漆組合物包含一種聚氨酯分散體以及膠體硅石,并且然后將所述底漆組合物固化以獲得一個(gè)底漆涂層;
(3)將一個(gè)耐磨涂層沉積在該底漆涂層上;
(4)將一個(gè)抗反射涂層沉積在該耐磨涂層上。
10.如權(quán)利要求9所述的制造方法,其特征在于,步驟(2)是以下列方式進(jìn)行的:
-(a)在該襯底上施加一個(gè)包含聚氨酯分散體以及膠體硅石的液體底漆組合物的層;
-(b)將步驟(1)中獲得的襯底在50℃和150℃之間、優(yōu)選在70℃和110℃之間的溫度下干燥在2分鐘和4小時(shí)之間、優(yōu)選在10分鐘和3.5小時(shí)之間的一段時(shí)間。
11.如權(quán)利要求9或權(quán)利要求10所述制造方法,其特征在于,該膠體硅石展現(xiàn)出在5nm和50nm之間,優(yōu)選在5nm和15nm之間,并且更優(yōu)選在7nm和12nm之間的平均粒徑。
12.如權(quán)利要求9至11中任一項(xiàng)所述制造方法,其特征在于,在該底漆組合物中硅石的重量百分比是在3%和14%之間并且優(yōu)選在6%和11%之間。
13.如權(quán)利要求9至12中任一項(xiàng)所述制造方法,其特征在于,在該底漆組合物中聚氨酯的重量百分比是在6%和17%之間并且優(yōu)選在9%和14%之間。
14.如權(quán)利要求9至13中任一項(xiàng)所述制造方法,其特征在于,該底漆組合物另外包含一種表面活性劑。
15.一種能夠根據(jù)在權(quán)利要求9至14中任一項(xiàng)所定義的方法獲得的光學(xué)物品。
16.微粒狀硅石在一種光學(xué)物品中的用途,這種光學(xué)物品以下列順序從襯底開始包括:
(a)一個(gè)由玻璃制成的包括兩個(gè)主面的襯底,
(b)一個(gè)包含聚氨酯的底漆涂層,沉積在該由玻璃制成的襯底的兩個(gè)主面的至少一個(gè)上,
(c)一個(gè)沉積在該底漆涂層上的耐磨涂層,以及
(d)一個(gè)沉積在該耐磨涂層上的抗反射涂層,
用于增強(qiáng)在所述光學(xué)物品經(jīng)受機(jī)械應(yīng)力時(shí)該抗反射涂層的抗裂性,
其特征在于,將所述微粒狀硅石引入到所述底漆涂層中。
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