[發明專利]用于在雙腔室氣體放電激光系統中進行高準確度的氣體重新充填的系統與方法

有效

• 申請號: 201280032003.2
• 申請日: 2012-06-21
• 公開（公告）號: CN103620892B
• 公開（公告）日: 2017-04-26
• 發明（設計）人: 江銳;J·J·索恩思;D·J·里格斯;K·M·奧布萊恩
• 申請（專利權）人: 西默有限公司
• 主分類號: H01S3/22
• 分類號: H01S3/22
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所11256
• 代理人: 王茂華

1.一種雙腔室氣體放電激光器光源，包括：

主振蕩器，具有包括含鹵素的激光介質氣體的激光腔室；

放大器，具有包括含鹵素的激光介質氣體的激光腔室；

氣體充填系統，包括自動執行重新充填方案的控制器，所述重新充填方案包括順序的如下步驟：

獲得所選的一個激光腔室的目標壓力和鹵素的目標濃度；

對所選的腔室排氣至第一點，在所述第一點處所述腔室內的氣體壓力達到預定的低值，并測量在所述第一點處的溫度和壓力；

將不包含鹵素的氣體量添加至所選的激光腔室以達到第二點，并測量在所述第二點處的溫度和壓力；

將包含鹵素的氣體量添加至所選的激光腔室，以使所選的激光腔室內的氣體在高于所述目標壓力的壓力處達到鹵素的所述目標濃度；且

將氣體從所選的激光腔室內放出直到達到目標壓力。

2.根據權利要求1所述的雙腔室氣體放電激光器光源，其特征在于，所述鹵素包括氟。

3.根據權利要求1所述的雙腔室氣體放電激光器光源，其特征在于，對所選的激光腔室排氣以使每一個腔室內的氣體壓力達到預定的低值包括：對每一個腔室排氣至約20kPa的壓力。

4.根據權利要求1所述的雙腔室氣體放電激光器光源，其特征在于，添加至所選的激光腔室的不含鹵素的氣體量是至少部分地基于目標壓力以及含鹵素的氣體內的鹵素濃度與所述目標濃度的比較。

5.根據權利要求1所述的雙腔室氣體放電激光器光源，其特征在 于，所述主振蕩器和放大器的激光腔室具有充填管道，用于將氣體添加至所述激光腔室，且其中至少部分地基于在所述第一和第二點處的溫度和壓力、以及所選激光腔室的體積和所選激光腔室的充填管道的體積來計算添加至所選激光腔室的含鹵素的氣體量。

6.根據權利要求5所述的雙腔室氣體放電激光器光源，其特征在于，進一步部分地基于來自所述激光器的以前的操作的位于所選激光腔室內和所選激光腔室的充填管道內的剩余氣體來計算添加至所選激光腔室的含鹵素的氣體量。

7.根據權利要求1所述的雙腔室氣體放電激光器光源，其特征在于，每一個激光腔室具有用于以第一速率將氣體添加至所述腔室或從所述腔室移除氣體的第一閥門、以及以低于所述第一速率的第二速率將氣體添加至所述腔室或從所述腔室移除氣體的第二閥門，且將氣體從所選激光腔室放出直到達到所述目標壓力包括：

打開所述第一閥門從所述激光腔室內移除第一量的氣體，以使所述激光腔室內的壓力大于所述目標壓力；且

打開所述第二閥門從所述激光腔室內移除第二量的氣體，從而將所述激光腔室內的壓力減少至所述目標壓力。

8.根據權利要求7所述的雙腔室氣體放電激光器光源，其特征在于，打開所述第一閥門來從所選激光腔室中移除第一量的氣體還包括：打開所述第一閥門達固定量的時間。

9.根據權利要求1所述的雙腔室氣體放電激光器光源，其特征在于，每一個激光腔室具有用于以第一速率將氣體添加至所述腔室或從所述腔室移除氣體的第一閥門、以及以低于所述第一速率的第二速率將氣體添加至所述腔室或從所述腔室移除氣體的第二閥門，且將不包含鹵素的氣體量添加至所選激光腔室以達到第二點包括：

通過所述第二閥門來添加不包含鹵素的氣體量的第一部分；且

通過所述第一閥門來添加不包含鹵素的氣體量的剩余部分。

10.根據權利要求1所述的雙腔室氣體放電激光器光源，其特征在于，所述激光器光源是準分子激光源。

11.根據權利要求1所述的雙腔室氣體放電激光器光源，其特征在于，獲得所選的一個激光腔室的目標壓力和鹵素濃度進一步包括：取回所述目標壓力和濃度的所存儲的值。

12.根據權利要求1所述的雙腔室氣體放電激光器光源，其特征在于，獲得所選的一個激光腔室的目標壓力和鹵素濃度進一步包括：接收所述目標壓力和濃度的選擇作為輸入。