[發明專利]一種用于放射性同位素生產系統的靶設備

有效

• 申請號: 201280029863.0
• 申請日: 2012-06-13
• 公開（公告）號: CN103621189A
• 公開（公告）日: 2014-03-05
• 發明（設計）人: J.諾爾林;T.埃里克松
• 申請（專利權）人: 通用電氣公司
• 主分類號: H05H6/00
• 分類號: H05H6/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 肖日松;譚祐祥

1.一種用于放射性同位素生產系統的靶設備，所述靶設備包括：

生產室，所述生產室配置成容納啟動液體，所述生產室配置成接納入射到所述啟動液體上的粒子束，從而產生放射性同位素并將所述啟動液體的一部分轉換成蒸汽；

冷凝室；以及

流體通道，所述流體通道將所述生產室與所述冷凝室流體連通，并且配置成允許所述蒸汽從所述生產室流動到所述冷凝室，所述冷凝室配置成將所述蒸汽轉換成冷凝液體。

2.根據權利要求1所述的靶設備，其中所述冷凝室和所述流體通道可以相對于彼此設置大小和形狀，以便進入所述冷凝室的所述蒸汽膨脹，從而減小所述蒸汽的壓力并促進所述蒸汽轉換成所述冷凝液體。

3.根據權利要求1所述的靶設備，其中所述冷凝室和流體通道具有相應的內表面，所述冷凝室的所述內表面配置成使其表面溫度小于所述流體通道的所述內表面的表面溫度，從而促進所述蒸汽轉換成所述冷凝液體。

4.根據權利要求1所述的靶設備，其中所述生產室、所述冷凝室和所述流體通道相對于彼此設置，以便當所述流體通道具有相對于重力的預定定向時，所述蒸汽經由所述流體通道流入所述冷凝室中。

5.根據權利要求1所述的靶設備，進一步包括靶外殼，所述冷凝室設置在所述靶外殼中，其中所述靶外殼包括位于所述冷凝室附近的至少一個通道，所述至少一個通道配置成允許工作流體流動經過其中以吸收熱能并從所述冷凝室排除所述熱能，從而主動地冷卻所述冷凝室。

6.根據權利要求1所述的靶設備，其中所述生產室和冷凝室至少部分由靶體限定，所述靶體具有延伸在所述生產室與所述冷凝室之間的主體材料，所述靶體配置成減少從所述生產室到所述冷凝室的熱能傳輸。

7.根據權利要求1所述的靶設備，進一步包括氣體管線，所述氣體管線直接連接到所述冷凝室。

8.根據權利要求5所述的靶設備，其中所述冷凝室具有第一端口和第二端口，所述第一端口和第二端口分別與所述生產室和所述氣體管線流體連通，所述第一端口和第二端口之間具有間距，所述間距配置成防止在所述第二端口中形成流體或防止流體進入所述第二端口中。

9.根據權利要求1所述的靶設備，其中所述生產室、所述流體通道和所述冷凝室中的每一者都設置在公共靶外殼中。

10.一種同位素生產系統，包括：

粒子加速器，所述粒子加速器配置成產生粒子束；以及

靶設備，所述靶設備具有窗口，所述窗口配置成接納粒子束并且隔開生產室和冷凝室，所述生產室配置成容納啟動液體并且定位成使所述粒子束入射到所述啟動液體上，從而產生放射性同位素，并且將所述啟動液體的一部分轉換成蒸汽，所述靶設備還包括流體通道，所述流體通道延伸在所述生產室與所述冷凝室之間并且將這兩者流體連通；

其中所述流體通道配置成允許所述蒸汽從所述生產室流動到所述冷凝室中，所述冷凝室配置成將所述冷凝室中的所述蒸汽轉換成冷凝液體。

11.根據權利要求10所述的同位素生產系統，其中所述冷凝室和所述流體通道可以相對于彼此設置大小和形狀，以便進入所述冷凝室的所述蒸汽膨脹，從而減小所述蒸汽的壓力并促進所述蒸汽轉換成所述冷凝液體。

12.根據權利要求10所述的同位素生產系統，其中所述冷凝室和流體通道具有相應的內表面，所述冷凝室的所述內表面的表面溫度小于所述流體通道的所述內表面的表面溫度，從而促進所述蒸汽轉換成所述冷凝液體。

13.根據權利要求10所述的同位素生產系統，其中所述靶設備包括靶外殼，并且其中所述生產室、所述流體通道和所述冷凝室設置在所述靶外殼中。

14.根據權利要求10所述的同位素生產系統，其中所述生產室、所述冷凝室和所述流體通道相對于彼此設置，以便當所述流體通道具有相對于重力的預定定向時，所述蒸汽經由所述流體通道流入所述冷凝室中。

15.根據權利要求10所述的同位素生產系統，進一步包括氣體管線，所述氣體管線直接連接到所述冷凝室。

16.根據權利要求10所述的同位素生產系統，其中所述流體通道在所述生產室與所述冷凝室之間延伸一定距離，所述距離小于25毫米。