[發(fā)明專(zhuān)利]用于涂布易清潔涂層的基底元件

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201280026654.0
• 申請(qǐng)日: 2012-05-30
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104080754A
• 公開(kāi)（公告）日: 2014-10-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 馬藤·沃瑟爾
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 肖特公開(kāi)股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C03C17/42
• 分類(lèi)號(hào): C03C17/42;C03C17/00;C23C18/12
• 代理公司: 中原信達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11219
• 代理人: 郭國(guó)清;穆德駿

1.一種用于涂布易清潔涂層的基底元件(11、12)，包括支撐材料(2)和涂層(3)，其特征在于，所述涂層(3)由粘合促進(jìn)劑層組成，所述粘合促進(jìn)劑層以使得其能夠與易清潔涂層相互作用的方式實(shí)現(xiàn)，其特征還在于，所述粘合促進(jìn)劑層包含混合氧化物。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基底元件，其中所述粘合促進(jìn)劑層(3)為液相涂層，更特別地為熱凝固的溶膠-凝膠層。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基底元件，其中所述粘合促進(jìn)劑層(3)為CVD涂層或火焰熱解層。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基底元件，其中所述粘合促進(jìn)劑層(3)為PVD涂層，更特別地為濺射層。

5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中的任一項(xiàng)所述的基底元件，其中所述粘合促進(jìn)劑層(3)被一個(gè)或多個(gè)中間層再分成亞層，所述中間層優(yōu)選具有0.3至10nm的厚度、更優(yōu)選1至3nm的厚度。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中的任一項(xiàng)所述的基底元件，其中所述粘合促進(jìn)劑層(3)的折射率為1.35至1.7，優(yōu)選1.35至1.6，更優(yōu)選1.35至1.56。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中的任一項(xiàng)所述的基底元件，其中所述粘合促進(jìn)劑層(3)為硅的混合氧化物層，更特別地是如下的氧化硅層，該氧化硅層混合有至少一種如下元素的氧化物和/或氟化鎂：鋁、錫、鎂、磷、鈰、鋯、鈦、銫、鋇、鍶、鈮、鋅、硼，優(yōu)選包含元素鋁的至少一種氧化物。

8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中的任一項(xiàng)所述的基底元件，其中所述粘合促進(jìn)劑層(3)的厚度大于1nm，優(yōu)選大于10nm，更優(yōu)選大于20nm。

9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中的任一項(xiàng)所述的基底元件，其中在所述粘合促進(jìn)劑層(3)上設(shè)置外層(4)，且該外層(4)為微粒層或多孔層。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基底元件，其中所述外層(4)由氧化硅或硅的混合氧化物組成。

11.根據(jù)權(quán)利要求1至10中的任一項(xiàng)所述的基底元件，其中所述支撐材料(2)為金屬、塑料、晶體、陶瓷、玻璃、玻璃-陶瓷或復(fù)合材料。

12.根據(jù)權(quán)利要求1至10中的任一項(xiàng)所述的基底元件，其中所述支撐材料(2)為鋰鋁硅酸鹽玻璃、堿石灰硅酸鹽玻璃、硼硅酸鹽玻璃、堿金屬鋁硅酸鹽玻璃或者不含堿金屬或低堿金屬的鋁硅酸鹽玻璃。

13.根據(jù)權(quán)利要求1至12中的任一項(xiàng)所述的基底元件，其中所述支撐材料(2)在表面(20)上是結(jié)構(gòu)化的，且更特別地具有刻蝕面。

14.根據(jù)權(quán)利要求1至13中的任一項(xiàng)所述的基底元件，其中，在將易清潔涂層施加到所述粘合促進(jìn)劑層(3)之后，在中性鹽噴霧試驗(yàn)中暴露較長(zhǎng)的時(shí)間之后，與所述易清潔涂層的水接觸角，比未施加粘合促進(jìn)劑層的相同易清潔涂層在所述中性鹽噴霧試驗(yàn)中在暴露相應(yīng)更短時(shí)間后的水接觸角更高，其中所述較長(zhǎng)的時(shí)間與所述相應(yīng)更短時(shí)間相比大于1.5倍、優(yōu)選大于兩倍、更優(yōu)選大于三倍。

15.一種制造用于涂布易清潔涂層的基底元件(11、12)的方法，其包括如下步驟：

-提供支撐材料(2)，更特別地，所述支撐材料(2)由具有至少一個(gè)表面(20)的玻璃或玻璃-陶瓷制成，

-利用溶膠-凝膠施加技術(shù)在所述支撐材料的所述至少一個(gè)表面(20)上涂布粘合促進(jìn)劑前體層，

-使所述粘合促進(jìn)劑前體層熱凝固并將所述粘合促進(jìn)劑前體層轉(zhuǎn)化為所述粘合促進(jìn)劑層(3)，所述粘合促進(jìn)劑層包含混合氧化物，優(yōu)選硅的混合氧化物，更優(yōu)選如下的氧化硅，其混合有至少一種如下元素的氧化物或氟化鎂：鋁、錫、鎂、磷、鈰、鋯、鈦、銫、鋇、鍶、鈮、鋅、硼，從而能夠利用噴霧、浸漬、擦拭或印刷方法將易清潔涂層施加到制得的基底元件(11)。

16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的制造基底元件(11、12)的方法，其中在低于所述支撐材料的軟化溫度，更特別地在低于550℃、優(yōu)選350至500℃的溫度下，更優(yōu)選在400至500℃的基底表面溫度下，在所述支撐材料(2)上實(shí)施所述粘合促進(jìn)劑前體層的熱凝固和所述粘合促進(jìn)劑前體層到所述粘合促進(jìn)劑層(3)的轉(zhuǎn)化。