[發明專利]具有改進的等離子噴嘴的等離子體噴槍系統

在審

• 申請號: 201280025321.6
• 申請日: 2012-03-23
• 公開（公告）號: CN103563491A
• 公開（公告）日: 2014-02-05
• 發明（設計）人: 內森·杰拉爾德·雷特利茲
• 申請（專利權）人: 伊利諾斯工具制品有限公司
• 主分類號: H05H1/34
• 分類號: H05H1/34
• 代理公司: 上海脫穎律師事務所 31259
• 代理人: 脫穎

1.一種等離子體噴槍的噴嘴，包括：

主體，其包括第一端、第二端，以及從所述第一端延伸至所述第二端的通道，所述第二端具有布置于其中的出口孔，所述通道配置成使得等離子氣流從所述第一端，穿過所述通道至所述出口孔；并且

其中，大于或等于大約50％的所述主體總質量相對于所述主體的縱向長度分布于所述第二端部與所述主體的中間點之間。

2.根據權利要求1所述的噴嘴，其中，所述主體包括金屬材料。

3.根據權利要求2所述的噴嘴，其中，所述金屬材料包括銅。

4.根據權利要求1所述的噴嘴，其中，所述通道包括具有第一直徑的第一部分與具有小于所述第一直徑的第二直徑的第二部分，并且其中，所述第一部分與所述第二部分經由階梯式部分連接。

5.根據權利要求1所述的噴嘴，其中，所述主體包括具有階梯式直徑的環形內壁。

6.根據權利要求1所述的噴嘴，其中，所述主體包括靠近所述第一端的第一部分，靠近所述第二端的第二部分，以及在所述第一部分與所述第二部分之間延伸，并且經由基本上垂直的臺階連接至所述第一部分，經由帶角度的臺階連接至所述第二部分的中間部分。

7.根據權利要求6所述的噴嘴，其中，大于或等于大約25％的所述主體總質量貫穿所述第二部分分布。

8.一種等離子體噴槍的噴嘴，包括：

主體，其包括第一端與第二端，所述第二端具有布置于其中的等離子氣體出口孔，其中，從所述主體的所述第一端至質量中心的縱向距離大于或等于大約43％的所述主體的縱向長度。

9.根據權利要求8所述的噴嘴，其中，從所述主體的所述第一端至質量中心的所述縱向距離大于或等于大約48％的所述主體的縱向長度。

10.根據權利要求8所述的噴嘴，其中，所述主體包括銅。

11.一種等離子體噴槍的噴嘴，包括：

主體，其包括第一端以及第二端，所述第二端具有布置于其中的等離子氣體出口孔，其中，從所述主體的所述第一端至質量中心的縱向距離大于或等于大約48％的所述主體的縱向長度。

12.根據權利要求11所述的噴嘴，其中，所述主體包括靠近所述第一端的第一部分，靠近所述第二端的孔部分，以及在所述第一部分與所述孔部分之間延伸的中間部分，并且其中，所述孔部分的平均壁厚與所述孔部分的內徑的比率大于或等于大約3.6。

13.根據權利要求12所述的噴嘴，其中，所述中間部分的平均壁厚與所述中間部分的內徑的比率大于或等于大約0.27。

14.一種等離子體噴槍的噴嘴，包括：

主體，其包括第一端，第二端，從所述第一端沿所述主體的縱向長度延伸的第一部分，從所述第二端沿所述主體的縱向長度延伸的孔部分，以及布置于所述第一部分與所述孔部分之間的中間部分，所述第二端具有布置于其中的等離子氣體出口孔；

其中，通過由所述孔部分的內徑分開的所述孔部分的平均壁厚限定的開孔率大于或等于大約3.6，并且通過由所述中間部分的內徑分開的所述中間部分的平均壁厚限定的中間部分比率大于或等于大約0.27。

15.根據權利要求14所述的噴嘴，其中，所述孔部分包括環形錐形邊緣。

16.根據權利要求14所述的噴嘴，其中，從所述主體的所述第一端至質量中心的縱向距離大于或等于大約48％的所述主體的所述縱向長度。

17.一種等離子體噴槍的噴嘴，包括：

主體，其包括第一端，第二端，從所述第二端沿所述主體的縱向長度延伸的孔部分，從所述第一端沿所述主體的縱向長度延伸的第二部分，所述第二端具有布置于其中的等離子氣體出口孔；

其中，通過由所述孔部分的內徑分開的所述孔部分的平均壁厚限定的開孔率大于或等于大約3.5。

18.根據權利要求17所述的噴嘴，其中，所述主體包括銅。