[發明專利]表面處理金屬材料及水系金屬表面處理劑有效
| 申請號: | 201280020105.2 | 申請日: | 2012-04-26 |
| 公開(公告)號: | CN103635607A | 公開(公告)日: | 2014-03-12 |
| 發明(設計)人: | 森下敦司;金藤泰平;木全芳夫;高橋彰;菊池郁夫;山口英宏;野村信治 | 申請(專利權)人: | 新日鐵住金株式會社;日本帕卡瀨精株式會社 |
| 主分類號: | C23C22/36 | 分類號: | C23C22/36;B05D7/14;B32B9/00 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人: | 王靈菇;白麗 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 表面 處理 金屬材料 水系 金屬表面 | ||
1.一種表面處理金屬材料,其特征在于,其在金屬材料的表面具有復合皮膜,其中,
所述復合皮膜含有(i)結構中具有環狀硅氧烷鍵的有機硅化合物(W)作為造膜成分,并且含有(ii)選自鈦化合物及鋯化合物中的至少1種金屬化合物(X)、(iii)磷酸化合物(Y)和(iv)氟化合物(Z)作為抑制劑成分,
所述復合皮膜的所述各成分中,
所述有機硅化合物(W)來源的Si的固體成分質量Ws與所述金屬化合物(X)中所含的選自Ti及Zr中的至少1種金屬成分的固體成分質量Xs之比Xs/Ws為0.06~0.16,
所述有機硅化合物(W)來源的Si的所述固體成分質量Ws與所述磷酸化合物(Y)來源的P的固體成分質量Ys之比Ys/Ws為0.15~0.31,
所述有機硅化合物(W)來源的Si的所述固體成分質量Ws與所述氟化合物(Z)來源的F的固體成分質量Zs之比Zs/Ws為0.08~0.50,
并且將所述復合皮膜中平均分子量為3000以上的有機樹脂的含量限制為小于總皮膜重量的10質量%。
2.根據權利要求1所述的表面處理金屬材料,其特征在于,所述有機硅化合物(W)中的環狀硅氧烷鍵與鏈狀硅氧烷鍵的存在比例為:利用FT-IR反射法獲得的表示所述環狀硅氧烷鍵的1090~1100cm-1的吸光度W1與表示所述鏈狀硅氧烷鍵的1030~1040cm-1的吸光度W2之比W1/W2為1.0~2.0。
3.根據權利要求1或2所述的表面處理金屬材料,其特征在于,所述造膜成分不含有平均分子量為3000以上的有機樹脂。
4.根據權利要求1或2所述的表面處理金屬材料,其特征在于,所述造膜成分僅由所述有機硅化合物(W)構成。
5.根據權利要求1或2所述的表面處理金屬材料,其特征在于,所述金屬化合物(X)及所述氟化合物(Z)為選自氟鈦酸及氟鋯酸中的至少1種氟化合物。
6.根據權利要求1或2所述的表面處理金屬材料,其特征在于,通過JIS?C2550-4:2011的A法、在10個接觸電極的總面積為1000mm2的條件下測定的層間電阻系數小于200Ω·mm2。
7.根據權利要求1或2所述的表面處理金屬材料,其特征在于,在所述復合皮膜中還以所述有機硅化合物(W)來源的Si的所述固體成分質量Ws與鈷化合物(C)來源的Co的固體成分質量Cs之比Cs/Ws為0.03~0.08的比例含有所述鈷化合物(C)。
8.根據權利要求1或2所述的表面處理金屬材料,其特征在于,所述金屬材料為鍍鋅系鋼板。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C22-00 表面與反應液反應、覆層中留存表面材料反應產物的金屬材料表面化學處理,例如轉化層、金屬的鈍化
C23C22-02 .使用非水溶液的
C23C22-05 .使用水溶液的
C23C22-70 .使用熔體
C23C22-73 .以工藝為特征的
C23C22-78 .待鍍覆材料的預處理





