[發明專利]噴墨用二氧化硅系被膜形成組合物、二氧化硅系被膜的形成方法、半導體設備及太陽能電池系統

無效

• 申請號: 201280019477.3
• 申請日: 2012-03-23
• 公開（公告）號: CN103492499A
• 公開（公告）日: 2014-01-01
• 發明（設計）人: 岡田悠平;吉川貴浩;野部茂
• 申請（專利權）人: 日立化成株式會社
• 主分類號: C09D11/00
• 分類號: C09D11/00;C09D11/02;B41M5/00;H01L21/312;H01L31/04
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 鐘晶;於毓楨

1.一種噴墨用二氧化硅系被膜形成組合物，其特征在于，其含有硅化合物、溶劑和表面調節劑，

所述硅化合物為將如下單體成分水解、縮聚而得到的硅化合物，所述單體成分含有：

通式（I）：PhSiX₃所表示的化合物，式中，Ph表示也可具有取代基的苯基，X表示水解性基團，多個存在的X可以相同也可不同，

通式（II）：R¹_nSiX_4-n所表示的化合物，式中，R¹表示碳原子數1～20的烷基，X表示水解性基團，n表示0或1的整數，多個存在的X可以相同也可不同，以及

通式（III）：R²₂SiX₂所表示的化合物，式中，R²表示碳原子數1～20的有機基團，X表示水解性基團，多個存在的R²以及X各自可以相同也可不同；

所述溶劑含有γ-丁內酯、沸點為80～100℃的第二溶劑以及沸點為180～230℃的第三溶劑，

相對于所述溶劑的總質量，所述γ-丁內酯的質量比為0.2以上，相對于所述溶劑的總質量，所述第二溶劑的質量比為0.2～0.5。

2.如權利要求1所述的組合物，其中，所述表面調節劑為硅酮系表面調節劑。

3.一種二氧化硅系被膜的形成方法，其特征在于，其具備：

通過噴墨法排出權利要求1或2所述的組合物而進行圖案描繪，形成描繪圖案膜的工序，和

使所述描繪圖案膜固化的工序。

4.一種半導體設備，其特征在于，其具備：

基板，和

在該基板上通過權利要求3所述的方法而形成的二氧化硅系被膜。

5.一種太陽能電池系統，其特征在于，其具備權利要求4所述的半導體設備。