[發明專利]用于發光裝置的多孔膜有效
| 申請號: | 201280019193.4 | 申請日: | 2012-03-02 |
| 公開(公告)號: | CN103503570A | 公開(公告)日: | 2014-01-08 |
| 發明(設計)人: | 望月周;馬立平;鄭世俊;薩扎杜爾·拉曼·卡恩;李勝;賴倩茜;大衛·T·希斯克;布雷特·哈丁 | 申請(專利權)人: | 日東電工株式會社 |
| 主分類號: | H05B33/14 | 分類號: | H05B33/14;H05B33/22;H01L51/52 |
| 代理公司: | 北京英賽嘉華知識產權代理有限責任公司 11204 | 代理人: | 王達佐;安佳寧 |
| 地址: | 日本大*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 發光 裝置 多孔 | ||
1.發光裝置,包括:
多孔膜,布置于陽極或陰極的上方;并且
其中所述多孔膜的折射率低于所述陽極的折射率以及所述陰極的折射率。
2.如權利要求1所述的發光裝置,其中所述多孔膜布置于所述陽極或所述陰極上。
3.如權利要求2所述的發光裝置,其中所述陽極的折射率以及所述陰極的折射率高于所述多孔層的折射率。
4.如權利要求1所述的發光裝置,還包括透明層,其位于所述多孔膜與所述陽極之間,或者位于所述多孔膜與所述陰極之間。
5.如權利要求4所述的發光裝置,其中所述透明層的折射率高于所述多孔層的折射率。
6.如權利要求1-5中任一項所述的發光裝置,其中所述多孔膜包括選自以下的至少一種化合物:
7.如權利要求1-6中任一項所述的發光裝置,其中所述多孔膜包括:
8.如權利要求1-6中任一項所述的發光裝置,其中所述多孔膜包括:
9.發光裝置,包括:
多孔膜,其包括:
與所述發光裝置中的部分內折射層的第一界面,其中所述部分內折射層的折射率高于所述多孔膜的折射率;
與折射率低于所述多孔膜的折射率的物質的第二界面;并且
其中所述第二界面包括多個不規則排列的納米突起物或納米顆粒。
10.如權利要求9所述的發光裝置,其中所述納米突起物或所述納米顆粒具有在約400nm至約3000nm的范圍內的平均x尺寸。
11.如權利要求9或10所述的發光裝置,其中所述納米突起物或所述納米顆粒具有在約10nm至約100nm的范圍內的平均z尺寸。
12.如權利要求11所述的發光裝置,其中所述納米突起物或所述納米顆粒具有在約100nm至約2000nm的范圍內的平均y尺寸。
13.如權利要求9所述的發光裝置,其中所述納米突起物或所述納米顆粒包括納米片。
14.如權利要求9所述的發光裝置,其中所述多孔膜的厚度在約0.1μm至約10μm的范圍內。
15.如權利要求9所述的發光裝置,其中所述多孔膜的厚度在約1μm至約5μm的范圍內。
16.如權利要求9-15中任一項所述的發光裝置,其中所述多孔固體包括多個孔洞,所述孔洞的總體積為所述多孔固體的體積的約50%至約99%。
17.發光裝置,包括:
發光二極管,其包括:
陽極;陰極;以及
布置于所述陽極與所述陰極之間的發射層;以及
多孔膜;
其中所述多孔膜布置于所述陽極或所述陰極上;或者
所述發光裝置還包括透明層,所述透明層布置于所述陽極與所述多孔膜之間,或所述陰極與所述多孔膜之間;
其中所述多孔膜由包括以下的方法而制備:
沉積有機膜;并且
在約100℃至約290℃的溫度加熱所述有機膜。
18.如權利要求17所述的發光裝置,其中在約200℃至約260℃的溫度加熱所述有機膜。
19.如權利要求17所述的發光裝置,其中以約/秒至/秒的速率沉積所述有機膜。
20.多孔膜,包括:
非聚合性有機化合物,其具有在約1.1至約1.8的范圍內的折射率;
其中所述多孔膜包括:
多個不規則排列的納米突起物、納米顆粒或其聚集體;
多個空隙,所述空隙的總體積為所述膜的體積的至少約50%,且至少約10%的所述多個空隙具有在約0.5μm至約5μm的范圍內的最長尺寸;
其中所述多孔膜具有在約500nm至約20μm的范圍內的厚度;并且
其中包括所述空隙的所述多孔膜的密度為約0.5皮克/μm3或更小。
21.如權利要求20所述的多孔膜,其中所述非聚合性有機化合物包含芳香環。
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