[發明專利]粘合片

有效

• 申請號: 201280018649.5
• 申請日: 2012-04-06
• 公開（公告）號: CN103476891A
• 公開（公告）日: 2013-12-25
• 發明（設計）人: 天野立巳;森本有;三井數馬;高島杏子
• 申請（專利權）人: 日東電工株式會社
• 主分類號: C09J7/02
• 分類號: C09J7/02;C09J9/02;C09J11/06;C09J133/08;C09J171/02;C09J165/00
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 王海川;穆德駿

技術領域

本發明涉及能夠再剝離的粘合片。具體地，本發明涉及外觀特性優良、并且防經時粘合力上升性、耐刮擦性和防靜電性也優良的能夠再剝離的粘合片。

背景技術

以偏振板、相位差板、防反射板等光學薄膜為代表的光學構件（光學材料）的制造、加工工序中，為了防止表面的損傷或污垢、提高切斷加工性、抑制破裂等目的，將表面保護薄膜粘貼在光學構件的表面使用（參見專利文獻1、2）。作為這些表面保護薄膜，一般使用在塑料薄膜基材的表面設置有再剝離性的粘合劑層的再剝離性的粘合片。

以往，在這些表面保護薄膜的用途中，使用溶劑型的丙烯酸類粘合劑作為形成上述粘合劑層的粘合劑（參見專利文獻1、2），這些溶劑型丙烯酸類粘合劑含有有機溶劑，因此從涂布時的作業環境性的觀點考慮，嘗試轉換為水分散型的丙烯酸類粘合劑（參見專利文獻3～5）。

這些表面保護薄膜，要求在粘貼在光學構件上期間發揮充分的膠粘性。另外，在光學構件的制造工序等中使用后被剝離，因此要求優良的剝離性（再剝離性）。另外，為了具有優良的再剝離性，除了要求剝離力小（輕剝離）以外，還要求在粘貼到光學構件等被粘物上后，經時粘合力（剝離力）難以上升的特性（防粘合力上升性）。

為了得到上述的輕剝離和防粘合力上升性等特性，在形成粘合劑層的粘合劑（或粘合劑組合物）中使用非水溶性交聯劑是有效的。作為使用非水溶性交聯劑的粘合劑組合物，已知例如含有油溶性交聯劑的再剝離用水分散型丙烯酸類粘合劑組合物（參見專利文獻6、7）。

但是，上述粘合劑組合物這樣使用非水溶性交聯劑的水分散型丙烯酸類粘合劑組合物，在粘合劑組合物中非水溶性交聯劑的大粒子未充分地分散而殘留，由此，在形成粘合劑層時，容易在粘合劑層表面產生“凹陷”等外觀不良。因此，特別是在表面保護薄膜的粘合劑層中使用非水溶性交聯劑時，有時產生在粘貼有表面保護薄膜的狀態下難以進行被粘物的檢查等問題。為了消除由這樣的非水溶性交聯劑引起的凹陷，例如可以使用流平劑。

對于水分散型丙烯酸類粘合劑組合物而言，一般在含有上述流平劑或乳化劑等表面活性劑時，消泡性差。在粘合劑層的形成時涂敷液中含有氣泡時，氣泡會殘留在利用涂布頭涂布而形成的粘合劑層中，從而產生在粘合劑層表面形成凹陷而粘合劑層的外觀變差、或者粘合劑層的厚度產生偏差、或者粘合劑層的干燥后殘留氣泡缺陷等問題。為了提高消泡性，使用消泡劑是有效的。但是，產生由消泡劑的添加造成的縮孔（ハジキ）問題或者在含有二氧化硅等固態的成核劑作為消泡劑時成核劑成為異物從而使涂敷外觀變差等問題。

因此，現狀是尚未得到由水分散型丙烯酸類粘合劑組合物形成的、膠粘性和再剝離性（特別是防粘合力上升性）優良、減少“凹陷”等外觀不良的外觀特性優良的粘合劑層。

另外，在表面保護薄膜用途（特別是光學構件的表面保護薄膜用途）等中，粘合片的剝離時被粘物（光學構件等）表面上的粘合劑殘留（所謂的“膠糊殘留”）或者粘合劑層中所含成分轉印到被粘物表面上等造成的被粘物表面的污染會成為對光學構件的光學特性的不利影響等問題。因此，強烈要求粘合劑或粘合劑層對被粘物的低污染性。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開平11-961號公報

專利文獻2：日本特開2001-64607號公報

專利文獻3：日本特開2001-131512號公報

專利文獻4：日本特開2003-27026號公報

專利文獻5：日本專利第3810490號說明書

專利文獻6：日本特開2004-91563號公報

專利文獻7：日本特開2006-169496號公報

發明內容

發明所要解決的問題

另一方面，在表面保護薄膜的用途中，要求難以在表面（基材表面）上產生擦傷的特性（有時稱為“耐刮擦性”）。這是因為，表面保護薄膜的表面（基材表面）存在擦傷時，難以判斷這樣的擦傷是表面保護薄膜的還是作為外觀檢查的對象的被粘物（光學構件等）的。作為提高與表面保護薄膜的表面即粘貼到被粘物上的面（粘合劑層表面）相反側的面（基材側的表面，有時稱為“背面”）的耐刮擦性的方法，可以列舉例如在表面保護薄膜的背面設置硬質的表面層（罩面涂層）的方法。