[發明專利]利用非均勻隔片的成像陣列的系統、方法和裝置無效
| 申請號: | 201280018574.0 | 申請日: | 2012-03-02 |
| 公開(公告)號: | CN103492907A | 公開(公告)日: | 2014-01-01 |
| 發明(設計)人: | P·R·蒙格 | 申請(專利權)人: | 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 |
| 主分類號: | G01T1/20 | 分類號: | G01T1/20;G01N23/04 |
| 代理公司: | 北京泛華偉業知識產權代理有限公司 11280 | 代理人: | 徐舒 |
| 地址: | 美國馬*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 利用 均勻 成像 陣列 系統 方法 裝置 | ||
1.一種成像陣列,包含:
多個成像像素,這些成像像素形成一個陣列,該陣列具有一個高能量端、一個光出射端、一個軸向中心以及一個徑向外緣;
多個隔片,這些隔片被置于該陣列中,使得在相鄰的成像像素之間有一個隔片;并且
這些隔片的至少一個參數從鄰近該陣列的軸向中心的隔片至鄰近該陣列的徑向外緣的隔片變化至少一次。
2.一種閃爍體像素陣列,包含:
多個閃爍像素,這些閃爍像素形成一個陣列,該陣列具有一個高能量端、一個光出射端、一個軸向中心以及一個徑向外緣;
多個隔片,這些隔片以層形式置于該陣列中,使得在相鄰的閃爍像素之間有一個隔片;并且
這些隔片的至少一個物理參數從鄰近該陣列的軸向中心的隔片的層至鄰近該陣列的徑向外緣的隔片的層隨著隔片的每一層而變化。
3.根據權利要求1或2所述的陣列,其中,這些隔片的至少一個參數從該軸向中心至該徑向外緣增加。
4.根據權利要求1或2所述的陣列,其中,這些隔片的至少一個參數是這些隔片的密度。
5.根據權利要求1或2所述的陣列,其中,這些隔片的至少一個參數是這些隔片的原子序數。
6.根據權利要求1或2所述的陣列,其中,這些隔片包含多種材料。
7.根據權利要求1或2所述的陣列,其中,這些隔片包含由至少兩種不同材料形成的至少四個層。
8.根據權利要求1或2所述的陣列,其中,這些隔片的每一個具有一個相對于該軸向中心的徑向厚度,并且這些隔片的至少一個參數是這些隔片的徑向厚度。
9.根據權利要求1或2所述的陣列,其中,這些隔片具有一個近似于這些成像像素之一的徑向厚度的十分之一的平均徑向厚度。
10.根據權利要求1或2所述的陣列,其中,這些隔片包含選自由聚四氟乙烯(PTFE)、鋁、銅、鎢、環氧樹脂、硅橡膠、聚酯、聚乙烯、介電聚合物薄膜、銀、金、鉭和鉛組成的組中的至少兩種不同材料。
11.根據權利要求1或2所述的陣列,其中,至少一些隔片被涂成白色以提高反射率。
12.根據權利要求1或2所述的陣列,其中,至少一些隔片是通過粉末形成的。
13.根據權利要求12所述的陣列,其中,該粉末位于相鄰像素之間的一個空間中并在其中具有一個體積填充因子,并且該粉末的密度基于該體積填充因子是可調的。
14.根據權利要求13所述的陣列,其中,該粉末包含均勻大小的顆粒。
15.根據權利要求13所述的陣列,其中,該粉末包含均勻大小的顆粒和相對更小的顆粒以增加該體積填充因子。
16.根據權利要求12所述的陣列,其中,該粉末具有一個有效原子數,該有效原子數通過以不同比例將不同粉末混合在一起而是可調的。
17.根據權利要求13所述的陣列,其中,該粉末被混合至環氧樹脂、油漆或樹脂中。
18.根據權利要求1或2所述的陣列,其中,改變這些隔片的所述至少一個參數減少了這些隔片之間的雜散能量透射并且改進了該光出射端處的圖像。
19.根據權利要求1或2所述的陣列,其中,這些隔片的至少一個物理參數從該軸向中心至該徑向外緣單調增加。
20.根據權利要求1或2所述的陣列,其中,這些隔片包含多個以正交模式配置的材料。
21.根據權利要求1或2所述的陣列,其中,這些隔片包括至少四個層,每個層由一種不同類型的材料形成。
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