[發明專利]用于UV處理、化學處理及沉積的設備與方法

在審

• 申請號: 201280017230.8
• 申請日: 2012-04-05
• 公開（公告）號: CN103493185A
• 公開（公告）日: 2014-01-01
• 發明（設計）人: A·班塞爾;D·R·杜鮑斯;J·C·羅查-阿爾瓦雷斯;S·巴錄佳;S·A·亨德里克森;T·諾瓦克
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: H01L21/31
• 分類號: H01L21/31
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 侯穎媖

1.一種處理腔室，包含：

腔室主體，所述腔室主體界定內部空間；

基板支撐件，所述基板支撐件設置在所述內部空間中；

可透過UV光的氣體分配噴頭，所述可透過UV光的氣體分配噴頭設置在所述基板支撐件上方；

可透過UV光的窗口，所述可透過UV光的窗口設置在所述可透過UV光的氣體分配噴頭上方，其中在所述可透過UV光的氣體分配噴頭與所述可透過UV光的窗口之間形成氣體空間，并且所述氣體空間與所述內部空間透過所述可透過UV光的氣體分配噴頭而流體連通；及

UV單元，所述UV單元設置在所述可透過UV光的窗口外面，其中所述UV單元配置為將UV光朝向所述基板支撐件而引導通過所述可透過UV光的窗口與所述可透過UV光的氣體分配噴頭。

2.如權利要求1所述的處理腔室，其特征在于，所述可透過UV光的氣體分配噴頭包含：

主體，所述主體由基本上可透過UV光的材料形成；及

涂層，所述涂層配置為保護所述主體，而使所述主體免于暴露于流動通過所述可透過UV光的氣體分配噴頭的處理氣體。

3.如權利要求2所述的處理腔室，其特征在于，所述主體由石英形成。

4.如權利要求3所述的處理腔室，其特征在于，所述涂層包含氧氮化鋁膜或藍寶石。

5.如權利要求1所述的處理腔室，其特征在于，所述可透過UV光的窗口包含：

主體，所述主體由石英形成；及

涂層，所述涂層配置為保護所述主體，而使所述主體免于暴露于所述氣體空間中的處理氣體。

6.如權利要求1所述的處理腔室，其特征在于，所述處理腔室還包含：

夾持構件，所述夾持構件設置在所述腔室主體的上開口中，其中所述夾持構件設置在所述可透過UV光的氣體分配噴頭與所述可透過UV光的窗口之間，并且在所述夾持構件內形成氣體流動路徑。

7.如權利要求6所述的處理腔室，其特征在于，所述夾持構件具有：

環形主體；

凸緣，所述凸緣從所述環形主體的上部徑向地向外延伸，其中所述凸緣耦接到所述腔室主體；及

臺階，所述臺階從所述環形主體的下部徑向地向內延伸，其中所述可透過UV光的氣體分配噴頭設置在所述臺階的頂表面上。

8.如權利要求7所述的處理腔室，其特征在于，所述氣體流動路徑包括：

水平槽，所述水平槽被形成在所述凸緣中，其中所述水平槽在所述凸緣的外表面處開放；

垂直槽，所述垂直槽被形成在所述環形主體中，其中所述垂直槽在上端處連接到所述水平槽；

充氣增壓室，所述充氣增壓室被形成在所述環形主體的所述下部中，其中所述垂直槽的下端向所述充氣增壓室開放；及

多個輻狀孔，所述多個輻狀孔被形成通過所述臺階，其中所述多個輻狀孔中的每一個都具有向所述充氣增壓室開放的第一端和向所述臺階的內表面開放的第二端。

9.如權利要求7所述的處理腔室，其特征在于，所述處理腔室還包含：

輸入岐管，所述輸入岐管耦接到所述夾持構件，其中所述輸入岐管的出口連接到形成在所述夾持構件中的所述氣體流動路徑；

遠程等離子體源，所述遠程等離子體源連接到所述輸入岐管；及

氣體板，所述氣體板連接到所述輸入岐管。

10.一種處理系統，包含：

傳送腔室，所述傳送腔室界定傳送空間；

基板傳送機械手，所述基板傳送機械手設置在所述傳送空間中；及

雙空間處理腔室，所述雙空間處理腔室耦接到所述傳送腔室，其中所述雙空間處理腔室包含：

根據權利要求1－9中任一項所述的第一處理腔室；和

根據權利要求1－9中任一項所述的第二處理腔室。

11.如權利要求10所述的系統，其特征在于，所述第一處理腔室和第二處理腔室中的流動路徑是彼此的鏡像。