[發明專利]處理裝置

有效

• 申請號: 201280017059.0
• 申請日: 2012-03-27
• 公開（公告）號: CN103547314A
• 公開（公告）日: 2014-01-29
• 發明（設計）人: J·肯尼迪;J·于
• 申請（專利權）人: 賽諾龍美容有限公司
• 主分類號: A61N5/06
• 分類號: A61N5/06
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 邵偉

1.一種皮膚處理裝置，包括：

殼體，其包含用于發射電磁輻射的至少一個光源，所述電磁輻射具有用于處理一種或多種皮膚狀況的所需特性；

置于所述殼體的一端部處的皮膚接觸面，所述皮膚接觸面適于將從所述至少一個光源發射的電磁輻射傳遞至使用者的皮膚；

振動器，其直接或間接地接觸所述殼體的另一端部，所述振動器適于使皮膚接觸面振動；以及

用于控制光源和振動器運行的控制組件。

2.根據權利要求1所述的裝置，其中所述皮膚接觸面包括適于拉伸使用者皮膚的一部分的一個或多個結構。

3.根據權利要求1所述的裝置，其中所述皮膚接觸面包括適于包圍使用者的皮膚上的一個或多個皮膚結構的一個或多個結構。

4.根據權利要求1所述的裝置，其中所述至少一個光源和所述振動器沿從殼體的一端部延伸至另一端部的軸線對齊。

5.根據權利要求4所述的裝置，其中還包括外殼，所述外殼容納沿著所述軸線與光源和振動器對齊的電路構件以及將所述電路構件軸向地彼此壓靠以防止這些構件在擾動情形下錯位的偏壓件。

6.根據權利要求1所述的裝置，其中所述殼體用于將從至少一個光源產生的熱量傳遞至皮膚接觸面和使用者的皮膚。

7.根據權利要求1所述的裝置，其中所述電磁輻射在400-1500nm的范圍內。

8.根據權利要求1所述的裝置，其中所述電磁輻射在用于處理粉刺的400-450nm的范圍內。

9.根據權利要求1所述的裝置，其中所述電磁輻射在400-1500nm的范圍內。

10.根據權利要求1所述的裝置，其中用于處理的輸出能量在5-15J/cm²的范圍內。

11.根據權利要求1所述的裝置，其中用于處理的輸出能量在用于粉刺的4-8J/cm²的范圍內。

12.一種皮膚處理裝置，包括：

主體，所述主體在一端部處具有處理頭部和在另一端部處具有施配器頭部；

所述處理頭部包括用于發射電磁輻射的至少一個光源，所述電磁輻射具有用于處理一種或多種皮膚狀況的所需特性；

所述施配器頭部包括用于施配用于處理一種或多種皮膚狀況的所需物質的施配組件；以及

用于控制光源運行的控制組件。

13.根據權利要求12所述的裝置，其中所述處理頭部還包括適于將振動施加于使用者的皮膚的振動器。

14.根據權利要求12所述的裝置，其中所述處理頭部還包括用于將從至少一個光源產生的熱量傳遞至皮膚接觸面和使用者的皮膚的殼體。

15.一種用于皮膚處理裝置的處理頭部，所述處理頭部包括：

殼體，其包含用于發射電磁輻射的至少一個光源，所述電磁輻射具有用于處理一種或多種皮膚狀況的所需特性；

置于所述殼體的一端部處的皮膚接觸面，所述皮膚接觸面適于將從所述至少一個光源發射的電磁輻射傳遞至使用者的皮膚；以及

振動器，其直接或間接地接觸所述殼體的另一端部，所述振動器適于使所述皮膚接觸面振動。

16.根據權利要求15所述的處理頭部，其中所述皮膚接觸面包括適于拉伸使用者皮膚的一部分的一個或多個結構。

17.根據權利要求15所述的處理頭部，其中所述皮膚接觸面包括適于包圍使用者的皮膚上的一個或多個皮膚結構的一個或多個結構。

18.根據權利要求16所述的處理頭部，其中所述結構包括至少一個凸起。

19.根據權利要求16所述的處理頭部，其中所述結構包括至少一個凹陷。

20.根據權利要求15所述的處理頭部，其中所述殼體用于將從至少一個光源產生的熱量傳遞至皮膚接觸面和使用者的皮膚。

21.根據權利要求15所述的處理頭部，其中所述皮膚接觸面至少部分地由所述殼體形成。

22.根據權利要求15所述的處理頭部，其中所述皮膚接觸面包括置于所述殼體的一端部處的面板。

23.根據權利要求22所述的處理頭部，其中所述面板可移除地置于所述殼體的所述一端部處。