[發(fā)明專利]樹脂組合物和半導(dǎo)體元件基板無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201280014810.1 | 申請日: | 2012-03-29 |
| 公開(公告)號: | CN103443707A | 公開(公告)日: | 2013-12-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 田口和典 | 申請(專利權(quán))人: | 日本瑞翁株式會社 |
| 主分類號: | G03F7/023 | 分類號: | G03F7/023;G03F7/004;G03F7/075 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 張濤;張平元 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 樹脂 組合 半導(dǎo)體 元件 | ||
1.一種樹脂組合物,其含有粘合劑樹脂(A)、硅烷改性樹脂(B)以及具有酸性基團(tuán)或熱潛伏性酸性基團(tuán)的化合物(C),其中,
所述硅烷改性樹脂(B)和所述具有酸性基團(tuán)或熱潛伏性酸性基團(tuán)的化合物(C)的比例以重量比計為“硅烷改性樹脂(B)/具有酸性基團(tuán)或熱潛伏性酸性基團(tuán)的化合物(C)”=0.5~20。
2.如權(quán)利要求1所述的樹脂組合物,其中,
所述硅烷改性樹脂(B)是選自聚酯、聚酰胺、聚酰亞胺、聚酰胺酸、環(huán)氧樹脂、丙烯酸樹脂、聚氨酯樹脂和酚醛樹脂中的至少一種高分子材料與硅化合物進(jìn)行化學(xué)鍵合而得到的化合物。
3.如權(quán)利要求2所述的樹脂組合物,其中,
所述硅化合物是下述式所示的硅化合物和/或下述式所示的硅化合物的部分水解縮合物,
(R8)r-Si-(OR9)4-r
上述式中,r為0~3的整數(shù),R8為可以具有與碳原子直接鍵合的官能團(tuán)的碳原子數(shù)1~10的烷基、碳原子數(shù)6~20的芳基或碳原子數(shù)2~10的不飽和脂肪族基,R8為多個時,多個R8各自相同或不同,R9為氫原子或可以具有與碳原子直接鍵合的官能團(tuán)的碳原子數(shù)1~10的烷基,R9為多個時,多個R9各自相同或不同。
4.如權(quán)利要求1~3中任一項所述的樹脂組合物,其中,
所述硅烷改性樹脂(B)的含有比例相對于所述粘合劑樹脂(A)100重量份為1~100重量份。
5.如權(quán)利要求1~4中任一項所述的樹脂組合物,其中,
所述粘合劑樹脂(A)為具有質(zhì)子性極性基團(tuán)的環(huán)狀烯烴聚合物或丙烯酸樹脂。
6.如權(quán)利要求1~5中任一項所述的樹脂組合物,其還含有放射線敏感性化合物(D)。
7.如權(quán)利要求1~6中任一項所述的樹脂組合物,其還含有交聯(lián)劑(E)。
8.一種半導(dǎo)體元件基板,其具備由權(quán)利要求1~7中任一項所述的樹脂組合物形成的樹脂膜。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備





