[發明專利]正型平版印刷版原版及其制版方法無效
| 申請號: | 201280014086.2 | 申請日: | 2012-02-16 |
| 公開(公告)號: | CN103430098A | 公開(公告)日: | 2013-12-04 |
| 發明(設計)人: | 宮本靖 | 申請(專利權)人: | 伊斯曼柯達公司 |
| 主分類號: | G03F7/004 | 分類號: | G03F7/004;G03F7/00 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 盧曼;李炳愛 |
| 地址: | 美國*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 平版印刷 原版 及其 制版 方法 | ||
技術領域
本發明涉及一種平版印刷版原版及其制版方法,特別涉及紅外線敏感性或熱敏性的平版印刷版原版、特別是正型平版印刷版原版,該平版印刷版原版可用作能基于數字信號從固體激光器或半導體激光器照射紅外線來直接形成圖像的所謂CTP(計算機直接制版(computer?to?plate))版。
背景技術
以往,作為平版印刷版原版,已知具有感光性圖像形成層的平版印刷版原版(PS版)。PS版基本上有負型版和正型版兩種。負型版如果在曝光時使用負片進行曝光、顯影,則未曝光部的圖像形成層被除去,通過曝光而不溶化的部分作為圖像殘留下來。正型版如果在曝光時使用正片進行曝光、顯影,則通過曝光而可溶化的曝光部的圖像形成層被除去,未曝光部分作為圖像殘留下來。
隨著計算機圖像處理技術的進步,CTP系統正受到關注,該CTP系統在不通過膜進行圖像形成的情況下,通過與數字信號相對應的光照射在圖像形成層上直接寫入圖像。使用在近紅外或紅外區域內具有最大強度的高功率激光器作為光照射的光源的CTP系統具有能通過短時間的曝光得到高分辨率的圖像、該系統中使用的平版印刷版原版能在明室中操作等優點。
一般來說,正型平版印刷版原版中,通過顯影處理,圖像形成層的曝光部被除去,鋁基板露出。為了容易地判別是否形成了圖像(賦予反差),通常在圖像形成層中添加著色劑。但是,對于經過曝光、顯影的正型平版印刷版,如果為了提高印版耐印力而在隨后進行高溫加熱處理(也稱為烤版(baking)或制版(burning)),則有時添加的著色劑因熱而褪色,圖像濃度下降,圖像反差(image?contrast)變差。
圖像形成層含有酚醛清漆樹脂等具有酚羥基的樹脂的情況下,通過烤版,酚醛清漆樹脂本身的顏色發生變化,因此不易發生圖像反差下降的問題,但使用不具有酚羥基的樹脂的情況下,這種樹脂不會通過烤版而發生顏色變化,因此必須在圖像形成層中添加著色劑。
形成于鋁基板上的圖像的濃度下降問題會導致多色印刷中作為套準的記號的標記線(トンボ)(規矩線(register?mark))的濃度下降,對印刷作業產生障礙。因此,要求即使在烤版后也能提供良好的圖像反差的著色劑。
發明內容
發明所要解決的課題
本發明的目的是提供即使在烤版后也具有良好的圖像反差的CTP正型平版印刷版原版。
用于解決課題的手段
本發明人進行了認真研究,結果發現,通過在正型平版印刷版原版的圖像形成層中添加酸性染料作為著色劑,能達到上述目的,從而完成了本發明。
本發明提供一種正型平版印刷版原版,其是在基板上具有含有水不溶性且堿可溶性樹脂及光熱轉換材料的圖像形成層而成的正型平版印刷版原版,其特征在于,
所述圖像形成層含有酸性染料作為著色劑。
此外,本發明提供一種正型平版印刷版原版,其是在基板上具有由含有水不溶性且堿可溶性樹脂的下層及含有水不溶性且堿可溶性樹脂的上層構成的圖像形成層、所述下層和/或所述上層中具有光熱轉換材料而成的正型平版印刷版原版,其特征在于,
所述下層和/或所述上層含有酸性染料作為著色劑。
本發明還提供一種正型平版印刷版原版的制版方法,其包括對上述本發明的正型平版印刷版原版進行成像曝光、將曝光后的版用顯影液顯影、然后進行烤版的步驟。
發明的效果
本發明的正型平版印刷版原版即使在烤版后也具有良好的圖像反差。特別是在使用不具有酚羥基的樹脂的正型平版印刷版原版中,提供良好的圖像反差。
具體實施方式
本發明的正型平版印刷版原版中,為了在顯影時和印刷中使圖像部可見化,必須使用酸性染料作為圖像形成層的著色劑。本說明書中所用的“酸性染料”是指含有酸性基團的色酸的鹽,是指溶于水中而帶負電的染料。酸性基團可例舉磺酸基或羧基等。本發明的正型平版印刷版原版中作為著色劑使用的酸性染料與以下記載的“光熱轉換材料”不同,是實質上不具有將電磁波轉換成熱能的作用的酸性染料。
作為能用于將本發明的正型平版印刷版原版著色的酸性染料,可使用“染料便覽”(有機合成化學協會編輯、昭和45年刊)的p.393~526的酸性染料的項目中記載的公知的酸性染料。本發明的酸性染料可例舉例如具有呫噸系、靛系、三苯甲烷系、蒽醌系、偶氮系、花青系、酞菁系結構的酸性染料。
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