[發(fā)明專利]蒸鍍顆粒射出裝置和蒸鍍裝置以及蒸鍍方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201280012934.6
• 申請日: 2012-03-07
• 公開（公告）號: CN103415645A
• 公開（公告）日: 2013-11-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 井上智;川戶伸一;園田通
• 申請（專利權(quán)）人: 夏普株式會(huì)社
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;H01L51/50;H05B33/10
• 代理公司: 北京尚誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

1.一種蒸鍍顆粒射出裝置，其具備對蒸鍍材料進(jìn)行加熱而產(chǎn)生氣態(tài)的蒸鍍顆粒的蒸鍍顆粒產(chǎn)生部，對蒸鍍材料進(jìn)行加熱而形成氣態(tài)的蒸鍍顆粒，將該氣態(tài)的蒸鍍顆粒向外部射出，

所述蒸鍍顆粒射出裝置的特征在于，包括：

中空的旋轉(zhuǎn)體，該旋轉(zhuǎn)體至少設(shè)置有一組在所述貫通口的開口方向上相對且對稱地設(shè)置的成對的噴嘴部，該成對的噴嘴部各自具有使所述蒸鍍顆粒射出的多個(gè)貫通口；

旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，其使所述旋轉(zhuǎn)體旋轉(zhuǎn)，將所述成對的噴嘴部的配置調(diào)換；和

與各噴嘴部對應(yīng)地設(shè)置的多個(gè)溫度調(diào)整部件，

設(shè)置于所述旋轉(zhuǎn)體的噴嘴部中的一個(gè)噴嘴部由所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)保持為面向外部，

面向外部的噴嘴部由對應(yīng)的溫度調(diào)整部件冷卻至比蒸鍍材料成為氣體的溫度低的溫度，

與面向外部的噴嘴部成對的噴嘴部，由對應(yīng)的溫度調(diào)整部件加熱至蒸鍍材料成為氣體的溫度以上的溫度，

當(dāng)通過所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)使所述旋轉(zhuǎn)體旋轉(zhuǎn)時(shí)，所述各溫度調(diào)整部件根據(jù)所述各噴嘴部的配置，切換所述冷卻和加熱。

2.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍顆粒射出裝置，其特征在于：

在所述旋轉(zhuǎn)體設(shè)置有多組所述成對的噴嘴部，

各組噴嘴部以所述旋轉(zhuǎn)體的旋轉(zhuǎn)軸為中心在旋轉(zhuǎn)方向上隔開規(guī)定的間隔設(shè)置。

3.如權(quán)利要求1或2所述的蒸鍍顆粒射出裝置，其特征在于：

成對的各噴嘴部分別包括在所述貫通口的開口方向上隔開規(guī)定的間隔設(shè)置的多級噴嘴部。

4.如權(quán)利要求3所述的蒸鍍顆粒射出裝置，其特征在于：

所述多級噴嘴部被控制成：越是面向外部的噴嘴部，溫度越低。

5.如權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的蒸鍍顆粒射出裝置，其特征在于：

與面向外部的噴嘴部成對的噴嘴部由對應(yīng)的溫度調(diào)整部件加熱至蒸鍍材料成為氣體的溫度以上且比所述蒸鍍顆粒產(chǎn)生部的溫度低的溫度。

6.如權(quán)利要求1～5中任一項(xiàng)所述的蒸鍍顆粒射出裝置，其特征在于：

還包括參數(shù)檢測部，該參數(shù)檢測部檢測用于判斷將所述成對的噴嘴部的配置調(diào)換的時(shí)機(jī)的參數(shù)，

所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)根據(jù)從所述參數(shù)檢測部輸送的信號，在由所述參數(shù)檢測部檢測到的參數(shù)達(dá)到預(yù)先設(shè)定的條件時(shí)，將所述成對的噴嘴部的配置調(diào)換。

7.如權(quán)利要求6所述的蒸鍍顆粒射出裝置，其特征在于：

所述參數(shù)檢測部為包括攝像部和運(yùn)算部的圖像傳感器，其中，該運(yùn)算部對從該攝像部輸送的圖像進(jìn)行解析，計(jì)算附著在面向外部的噴嘴部的附著物在該面向外部的噴嘴部的開口面積中所占的比例，

所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)在由所述運(yùn)算部計(jì)算出的所述比例達(dá)到預(yù)先設(shè)定的閾值時(shí)，將所述成對的噴嘴部的配置調(diào)換。

8.如權(quán)利要求6所述的蒸鍍顆粒射出裝置，其特征在于：

所述參數(shù)檢測部包括定時(shí)部和運(yùn)算部，該定時(shí)部計(jì)量該蒸鍍顆粒射出裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)間，該運(yùn)算部對由該定時(shí)部所計(jì)量的運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)間進(jìn)行累計(jì)，

所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)在由所述運(yùn)算部計(jì)算出的累計(jì)運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)間達(dá)到指定時(shí)間時(shí)，將所述成對的噴嘴部的配置調(diào)換。

9.如權(quán)利要求6所述的蒸鍍顆粒射出裝置，其特征在于：

所述參數(shù)檢測部為對利用所射出的蒸鍍顆粒成膜的成膜次數(shù)進(jìn)行計(jì)數(shù)的計(jì)數(shù)器，

所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)在由所述計(jì)時(shí)器計(jì)數(shù)得到的成膜次數(shù)達(dá)到指定成膜次數(shù)時(shí)，將所述成對的噴嘴部的配置調(diào)換。

10.如權(quán)利要求6所述的蒸鍍顆粒射出裝置，其特征在于：

所述參數(shù)檢測部包括：對附著在面向外部的噴嘴部的附著物照射光的光照射單元；檢測對所述附著物照射光而得到的反射光的反射強(qiáng)度或光譜的檢測部；和根據(jù)由所述檢測部檢測到的反射光的反射強(qiáng)度或光譜計(jì)算附著物的附著量的運(yùn)算部，

所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)在所述附著量達(dá)到預(yù)先設(shè)定的閾值時(shí)，將所述成對的噴嘴部的配置調(diào)換。