[發(fā)明專利]圖案形成方法、感光化射線性或感放射線性樹脂組成物及抗蝕劑膜

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201280010692.7
• 申請日: 2012-02-24
• 公開（公告）號: CN103562795A
• 公開（公告）日: 2014-02-05
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 高橋秀知;山口修平;片岡祥平;白川三千纮;吉野文博;齊藤翔一
• 申請（專利權(quán)）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: G03F7/038
• 分類號: G03F7/038;G03F7/004;G03F7/039;G03F7/32
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205
• 代理人: 臧建明

1.一種圖案形成方法，包括：

(i)藉由感光化射線性或感放射線性樹脂組成物形成膜的步驟，所述感光化射線性或感放射線性樹脂組成物含有(P)具有(a)由下式(I)表示的重復(fù)單元的樹脂，以及(B)能夠在用光化射線或放射線照射后產(chǎn)生有機(jī)酸的化合物，

(ii)使所述膜曝光的步驟，以及

(iii)藉由使用含有機(jī)溶劑的顯影劑使所述膜顯影以形成負(fù)型圖案的步驟：

其中R₀表示氫原子或甲基，且

R₁、R₂及R₃各獨(dú)立地表示直鏈或分支鏈烷基。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖案形成方法，其中所述含有機(jī)溶劑的顯影劑中所述有機(jī)溶劑的含量以所述顯影劑的總量計為90質(zhì)量％至100質(zhì)量％。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的圖案形成方法，其中所述樹脂(P)為含有以所述樹脂(P)中所有重復(fù)單元計45摩爾％或大于45摩爾％的量的所述重復(fù)單元(a)的樹脂。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的圖案形成方法，其中R₁、R₂及R₃的所述直鏈或分支鏈烷基為碳數(shù)為1至4的烷基。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的圖案形成方法，其中所述化合物(B)為能夠產(chǎn)生由以下式(II)或(III)表示的有機(jī)酸的化合物：

其中各Xf獨(dú)立地表示氟原子或經(jīng)至少一個氟原子取代的烷基，

R₁及R₂各獨(dú)立地表示氫原子、氟原子或烷基，

各L獨(dú)立地表示二價鍵聯(lián)基團(tuán)，

Cy表示環(huán)狀有機(jī)基團(tuán)，

Rf表示含氟原子的基團(tuán)，

x表示1至20的整數(shù)，

y表示0至10的整數(shù)，且

z表示0至10的整數(shù)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的圖案形成方法，其中所述感光化射線性或感放射線性樹脂組成物還含有(C)在用光化射線或放射線照射后堿性降低的堿性化合物或銨鹽化合物。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的圖案形成方法，其中所述感光化射線性或感放射線性樹脂組成物還含有至少具有氟原子或硅原子的疏水性樹脂。

8.根據(jù)權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的圖案形成方法，其中所述樹脂(P)的重量平均分子量為14,000或大于14,000。

9.根據(jù)權(quán)利要求1-8中任一項(xiàng)所述的圖案形成方法，其中所述樹脂(P)為含有以所述樹脂(P)中所有重復(fù)單元計50摩爾％或大于50摩爾％的量的所述重復(fù)單元(a)的樹脂。

10.根據(jù)權(quán)利要求1-9中任一項(xiàng)所述的圖案形成方法，其中所述樹脂(P)為含有以所述樹脂(P)中的所有重復(fù)單元計55摩爾％或大于55摩爾％的量的所述重復(fù)單元(a)的樹脂。

11.根據(jù)權(quán)利要求1-10中任一項(xiàng)所述的圖案形成方法，其中所述樹脂(P)為具有脂環(huán)族烴結(jié)構(gòu)的樹脂。

12.根據(jù)權(quán)利要求1-11中任一項(xiàng)所述的圖案形成方法，其中所述顯影劑為含有至少一種由基于酮的溶劑、基于酯的溶劑、基于醇的溶劑、基于酰胺的溶劑及基于醚的溶劑組成的族群中選出的有機(jī)溶劑的顯影劑。

13.根據(jù)權(quán)利要求1-12中任一項(xiàng)所述的圖案形成方法，還包括：

(iv)用含有機(jī)溶劑的沖洗溶液沖洗所述膜的步驟。

14.一種感光化射線性或感放射線性樹脂組成物，其用于如權(quán)利要求5-11中任一項(xiàng)所述的圖案形成方法中。

15.一種抗蝕劑膜，其由如權(quán)利要求14所述的感光化射線性或感放射線性樹脂組成物形成。