[發明專利]具有先進的冷卻通道的等離子切割噴嘴

有效

• 申請號: 201280010559.1
• 申請日: 2012-02-28
• 公開（公告）號: CN103404237A
• 公開（公告）日: 2013-11-20
• 發明（設計）人: C·J·孔韋;D·巴內特;N·胡薩里
• 申請（專利權）人: 熱動力公司
• 主分類號: H05H1/28
• 分類號: H05H1/28
• 代理公司: 北京戈程知識產權代理有限公司 11314
• 代理人: 程偉;王錦陽

1.一種用于等離子體電弧焊炬的噴嘴，包括：

近側部分，所述近側部分適合于連接至所述等離子電弧焊炬的相鄰的陽極構件，所述近側部分限定用于使冷卻流體進入所述噴嘴的第一組流體通道和用于使所述冷卻流體從所述噴嘴排出的第二組流體通道；

錐形的遠側部分，所述錐形的遠側部分從所述近側部分延伸至所述噴嘴的排出孔口，所述錐形的遠端部分限定與所述第一組流體通道和所述第二組流體通道流體連通的內部腔，其中所述內部腔被配置成限定圍繞排出孔口的基部。

2.根據權利要求1所述的噴嘴，其中所述噴嘴包括兩段式結構。

3.根據權利要求1所述的噴嘴，其中所述錐形的遠側部分包括從所述近側部分向遠側延伸的內部錐形壁和與所述內部錐形壁相對并且圍繞所述內部錐形壁的外部錐形壁，所述內部腔限定在所述內部錐形壁和所述外部錐形壁之間。

4.根據權利要求3所述的噴嘴，其中所述錐形的遠側部分進一步包括從所述內部錐形壁向遠側延伸并且限定所述排出孔口的孔口部分。

5.根據權利要求1所述的噴嘴，其中所述錐形的遠側部分進一步包括孔口部分，所述孔口部分包括杯形體和設置在所述杯形體的中央處的突起部。

6.根據權利要求5所述的噴嘴，其中所述排出孔口限定在所述突起部中。

7.根據權利要求5所述的噴嘴，其中所述杯形體包括圍繞所述突起部并限定所述內部腔的基部的外圍底面。

8.根據權利要求1所述的噴嘴，其中所述近側部分包括限定所述第一組流體通道的第一凸緣和限定所述第二組流體通道的第二凸緣。

9.根據權利要求8所述的噴嘴，其中所述第一凸緣限定多個切口部分以形成所述第一組流體通道，以及所述第二凸緣限定多個切口部分以形成所述第二組流體通道。

10.根據權利要求9所述的噴嘴，其中所述第一組流體通道和所述第二組流體通道是交替排列的。

11.根據權利要求1所述的噴嘴，其中所述噴嘴具有三段式結構并且包括中央構件、中間構件以及外部構件，所述中間構件圍繞所述中央構件以在所述中央構件與所述中間構件之間限定第一內部腔，所述外部構件圍繞所述中間構件以在中間構件與外部構件之間限定第二內部腔。

12.根據權利要求11所述的噴嘴，其中所述第一內部腔和所述第二內部腔中的每一個限定圍繞并且毗鄰所述排出孔口的基部。

13.一種用于等離子體電弧焊炬的噴嘴，包括：

中央構件，所述中央構件適合于連接至所述等離子電弧焊炬的相鄰的陽極構件，所述中央構件限定排出孔口和用于使冷卻流體進入所述噴嘴的第一流體通道；以及

外部構件，所述外部構件圍繞所述中央構件設置并限定用于使冷卻流體從所述噴嘴排出的第二流體通道。

14.根據權利要求13所述的噴嘴，其中所述中央構件限定近側部分和錐形的遠端部分，所述外部構件圍繞所述錐形的遠端部分。

15.根據權利要求14所述的噴嘴，其中所述錐形的遠端部分包括外周壁部段、限定內周壁部段的外部構件、在所述外周壁部段和所述內周壁部段之間被限定的內部腔。

16.根據權利要求15所述的噴嘴，其中所述內部腔與所述第一流體通道和所述第二流體通道流體連通。

17.根據權利要求15所述的噴嘴，其中所述內部腔限定圍繞所述排出孔口的基部。

18.根據權利要求13所述的噴嘴，其中所述中央構件包括限定所述第一流體通道的第一凸緣。

19.根據權利要求13所述的噴嘴，其中所述外部構件包括限定所述第二流體通道的第二凸緣。

20.根據權利要求13所述的噴嘴，其中所述中央構件包括第一凸緣，以及所述外部構件包括與所述第一凸緣接觸的第二凸緣，所述第一凸緣和所述第二凸緣共同限定所述第一流體通道和所述第二流體通道。

21.根據權利要求20所述的噴嘴，其中所述第一凸緣限定至少一個切口部分以形成所述第一流體通道，以及所述第二凸緣限定至少一個切口部分以形成所述第二流體通道。