[發明專利]用作自清潔材料的復合物品有效
| 申請號: | 201280010028.2 | 申請日: | 2012-03-04 |
| 公開(公告)號: | CN103402764A | 公開(公告)日: | 2013-11-20 |
| 發明(設計)人: | K·M·薩林;J·R·格萊諾;M·P·卡斯曼;R·C·霍布斯;J·M·麥克馬丁 | 申請(專利權)人: | 美國圣戈班性能塑料公司 |
| 主分類號: | B32B27/08 | 分類號: | B32B27/08;B32B27/18;B32B7/12 |
| 代理公司: | 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287 | 代理人: | 林彥 |
| 地址: | 美國俄*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用作 清潔 材料 復合 物品 | ||
背景技術
以下內容涉及復合物品,特別是結合了用于自清潔材料的光催化材料的復合物品。
技術領域
建筑和工藝材料被用于不同環境中用于不同的目的,包括例如大型建筑物、體育館、運動場、多功能廳、工藝組件,包括例如封閉的通信設備。在許多情況下,這些材料必須能夠承受惡劣的環境條件(陽光、大雨、冰、揚沙、極端溫度、大風等)的影響。許多這些材料的織物涂覆有一種材料,該材料具有抵抗環境要素、保持物理特性(包括強度和相互粘著)、或以其他方式使該材料更具功能性地持續更長時間的目的。
總體而言,這些涂覆材料結合了一個氟聚合物層作為防止有害物質的屏障,并且提高了有害物質的釋放以防沉積在下面的材料上,這些有害物質可能損害在下面的材料的完整性和可用性。具有疏水表面的材料防止了雨水覆蓋在材料上,允許其形成珠狀并很容易流掉。復合材料表面上的水降低了該復合材料的RF透射能力。污垢和其他空氣中的/風吹的微粒的積累會降低平坦氟聚合物表面流走水的能力。RF應用中使用的非-氟聚合物材料要求定期清洗和刷漆以維護其表面,并且該維護通常每年做一次。
然而,該行業繼續要求用于與不同建筑和工藝材料一起使用的改進的材料。
發明概述
根據一個方面,一種復合物品包括一個芯層、以及一個覆蓋該芯層的上層,其中該上層具有一種全氟烷氧基聚合物(PFA)和一種光催化材料(PM),并且其中該上層與傳統光反應性復合材料相比,在該上層的外表面處具有每單位面積濃度大出至少約2%的PM。
根據另一個方面,一種復合物品包括一個芯層與一個覆蓋該芯層的上層。該上層具有一種全氟烷氧基聚合物(PFA)和一種光催化材料(PM),其中該PM限定了該上層的外表面總面積的至少約25%。
在又另一個方面,一種復合物品包括一個芯層與一個覆蓋該芯層的上層。該上層具有一種全氟烷氧基聚合物(PFA)和一種光催化材料(PM)該PM基本上由二氧化鈦(TiO2)顆粒組成,其中該二氧化鈦顆粒限定了該上層的外表面總面積的至少約25%。
在又另一個方面,一種復合物品包括一個芯層與一個覆蓋該芯層的上層。該上層具有一種氟聚合物材料和一種光催化材料(PM)。此外,該上層相比傳統光反應性復合材料的光反應性,具有至少約2%增加的光反應性。
根據一個方面,一種復合物品包括一個芯層,以及一個覆蓋該芯層的上層,其中該上層具有一種全氟烷氧基聚合物(PFA)和一種光催化材料(PM)。此外,該上層相比傳統光反應性復合材料的光反應性,具有至少約2%增加的光反應性。
對于至少一個方面,一種復合物品包括一個具有多個彼此粘結的膜的芯層,其中該多個膜中的至少一個膜包括一種填充劑。該復合物品還包括一個覆蓋該芯層的上層。此外,該上層相比傳統光反應性復合材料的光反應性,具有至少約2%增加的光反應性。
對于另一方面,一種復合物品包括一個具有多個彼此粘結的膜的芯層,其中該多個膜中的至少一個膜包括一種填充劑。該復合物品還包括一個覆蓋該芯層的上層。該上層包括一種全氟烷氧基聚合物(PFA)和一種光催化材料(PM)。此外,該上層相比傳統光反應性復合材料的光反應性,具有至少約2%增加的光反應性。
根據另一個方面,一種復合結構包括一種基礎結構和一種覆蓋該基礎結構的復合物品,其中該復合物品包括一個芯層和一個覆蓋該芯層的上層。該上層具有一種全氟烷氧基聚合物(PFA)和一種光催化材料(PM)。該PM限定了該上層的上表面總面積的至少約25%。
在又另一個方面,一種發射器/接收器結構包括一個發射器/接收器組件和一個覆蓋該發射器/接收器組件的蓋。該蓋包括一個芯層與一個覆蓋該芯層的上層。該上層具有一種全氟烷氧基聚合物(PFA)和一種光催化材料(PM)。此外,該PM限定了該上層的上表面總面積的至少約25%。
根據又另一個方面,一種發射器/接收器結構包括一個發射器/接收器組件和一個覆蓋該發射器/接收器組件的蓋。該蓋包括一個芯層與一個覆蓋該芯層的上層。該上層具有一種氟聚合物材料和一種光催化材料(PM)。此外,該上層相比傳統光反應性復合材料的光反應性,具有至少約2%增加的光反應性。
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